專利名稱：一種組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種霧化裝置，特別涉及用于金屬霧化沉積成型的組焊式雙環(huán)流 氣流霧化噴嘴裝置。
背景技術(shù)：
噴射沉積是一種新型的快速凝固技術(shù)，是繼鑄造與粉末冶金技術(shù)之后發(fā)展起來的 一種新型金屬成形技術(shù)，兼具近終形加工和半固態(tài)加工的雙重特點，被廣泛用于研究和開 發(fā)高性能的快速凝固材料。最早由英國的singer教授于七十年代提出，其過程是將熔融態(tài) 的金屬或者合金通過高速的惰性氣體霧化成為顆粒微小的液態(tài)或半固態(tài)顆粒，然后在高速 氣流的帶動下，微小的顆粒直接噴射在較冷的相應(yīng)的接受器上，從而形成對應(yīng)成品。利用噴 射成形技術(shù)可以由鋼液直接制造棒、管、板、盤、環(huán)等坯料，包括形狀不對稱工件。此外，噴射 成形材料不僅沒有傳統(tǒng)鑄錠的內(nèi)部冶金缺陷，而且也不存在堆焊或熱噴涂等液態(tài)表面加工 技術(shù)中不可避免的表面缺陷。噴射沉積過程是一個眾多參數(shù)共同作用的復(fù)雜過程，特別是 金屬霧化沉積成型的氣流霧化噴嘴裝置是最關(guān)鍵的技術(shù)問題之一。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的正是針對上述現(xiàn)有技術(shù)中所存在的不足之處提供一種組焊式 雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置，該氣流霧化噴嘴裝置能保證有效地細(xì)化霧化顆粒，提高金屬收得率。本實用新型的目的可通過下述技術(shù)措施來實現(xiàn)本實用新型的組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置本實用新型的組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置包括環(huán)板形結(jié)構(gòu)的固定板，通過焊 接方法以共軸線方式安裝在固定板中心孔內(nèi)緣口上的橫截面呈倒置的M形結(jié)構(gòu)、并在其中 心位置處加工有倒錐形通孔的噴嘴下體，以及通過焊接方法以共軸線方式扣蓋在噴嘴下體 上的漏斗形結(jié)構(gòu)的噴嘴上體，和以共軸線方式插裝在噴嘴上體錐腔內(nèi)的輸液嘴；其中所述 漏斗形結(jié)構(gòu)噴嘴上體的水平環(huán)緣的直徑等于噴嘴下體的外徑，其位于水平環(huán)緣下方的錐體 部分的錐頂角與噴嘴下體中心位置處加工有倒錐形通孔的錐頂角相等，所述噴嘴上體的錐 體部分底部以環(huán)形間隙配合的方式向下延伸至噴嘴下體中心位置處加工有倒錐形通孔的 下緣口處并與之平齊，該環(huán)形間隙通過環(huán)形格柵被分割成若干個以均布排列方式設(shè)置的噴 嘴孔；在所述噴嘴下體的側(cè)壁上設(shè)置有連通高壓氣體駐室與外界氣源的輸氣管，所述高壓 氣體駐室是由噴嘴下體內(nèi)壁與噴嘴上體外壁間的環(huán)型腔體構(gòu)成。所述輸液嘴的輸液通道是由上凹腔和位于凹腔底部兩側(cè)的兩個豎直向下延伸的 通道組成。所述輸液嘴的的外形是由上部圓柱段和下部圓柱段構(gòu)成，其中上部圓柱段的直徑 大于下部圓柱段的直徑，下部圓柱段的直徑小于等于所述噴嘴上體錐腔下部圓柱形腔體段 的直徑、并相配合，所述上部圓柱段與下部圓柱段之間采用錐形導(dǎo)角過渡，該錐形導(dǎo)角的錐度與所述噴嘴上體錐腔的錐度相等。本實用新型的工作原理及有益效果如下在進(jìn)行真空霧化制粉時，高壓氬氣或氮氣之類的氣體通過連通駐氣室與外界氣源 的輸氣管口進(jìn)入高壓氣體駐室，并通過高壓氣體駐室底部設(shè)置的由若干個以均布排列方式 設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)高速噴出，對輸液嘴流出的金屬液柱進(jìn)行霧化，吹出的氣流集 中于從輸液管中流出的液柱上一點，從而達(dá)到使液體進(jìn)行霧化的目的，形成細(xì)小的金屬顆 粒。這種噴嘴組裝簡單，使用方便，由于在各個工件連接的地方進(jìn)行焊接，所以加工時間 短，應(yīng)用起來霧化質(zhì)量穩(wěn)定，可以使金屬熔液的噴出霧化更加合理，效率高、冷卻迅速。

圖1為本實用新型作的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中噴嘴上體與噴嘴下體的裝配關(guān)系圖。圖3是圖2的A向視圖。圖中序號1為輸液嘴，2為噴嘴上體，3為噴嘴下體，4為固定板，5為噴嘴孔，6為 輸氣管，7為環(huán)形格柵。
具體實施方式
