專利名稱：蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于有機蒸鍍工藝中的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
過去，用作顯示設(shè)備的主要是陰極射線管(CRT)設(shè)備，近幾年，諸如等離子顯示面板(PDP)設(shè)備、液晶顯示(LCD)設(shè)備和有機電致發(fā)光顯示(Organic Light EmittingDisplay,以下簡稱0LED)設(shè)備的平板顯示設(shè)備得到了廣泛研究和使用。在這些平板顯示設(shè)備中，由于OLED設(shè)備與液晶顯示(IXD)設(shè)備不同，為自發(fā)光的且不需要額外光源，所以O(shè)LED設(shè)備具有厚度薄，重量輕，響應(yīng)速度快，視角廣、色彩飽和度高等優(yōu)點并引起了人們廣泛關(guān)注，越來越多的OLED被應(yīng)用于顯示和照明領(lǐng)域。OLED設(shè)備可以分為無源矩陣型OLED (PMOLED)和有源矩陣型OLED (AMOLED)，無論是那種方式，都需要使用蒸鍍掩膜板(shadow mask)。伴隨著超高分辨率的屏幕出現(xiàn)，蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)精度就要求更高，對位系統(tǒng)的精度直接影響到屏幕質(zhì)量，提高對位系統(tǒng)的速度可以縮短產(chǎn)品的出貨時間?，F(xiàn)有的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中，都有兩個圖形:基板上一個圖形，掩膜板上一個圖形。將二者完全中心吻合就證明對位完成，但是這樣會出現(xiàn)一個問題，新的掩膜板到貨后需要進(jìn)行校驗，這種對位方式必然導(dǎo)致檢驗時需要蒸鍍好多片基板，進(jìn)行對位后蒸鍍，取出來校正，再更正坐標(biāo)，再蒸鍍，往復(fù)好多次，這樣既浪費時間，又浪費基板和有機材料。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于 提供一種對位方便的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)。為實現(xiàn)前述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其包括設(shè)置在掩膜板的四個邊角上的第一對位標(biāo)識、設(shè)置在基板上的四個用以分別和第一對位標(biāo)識進(jìn)行相對位的第二對位標(biāo)識、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識是否對齊吻合的四個攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識的可視范圍。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對位標(biāo)識上和第二對位標(biāo)識具有與可視范圍相交的對位標(biāo)識延長線。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述對位標(biāo)識延長線與可視范圍相交形成至少兩個相交點。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，位于掩膜板對角線上的兩個可視范圍內(nèi)的對位標(biāo)識延長線上標(biāo)有刻度。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，相鄰的兩根對位標(biāo)識延長線相位于同一條直線上。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識完全相同。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識均為“十”字形。本發(fā)明通過在掩膜板的四個邊角上設(shè)置對位標(biāo)識，對應(yīng)的基板上也設(shè)置有四個對位標(biāo)識，只要讓掩膜板上的四個對位標(biāo)識和基板上四個的對位標(biāo)識完全吻合，就證明對位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補償，不需要打開腔室進(jìn)行測量重新定位，這樣可以節(jié)省大量的時間，并且可以節(jié)省基板和有機材料。


圖1為現(xiàn)有蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中掩膜板及其對位標(biāo)識的示意圖。圖2為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中掩膜板及其對位標(biāo)識的示意圖。圖3為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中的掩膜板和基板發(fā)生角度偏差時的示意圖。圖4為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中的掩膜板和基板發(fā)生位移偏差時的示意圖。
