專利名稱：真空表面處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于金屬基體表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空表面處理裝置。
背景技術(shù)：
如業(yè)界所知之理，對金屬基體表面進行處理可以顯著提升金屬基體的耐化學性能和提高物理性能，例如在金屬表面形成致密的磷化膜，可以大幅度提高耐鹽霧腐蝕性。實用新型專利授權(quán)公告號CN2092M5U推薦的熱基體滲涂金屬的裝置適用于將W、 Mo、Cr、Ti, Ni等滲涂料的金屬離子滲涂到金屬基體，使金屬基體具有耐腐蝕、耐高溫氧化、 耐腐蝕和耐摩擦等物理化學性能。該專利推薦的裝置不適合于使用液體場合，并且結(jié)構(gòu)極為復雜，發(fā)明專利授權(quán)公告號CN1213163C同樣存在這種缺憾。公開號CN101122004A提供的新型真空表面強化技術(shù)和設(shè)備用于對金屬基體表面滲氮處理。在已公開的文獻中未見諸有關(guān)于對金屬表面生成諸如磷化膜之類的保護層的并且結(jié)構(gòu)簡練操作方便、安全以及環(huán)保的真空表面處理裝置的技術(shù)啟示，為此，本申請人作了有益的設(shè)計，下面將要介紹的技術(shù)方案便是在這種背景下產(chǎn)生的。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的任務(wù)在于提供一種結(jié)構(gòu)簡練、操作方便和由于在對金屬基體表面處理時處于封閉狀態(tài)下進行而藉以體現(xiàn)對使用現(xiàn)場環(huán)境友好的真空表面處理裝置。本實用新型的任務(wù)是這樣來完成的，一種真空表面處理裝置，包括一第一反應(yīng)容器，該第一反應(yīng)容器的頂部配設(shè)有第一容器蓋，第一容器蓋上設(shè)有一用于顯示第一反應(yīng)容器的第一容腔內(nèi)的壓力的第一壓力表，在第一反應(yīng)容器的上側(cè)部設(shè)有一第一進氣管和一第一抽真空管，第一進氣管上設(shè)有一第一電磁閥，而第一抽真空管上配有一第二電磁閥，并且在第一反應(yīng)容器的底部設(shè)有一用于將所述第一容腔內(nèi)的液體排出的第一排液管，該第一排液管上設(shè)有一第一閥門；一第二反應(yīng)容器，該第二反應(yīng)容器的頂部配設(shè)有第二容器蓋，第二容器蓋上設(shè)有一用于顯示第二反應(yīng)容器的第二容腔內(nèi)的壓力的第二壓力表，在第二反應(yīng)容器的上側(cè)部設(shè)有一第二進氣管和一第二抽真空管，第二進氣管上設(shè)有一第三電磁閥，而第二抽真空管上配設(shè)有一第四電磁閥，并且在第二反應(yīng)容器的底部設(shè)有一用于將所述第二容腔內(nèi)的液體排出的第二排液管，該第二排液管上設(shè)有第二閥門；一載物容器工作機構(gòu)，設(shè)在所述第一反應(yīng)容器的底部并且探入到所述的第一容腔內(nèi)；一連接管，該連接管的一端與第一反應(yīng)容器的下部連接，另一端與第二反應(yīng)容器的下部連接，而中部配設(shè)有一第五電磁閥。在本實用新型的一個具體的實施例中，所述的第一反應(yīng)容器的底部設(shè)有一組第一支承腳，藉以該組第一支承腳將第一反應(yīng)容器處于騰空狀態(tài)；所述的第二反應(yīng)容器的底部設(shè)有一組第二支承腳，藉由該組第二支承腳將第二反應(yīng)容器處于騰空狀態(tài)。在本實用新型的另一個具體的實施例中，所述的第一、第二反應(yīng)容器的彼此的容積相同或不相同。