本實用新型以下將結(jié)合實施例(附圖)作進(jìn)一步描述本實用新型的組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置包括環(huán)板形結(jié)構(gòu)的固定板4，通過 焊接方法以共軸線方式安裝在固定板中心孔內(nèi)緣口上的橫截面呈倒置的M形結(jié)構(gòu)、并在其 中心位置處加工有倒錐形通孔的噴嘴下體3，以及通過焊接方法以共軸線方式扣蓋在噴嘴 下體上的漏斗形結(jié)構(gòu)的噴嘴上體2，和以共軸線方式插裝在噴嘴上體錐腔內(nèi)的輸液嘴1 ；其 中所述漏斗形結(jié)構(gòu)噴嘴上體2的水平環(huán)緣的直徑等于噴嘴下體的外徑，其位于水平環(huán)緣下 方的錐體部分的錐頂角與噴嘴下體3中心位置處加工有倒錐形通孔的錐頂角相等，所述噴 嘴上體2的錐體部分底部以環(huán)形間隙配合的方式向下延伸至噴嘴下體中心位置處加工有 倒錐形通孔的下緣口處并與之平齊，該環(huán)形間隙通過環(huán)形格柵7被分割成若干個以均布排 列方式設(shè)置的噴嘴孔5 ；在所述噴嘴下體3的側(cè)壁上設(shè)置有連通高壓氣體駐室與外界氣源 的輸氣管6，所述高壓氣體駐室是由噴嘴下體內(nèi)壁與噴嘴上體外壁間的環(huán)型腔體構(gòu)成。所述輸液嘴1的輸液通道是由上凹腔和位于凹腔底部兩側(cè)的兩個豎直向下延伸 的通道組成；所述輸液嘴1的的外形是由上部圓柱段和下部圓柱段構(gòu)成，其中上部圓柱段 的直徑大于下部圓柱段的直徑，下部圓柱段的直徑小于等于所述噴嘴上體錐腔下部圓柱形 腔體段的直徑、并相配合，所述上部圓柱段與下部圓柱段之間采用錐形導(dǎo)角過渡，該錐形導(dǎo) 角的錐度與所述噴嘴上體錐腔的錐度相等。
權(quán)利要求1.一種組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置，其特征在于所述裝置包括環(huán)板形結(jié)構(gòu)的固 定板，通過焊接方法以共軸線方式安裝在固定板中心孔內(nèi)緣口上的橫截面呈倒置的M形結(jié) 構(gòu)、并在其中心位置處加工有倒錐形通孔的噴嘴下體，以及通過焊接方法以共軸線方式扣 蓋在噴嘴下體上的漏斗形結(jié)構(gòu)的噴嘴上體，和以共軸線方式插裝在噴嘴上體錐腔內(nèi)的輸液 嘴；其中所述漏斗形結(jié)構(gòu)噴嘴上體的水平環(huán)緣的直徑等于噴嘴下體的外徑，其位于水平環(huán) 緣下方的錐體部分的錐頂角與噴嘴下體中心位置處加工有倒錐形通孔的錐頂角相等，所述 噴嘴上體的錐體部分底部以環(huán)形間隙配合的方式向下延伸至噴嘴下體中心位置處加工有 倒錐形通孔的下緣口處并與之平齊，該環(huán)形間隙通過環(huán)形格柵被分割成若干個以均布排列 方式設(shè)置的噴嘴孔；在所述噴嘴下體的側(cè)壁上設(shè)置有連通高壓氣體駐室與外界氣源的輸氣 管，所述高壓氣體駐室是由噴嘴下體內(nèi)壁與噴嘴上體外壁間的環(huán)型腔體構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置，其特征在于所述輸液嘴 的輸液通道是由上凹腔和位于凹腔底部兩側(cè)的兩個豎直向下延伸的通道組成；所述輸液嘴 的的外形是由上部圓柱段和下部圓柱段構(gòu)成，其中上部圓柱段的直徑大于下部圓柱段的直 徑，下部圓柱段的直徑小于等于所述噴嘴上體錐腔下部圓柱形腔體段的直徑、并相配合，所 述上部圓柱段與下部圓柱段之間采用錐形導(dǎo)角過渡，該錐形導(dǎo)角的錐度與所述噴嘴上體錐 腔的錐度相等。
專利摘要一種組焊式雙環(huán)流氣流霧化噴嘴裝置，其特征在于所述裝置包括環(huán)板形結(jié)構(gòu)的固定板，通過焊接方法以共軸線方式安裝在固定板中心孔內(nèi)緣口上的橫截面呈倒置的M形結(jié)構(gòu)、并在其中心位置處加工有倒錐形通孔的噴嘴下體，以及通過焊接方法以共軸線方式扣蓋在噴嘴下體上的漏斗形結(jié)構(gòu)的噴嘴上體，和以共軸線方式插裝在噴嘴上體錐腔內(nèi)的輸液嘴；其中所述漏斗形結(jié)構(gòu)噴嘴上體的水平環(huán)緣的直徑等于噴嘴下體的外徑，其位于水平環(huán)緣下方的錐體部分的錐頂角與噴嘴下體中心位置處加工有倒錐形通孔的錐頂角相等，所述噴嘴上體的錐體部分底部以環(huán)形間隙配合的方式向下延伸至噴嘴下體中心位置處加工有倒錐形通孔的下緣口處并與之平齊。
文檔編號B22F3/115GK201913247SQ20112002381
公開日2011年8月3日 申請日期2011年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月25日
發(fā)明者南紅艷, 王有超, 王海燕, 米國發(fā), 鄭喜平, 陳立林 申請人:河南理工大學(xué)