具體實施例方式請參見圖1所示的一種現(xiàn)有的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)中的掩膜板，該掩膜板的對位系統(tǒng)為設(shè)置在掩膜板I的兩對角上的一對“十”字形對位標(biāo)識11，在使用新的蒸鍍掩膜板時，都要對該掩膜板和基板進(jìn)行初調(diào)，確定各坐標(biāo)的值，這個過程需要幾片到十幾片的薄膜晶體管(Thin FilmTransistor,以下簡稱TFT)基板進(jìn)行對位,并且每次初調(diào)都必須蒸鍍有機材料到TFT基板，然后將基板取出放到顯微鏡下進(jìn)行測試，既浪費時間也浪費材料。本發(fā)明的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)可適用于有機電致發(fā)光器件(Organic LightEmitting Diode，以下簡稱0LED)、有源矩陣有機發(fā)光顯示器(AMOLED)以及有機薄膜晶體管(OTFT)等有機蒸鍍時使用。蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)包括設(shè)置在掩膜板5的四個邊角上的四個“十”字形第一對位 標(biāo)識51，并且對應(yīng)四個第一對位標(biāo)識51上方均安放有四個CCD(charge-coupled device,電荷稱合器件)攝像頭進(jìn)行對位，圖2中的圓形區(qū)域即為CXD攝像頭的可視范圍52，所述第一對位標(biāo)識51沿平行于掩膜板5的四個邊緣延伸形成與可視范圍相交的對位標(biāo)識延長線53，對位標(biāo)識延長線與可視范圍相交形成至少兩個相交點。蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)包括設(shè)置在基板上的四個第二對位標(biāo)識61，只要讓掩膜板5上的四個第一對位標(biāo)識51和基板上的四個第二對位標(biāo)識61完全對齊吻合，就證明其對位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補償，不需要打開腔室進(jìn)行測量重新定位。位于掩膜板5和基板對角線上的兩個可視范圍52內(nèi)的對位標(biāo)識延長線上標(biāo)有刻度，當(dāng)然，所有的對位標(biāo)識延長線53上都可以標(biāo)有刻度。相鄰的兩根對位標(biāo)識延長線相位于同一條直線上。所述第一對位標(biāo)識51和第二對位標(biāo)識61完全相同，可以均為“十”字形。請參見圖3所示，所述CCD鏡頭顯示掩膜板5和基板偏差一定角度，此時，掩膜板5的第一對位標(biāo)識51與基板的第二對位標(biāo)識61之間形成一角度。請參見圖4所示，CXD鏡頭顯示掩膜板5和基板偏差一定位移時，此時，掩膜板5的對位標(biāo)識51與基板的對位標(biāo)識61之間形成一定間距。綜上所述，本發(fā)明通過在掩膜板5的四個邊角上設(shè)置第一對位標(biāo)識51，對應(yīng)的基板上也設(shè)置有四個第二對位標(biāo)識61，只要讓掩膜板5上的四個第一對位標(biāo)識51和基板上四個的第二對位標(biāo)識61完全吻合，就證明對位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補償，不需要打開腔室進(jìn)行測量重新定位，這樣可以節(jié)省大量的時間，并且可以節(jié)省基板和有機材料。
盡管為示例目的，已經(jīng)公開了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將意識到，在不脫離由所附的權(quán)利要求書公開的本發(fā)明的范圍和精神的情況下，各種改進(jìn)、增加以及取代是可 能的。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:其包括設(shè)置在掩膜板的四個邊角上的第一對位標(biāo)識、設(shè)置在基板上的四個用以分別和第一對位標(biāo)識進(jìn)行相對位的第二對位標(biāo)識、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識是否對齊吻合的四個攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識的可視范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對位標(biāo)識上和第二對位標(biāo)識具有與可視范圍相交的對位標(biāo)識延長線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:所述對位標(biāo)識延長線與可視范圍相交形成至少兩個相交點。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:位于掩膜板對角線上的兩個可視范圍內(nèi)的對位標(biāo)識延長線上標(biāo)有刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:相鄰的兩根對位標(biāo)識延長線相位于同一條直線上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識完全相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求 1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識均為“十”字形。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)，其包括設(shè)置在掩膜板的四個邊角上的第一對位標(biāo)識、設(shè)置在基板上的四個用以分別和第一對位標(biāo)識進(jìn)行相對位的第二對位標(biāo)識、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識是否對齊吻合的四個攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識的可視范圍，如此可以節(jié)省對位時間，并且可以節(jié)省基板和有機材料。
文檔編號C23C14/04GK103160775SQ201110417068
公開日2013年6月19日 申請日期2011年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月14日
發(fā)明者敖偉, 邱勇, 陳紅, 黃秀頎, 何麟 申請人:昆山工研院新型平板顯示技術(shù)中心有限公司