在本實用新型的又一個具體的實施例中，所述的載物容器工作機構(gòu)包括電機、磁力耦合器、連接器和載物容器，磁力耦合器通過軸承座設(shè)在所述第一反應(yīng)容器的底部的中央部位；第一電機與磁力耦合器的下端傳動連接，連接器在所述第一容腔內(nèi)與磁力耦合器的上端傳動連接，該連接器具有一載物容器配接軸，載物容器的底部的中央構(gòu)成有一配接帽，該配接帽與載物容器配接軸相配合。在本實用新型的再一個具體的實施例中，所述的連接器朝向所述載物容器的一側(cè)構(gòu)成有復數(shù)個第一配合部，而所述配接帽朝向連接器的一側(cè)構(gòu)成有數(shù)量與第一配合部相等的第二配合部，第一、第二配合部彼此配合。在本實用新型的還有一個具體的實施例中，當所述的第一配合部為榫時，則第二配合部為卯；而當所述的第一配合部為卯時，則第二配合部為榫。在本實用新型的更而一個具體的實施例中，所述的載物容器是鏤空的。在本實用新型的進而一個具體的實施例中，所述的配接帽的中央構(gòu)成有一配接軸腔，該配接軸腔與所述的載物容器配接軸相配合。在本實用新型的又更而一個具體的實施例中，所述的電機為三相異步電動機。在本實用新型的又進而一個具體的實施例中，所述的配接帽的底部開設(shè)有濾液孔。本實用新型提供的技術(shù)方案具有整體結(jié)構(gòu)簡練和操作方便的長處，能使金屬基體處于真空狀態(tài)下進行表面處理，從而可保護作業(yè)現(xiàn)場的環(huán)境，有利于避免對操作者身體產(chǎn)生影響。

圖1為本實用新型的實施例結(jié)構(gòu)圖。圖2為圖1的剖視圖。
具體實施方式
為了使專利局的審查員尤其是公眾能夠更加清楚地理解本實用新型的技術(shù)實質(zhì)和有益效果，申請人將在下面以實施例的方式作詳細說明，但是對實施例的描述均不是對本實用新型方案的限制，任何依據(jù)本實用新型構(gòu)思所作出的僅僅為形式上的而非實質(zhì)性的等效變換都應(yīng)視為本實用新型的技術(shù)方案范疇。實施例請見圖1和圖2，在本實施例中，給出了彼此的容積相等的第一反應(yīng)容器1和第二反應(yīng)容器2，當然，第一、第二反應(yīng)容器1、2彼此的容積也可以不相等，例如第一反應(yīng)容器1 的容積大于或小于第二反應(yīng)容器2的容積。第一反應(yīng)容器1的外側(cè)的底部以間隔狀態(tài)并且以焊接、鉚接或者以其它類似的固定方式固定有一組第一支承腳16，藉由該組第一支承腳16而使第一反應(yīng)容器1處于騰空狀態(tài)。如果將第一反應(yīng)容器1安置于另行配置的支架平臺上，那么毫無疑問屬于等效性變換而依然屬于本實用新型提供的技術(shù)方案范疇。在第一反應(yīng)容器1的頂部配設(shè)有用于對第一反應(yīng)容器1的第一容腔14開啟或封閉的第一容器蓋11，由圖所示，該第一容器蓋11通過第一鉸接座112與第一反應(yīng)容器1鉸接(也可稱樞軸連接)，當要開啟第一容器蓋11時，只要使預(yù)設(shè)于第一反應(yīng)容器1上的第一鎖扣17離開第一容器蓋11的上邊沿，反之亦然。在第一容器蓋11的中央配設(shè)有一第一壓力表111，該第一壓力表111用來向操作者提示第一反應(yīng)容器1的第一容腔14內(nèi)的壓力。優(yōu)選的方案可在第一容器蓋111與第一反應(yīng)容器1的配合面之間加設(shè)一第一密封圈113。在第一反應(yīng)容器1的上部壁體上延接有一第一進氣管12和一第一抽真空管13，在使用時將第一進氣管12與氣源裝置例如空氣壓縮機之類的的裝置連接，并且在第一進氣管12的管路上設(shè)置一第一電磁閥121。同樣，在使用時將第一抽真空管13與抽真空裝置例如真空泵或類似的裝置連接，并且在第一抽真空管13的管路上設(shè)置一第二電磁閥131。