專利名稱：Pecvd沉積腔體吹掃系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及PECVD鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種PECVD沉積腔體吹掃系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
之前由于要保護MFC，用于吹掃的N2的壓力不能太大，吹掃系統(tǒng)只針對特氣管路進行吹掃，壓力比較小，對腔體內(nèi)雜質(zhì)、特氣孔處掉片等不能起到清除作用。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是對現(xiàn)有的吹掃系統(tǒng)進行改進，吹掃掉特氣孔上的掉片等雜質(zhì)，達到不開腔體清除掉片的目的，大大提升機臺的正常運行時間。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種PECVD沉積腔體吹掃系統(tǒng)，包括質(zhì)量流量控制器以及質(zhì)量流量控制器兩端的管路，在質(zhì)量流量控制器旁設(shè)置導氣旁路，在質(zhì)量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路的交匯處加裝保護質(zhì)量流量控制器的氣體控制閥門。本實用新型的有益效果是現(xiàn)有吹掃系統(tǒng)每次出現(xiàn)掉片只能開腔體解決，嚴重影響產(chǎn)能，利用本吹掃系統(tǒng)實現(xiàn)不開腔體解決掉片問題，大大提升機臺正常運行時間。
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細的說明；


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；其中1.質(zhì)量流量控制器，2.保護閥門，3.導氣旁路。
具體實施方式
現(xiàn)在結(jié)合附
圖1對本實用新型作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實用新型有關(guān)的構(gòu)成。如
圖1所示的PECVD沉積腔體吹掃系統(tǒng)，包括質(zhì)量流量控制器1以及質(zhì)量流量控制器1兩端的管路，在質(zhì)量流量控制器1旁設(shè)置導氣旁路3，在質(zhì)量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路3的交匯處加裝保護質(zhì)量流量控制器1的氣體控制閥門2。質(zhì)量流量控制器 1 艮口 MFC。增大N2供應(yīng)端的壓力，因為有保護閥門2保護質(zhì)量流量控制器，使N2能以更大的速度和壓力通過導氣旁路3到達特氣孔，吹掃掉堵在特氣孔上的掉片。以現(xiàn)有吹掃系統(tǒng)每次出現(xiàn)掉片只能開腔體解決，機臺停止2 3小時，影響產(chǎn)能 3000片左右，利用本吹掃系統(tǒng)將掉片直接吹離特氣孔，實現(xiàn)不開腔體解決掉片問題，大大提升機臺正常運行時間，提高產(chǎn)能。
權(quán)利要求1. 一種PECVD沉積腔體吹掃系統(tǒng)，包括質(zhì)量流量控制器(1)以及質(zhì)量流量控制器(1) 兩端的管路，其特征是在所述的質(zhì)量流量控制器(1)旁設(shè)置導氣旁路(3)，在質(zhì)量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路(3)的交匯處加裝保護質(zhì)量流量控制器的氣體控制閥門 ⑵。
專利摘要本實用新型涉及PECVD鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種PECVD沉積腔體吹掃系統(tǒng)。它包括質(zhì)量流量控制器以及質(zhì)量流量控制器兩端的管路，在質(zhì)量流量控制器旁設(shè)置導氣旁路，在質(zhì)量流量控制器進氣端的管路與導氣旁路的交匯處加裝保護質(zhì)量流量控制器的氣體控制閥門。現(xiàn)有吹掃系統(tǒng)每次出現(xiàn)掉片只能開腔體解決，嚴重影響產(chǎn)能，本吹掃系統(tǒng)因為有保護閥門保護質(zhì)量流量控制器，使N2能以更大的速度和壓力通過導氣旁路到達特氣孔，吹掃掉堵在特氣孔上的掉片實現(xiàn)不開腔體解決掉片問題，大大提升機臺正常運行時間。
文檔編號C23C16/44GK201962354SQ20112003172
公開日2011年9月7日 申請日期2011年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月29日
發(fā)明者高星 申請人:常州天合光能有限公司