專利名稱：一種石墨舟的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種石墨舟，尤其涉及一種CT管式鍍膜設(shè)備所用的石墨舟。
背景技術(shù)：
在硅太陽電池的制工藝過程之中，通常需要采用薄膜沉積工藝進(jìn)行硅片的鍍膜， 例如可采用PECVD (plasma enhanced chemical vapor d印osition，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)的沉積工藝對硅片進(jìn)行氮化硅的真空鍍膜，使在硅片表面形成防反射層。在硅太陽能電池制造的過程中，在進(jìn)行硅片表面鍍膜時，首先將未鍍膜的硅片插入石墨舟中，將載有硅片的石墨舟放置在PECVD真空鍍膜設(shè)備腔體中，采用合適的PECVD工藝對硅片進(jìn)行鍍膜。鍍膜結(jié)束后，從真空鍍膜設(shè)備腔體中取出石墨舟然后再將經(jīng)過鍍膜的硅片從石墨舟上取下來。現(xiàn)用的石墨舟為垂直式石墨舟，如圖1所示為現(xiàn)CT管式鍍膜設(shè)備所用的石墨舟的俯視圖，該石墨舟共由19片石墨片構(gòu)成，石墨片之間的距離為Ilmm;如圖2，每片石墨片都有6個可用于放置硅片的位置，共可放置硅片216片。現(xiàn)用的這種石墨舟有以下缺點(diǎn)1、對于如今大批量生產(chǎn)的企業(yè)來說，這種石墨舟由于可載硅片數(shù)量較少使得產(chǎn)能受到很大限制，工藝時間較長，影響產(chǎn)能；2、吹掃表面金屬離子及刻蝕表面Si02程度不夠；3、表面鈍化及體鈍化效果差。

實(shí)用新型內(nèi)容實(shí)用新型目的本實(shí)用新型的目的在于在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種產(chǎn)能高的石墨舟。技術(shù)方案本實(shí)用新型在不改變原有設(shè)備的基礎(chǔ)上使得每一管可同時進(jìn)行鍍膜的硅片數(shù)量得到提高，以此來增加產(chǎn)能。本實(shí)用新型所述的石墨舟，包括通過陶瓷棒相連的石墨片，所述石墨片為23片，相鄰石墨片之間的距離為9mm。所述石墨舟上設(shè)置有7個硅片裝載位。有益效果本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是1、本實(shí)用新型石墨舟，由原CT石墨舟承載216片增加到新型石墨舟的264片，將產(chǎn)能提到了 20%左右；2、本實(shí)用新型石墨片之間的間距由原來的Ilmm減少到現(xiàn)在的9mm，使得石墨片之間被電離的等離子體的強(qiáng)度得到提高，使得在預(yù)淀積之前對硅片表面的清理及吹掃效果得到增強(qiáng)，對硅片表面存在的二氧化硅、金屬鈉鉀離子以及某些雜質(zhì)的清理更加的徹底；3、本實(shí)用新型等離子強(qiáng)度的增強(qiáng)也使得硅片表面以及體內(nèi)的鈍化效果更加明顯；4、由于等離子強(qiáng)度的增強(qiáng)，使得鍍膜預(yù)淀積及淀積所需時間也得到相應(yīng)的減少，產(chǎn)能得到提高；5、由于同一爐管同時進(jìn)行鍍膜片子數(shù)量增加，而鍍膜工藝進(jìn)行時所需通入的氨氣及硅烷的流量并不需要相應(yīng)變大， 生產(chǎn)成本也得到一定的降低；6、本實(shí)用新型石墨舟和原有石墨舟相比，體積要稍微有所增力口，使得真空鍍膜設(shè)備的爐管空間得到充分利用，硅片數(shù)量得增加使得在通入的氨氣及硅烷流量不變的情況下，參與反應(yīng)的氣體量增加，也使剩余氣體變少，工藝所造成的尾氣相應(yīng)減少。

圖1為現(xiàn)有的石墨舟俯視圖；圖2為圖1中的某一片石墨片的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型石墨舟的俯視圖；圖4為圖3中的某一片石墨片的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不局限于所述實(shí)施例。一種石墨舟，包括23片石墨片2，通過陶瓷棒3相連，再通過石墨螺母固定。陶瓷圈長度設(shè)計(jì)為9mm，因而石墨片的間距也為9mm。石墨片上硅片的裝載位1由原來的6個增加為7個。如上所述，盡管參照特定的優(yōu)選實(shí)施例已經(jīng)表示和表述了本實(shí)用新型，但其不得解釋為對本實(shí)用新型自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本實(shí)用新型的精神和范圍前提下，可對其在形式上和細(xì)節(jié)上作出各種變化。
權(quán)利要求1.一種石墨舟，包括通過陶瓷棒(3)相連的石墨片(2)，其特征在于所述石墨片(2) 為23片，相鄰石墨片之間的距離為9mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨舟，其特征在于所述石墨舟上設(shè)置有7個硅片裝載位⑴。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種石墨舟，包括通過陶瓷棒(3)相連的石墨片(2)，其特征在于所述石墨片(2)為23片，每片石墨片(2)的硅片裝載位(1)為7個，相鄰石墨片之間的距離為9mm。本實(shí)用新型石墨片之間的間距由原來的11mm減少到現(xiàn)在的9mm，使得石墨片之間被電離的等離子體的強(qiáng)度得到提高，使得在預(yù)淀積之前對硅片表面的清理及吹掃效果得到增強(qiáng)，對硅片表面存在的二氧化硅、金屬鈉鉀離子以及某些雜質(zhì)的清理更加的徹底；另外鍍膜時間縮短，從而工藝時間縮短，提高產(chǎn)量。
文檔編號C23C16/458GK202063994SQ20112010106
公開日2011年12月7日 申請日期2011年4月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月8日
發(fā)明者勾憲芳, 吳回君, 姜利凱, 孫晨財(cái), 王鵬, 陳呈, 魏文文 申請人:中節(jié)能太陽能科技(鎮(zhèn)江)有限公司