第一進氣管12和第一抽真空管13在第一反應(yīng)容器1的圓周方向優(yōu)選彼此相距180°。在第一反應(yīng)容器1的底部配接有一用于將第一容腔14內(nèi)的表面處理液外排的第一排液管15，并且在第一排液管15上設(shè)置有一第一閥門151，第一閥門151優(yōu)選使用電磁閥。第二反應(yīng)容器2的外側(cè)的底部以間隔狀態(tài)并且以焊接、鉚接或者以其它類似的固定方式固定有一組第二支承腳26，藉由該組第二支承腳沈而使第二反應(yīng)容器2處于騰空狀態(tài)。如同對第一反應(yīng)容器1的描述，將第二反應(yīng)容器2安頓于另行配置的支架平臺，應(yīng)屬等效性變換。在第二反應(yīng)容器2的頂部配設(shè)有用于對第二反應(yīng)容器2的第二容腔M開啟或封閉的第二容器蓋21，由圖所示，該第二容器蓋21通過第二鉸接座212與第一反應(yīng)容器2 鉸接(也可稱樞軸連接)，當要開啟第二容器蓋21時，只要使預(yù)設(shè)于第二反應(yīng)容器2上的第二鎖扣27離開第二容器蓋2的上邊沿，反之同理。在第二容器蓋21的中央設(shè)有一第二壓力表211，由該第二壓力表211向操作者指示第二反應(yīng)容器2的第二容腔M內(nèi)的壓力。優(yōu)選地，在第二容器蓋211與第二反應(yīng)容器2的配合面之間設(shè)置第二密封圈213 (圖2示)。在第二反應(yīng)容器2的上部的壁體上延接有一第二進氣管22和一第二抽真空管23， 在使用時，將第二進氣管22與氣源裝置如空氣壓縮機連接，并且在第二進氣管22的管路上配置一第三電磁閥221。同樣，在使用時，將第二抽真空管23與抽真空裝置如真空泵連接， 并且在第二抽真空管23的管路上配置一第四電磁閥231。第二進氣管22與第二抽真空管 23在第二反應(yīng)容器2的圓周方向彼此優(yōu)選相距180°。在第二反應(yīng)容器2的底部配接有一作用與前述的第一排液管15相同的第二排液管25，并且在該第二排液管25的管路上設(shè)置優(yōu)選由電磁閥充任的第二閥門251。請繼續(xù)見圖1和圖2，第一、第二反應(yīng)容器1、2是彼此連通的，兩者之間設(shè)有一連接管4，連接管4的一端與第一反應(yīng)容器1的下部連接并且與第一容腔14相通，連接管4的另一端與第二反應(yīng)容器2的下部連接并且與第二容腔M相通，在連接管14的中部設(shè)有一用于控制第一、第二容腔14、對之間的通或阻斷的第五電磁閥41。在第一反應(yīng)容器1的底部配有載物容器工作機構(gòu)3，優(yōu)選而非絕對限于的載物容器工作機構(gòu)3包括電機、磁力耦合器32、連接器33和載物容器34，磁力耦合器3通過軸承座321設(shè)在第一反應(yīng)容器1的底部的居中位置，電機31為三相異步電動機，與磁力耦合器 32的下端傳動連接，連接器33在第一容腔14內(nèi)與磁力耦合器32的上端傳動連接，該連接器33構(gòu)成有一載物容器配接軸331，載物容器34為鏤空狀態(tài)構(gòu)造，并且在載物容器34的底部固設(shè)有一配接帽;341。前述的連接器33朝向配接帽341的一側(cè)的表面以輻射形態(tài)構(gòu)成有一組第一配合部332，以此相適應(yīng)地，在配接帽341朝向連接器33的一側(cè)的表面并且在與第一配合部332相對應(yīng)的位置構(gòu)成有數(shù)量與第一配合部332相等的第二配合部3412，第一、第二配合部332、；3412相互榫卯配合。在本實施例中，申請人將第一配合部332選擇為榫，而將第二配合部3412選擇為卯，由卯對榫補償，使整個載物容器34與連接器33兩者相配合，并且由連接器33帶動載物容器34旋轉(zhuǎn)。當然，如果將第一配合部332選擇為卯，而將第二配合部3412選擇為榫，那么毫無疑問應(yīng)當視為等效性變換而屬于本實用新型的技術(shù)方案范疇。此外，第一、第二配合部332、3412的結(jié)構(gòu)形式還可以有各種變化，然而，不論何種變化均不應(yīng)視為有脫本實用新型方案的技術(shù)實質(zhì)。由圖1所示，在配接帽34上密布有濾液孔3413，并且配接帽34的中央的配接帽腔 3411與前述的載物容器配接軸331相配合。優(yōu)選地，載物容器34與第一容腔14的腔壁之間保持有合理的空隙，例如第一反應(yīng)容器1的第一容腔14的內(nèi)徑為800 mm，那么載物容器34的直徑為600 mm。前述的磁力耦合器32可保證第一反應(yīng)容器1的內(nèi)外部無壓力泄露，即無表面反應(yīng)處理液外流，更確切地講，表面反應(yīng)處理液體不會進入軸承座321上的軸承。在本實施例中，磁力耦合器32優(yōu)選而非絕對限于地使用由中國浙江省溫州市中偉磁傳動密封設(shè)備廠生產(chǎn)的型號為XWC型磁力華禹合器。應(yīng)用例結(jié)合圖1和圖2，當要使用本實用新型真空表面處理裝置對金屬基體(也可稱金屬零部件)作表面處理藉以使金屬基體獲得更好的質(zhì)量時。首先將第一、第二、第三、第四、第五電磁閥121、131、221、231、41和第一、第二閥門151,251均處于關(guān)閉狀態(tài)，打開第一反應(yīng)容器1的第一容器蓋11，將盛有金屬基體的載物容器34配置到安頓至連接器33，更具體地講，使載物容器配接軸331探入配接軸腔3411，并且使第一、第二配合部332、3412相互配合。將第一容器蓋11蓋閉，同時開啟第二容器蓋21，向第二反應(yīng)容器2的第二容腔M內(nèi)注入(引入)表面處理反應(yīng)液體，注入完畢，關(guān)閉第二容器蓋21。開啟第二電磁閥131，與第一抽真空管13連接的真空泵工作，此時開始對第一反應(yīng)容器1抽真空，當真空度達到由第一壓力表111反應(yīng)的所需的設(shè)定值后，關(guān)閉第二電磁閥 131。此時，由于第一反應(yīng)容器1的第一容腔14內(nèi)的氣壓遠低于第二反應(yīng)容器2的第二容腔M的氣壓，因此，在第五電磁閥41的開啟下，處于第二容腔M內(nèi)的表面處理反應(yīng)液體便壓入第一容腔14內(nèi)，當?shù)谝蝗萸?4內(nèi)的液面高度達到設(shè)定值時例如漫過載物容器34的頂部時，關(guān)閉第五電磁閥41。開啟第四電磁閥231，與第二抽真空管23連接的真空泵工作，對第二反應(yīng)容器2 抽真空，當達到由第二壓力表211揭示的設(shè)定值后關(guān)閉第四電磁閥231。等第一反應(yīng)容器 1內(nèi)置于載物容器34內(nèi)的金屬基體處理時間達到預(yù)設(shè)的時間要求后，即完成了對金屬基體的處理后，開啟第一電磁閥121，此時第一容腔14與大氣相通，第一反應(yīng)容器1的壓力轉(zhuǎn)變?yōu)榈扔诖髿鈮?。接著打開第五電磁閥41，由于第一反應(yīng)容器1的壓力為大氣壓，而第二反應(yīng)容器2處于負壓即處于真空狀態(tài)，因此在大氣壓的作用下，將第一反應(yīng)容器1的第一容腔14 內(nèi)的表面處理反應(yīng)液體弓I入第二反應(yīng)容器2的第二容腔內(nèi)，當?shù)诙萸?4內(nèi)的表面處理反應(yīng)液體的液位低于設(shè)定值，例如低至露出載物容器34的程度時，關(guān)閉第五電磁閥41。接著，啟動載物容器工作機構(gòu)3，電機31工作，經(jīng)磁力耦合器32和連接器33帶動載物容器34旋轉(zhuǎn)，使位于載物容器34內(nèi)的金屬基體表面的表面處理反應(yīng)液體甩干，也就是說使粘附于金屬基體表面的表面處理反應(yīng)液體甩除(離心力作用下)。然后打開第三電磁閥 221，使第二反應(yīng)容器2的壓力與大氣壓相同，接著開啟第一容器蓋11，將載物容器34連同處理完畢的金屬基體取出，從而完成了處理的全過程。 如果持久停用，可通過第一排液管15將第一容腔14內(nèi)的剩余的表面處理反應(yīng)液體放除(備用)，由第二排液管25將第二容腔M內(nèi)的液體排除，收藏備用。優(yōu)選地，在第一、 第二反應(yīng)容器1、2上均設(shè)置一示值管，分別用于揭示第一容腔14和第二容腔M內(nèi)的液位。
權(quán)利要求1.一種真空表面處理裝置，其特征在于包括一第一反應(yīng)容器(1)，該第一反應(yīng)容器(1) 的頂部配設(shè)有第一容器蓋(11)，第一容器蓋(11)上設(shè)有一用于顯示第一反應(yīng)容器(1)的第一容腔(14)內(nèi)的壓力的第一壓力表(111)，在第一反應(yīng)容器(1)的上側(cè)部設(shè)有一第一進氣管(1 和一第一抽真空管(13)，第一進氣管(1 上設(shè)有一第一電磁閥(121)，而第一抽真空管(13)上配有一第二電磁閥(131)，并且在第一反應(yīng)容器(1)的底部設(shè)有一用于將所述第一容腔(14)內(nèi)的液體排出的第一排液管(15)，該第一排液管(1 上設(shè)有一第一閥門(151)；—第二反應(yīng)容器O)，該第二反應(yīng)容器O)的頂部配設(shè)有第二容器蓋(21)，第二容器蓋上設(shè)有一用于顯示第二反應(yīng)容器( 的第二容腔04)內(nèi)的壓力的第二壓力表 011)，在第二反應(yīng)容器O)的上側(cè)部設(shè)有一第二進氣管0 和一第二抽真空管(23)，第二進氣管0 上設(shè)有一第三電磁閥021)，而第二抽真空管上配設(shè)有一第四電磁閥 031)，并且在第二反應(yīng)容器的底部設(shè)有一用于將所述第二容腔04)內(nèi)的液體排出的第二排液管(25)，該第二排液管0 上設(shè)有第二閥門051)；—載物容器工作機構(gòu)(3)，設(shè)在所述第一反應(yīng)容器(1)的底部并且探入到所述的第一容腔(14)內(nèi)；一連接管，該連接管(4)的一端與第一反應(yīng)容器(1)的下部連接，另一端與第二反應(yīng)容器( 的下部連接， 而中部配設(shè)有一第五電磁閥G1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的第一反應(yīng)容器(1)的底部設(shè)有一組第一支承腳(16)，藉以該組第一支承腳(16)將第一反應(yīng)容器(1)處于騰空狀態(tài)；所述的第二反應(yīng)容器的底部設(shè)有一組第二支承腳(26)，藉由該組第二支承腳06) 將第二反應(yīng)容器(2)處于騰空狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的第一、第二反應(yīng)容器(1、2)的彼此的容積相同或不相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的載物容器工作機構(gòu) (3)包括電機(31)、磁力耦合器(32)、連接器(3 和載物容器(34)，磁力耦合器(3 通過軸承座(321)設(shè)在所述第一反應(yīng)容器(1)的底部的中央部位；第一電機(31)與磁力耦合器(32)的下端傳動連接，連接器(3 在所述第一容腔(14)內(nèi)與磁力耦合器(3 的上端傳動連接，該連接器(3 具有一載物容器配接軸(331)，載物容器(34)的底部的中央構(gòu)成有一配接帽(341)，該配接帽(341)與載物容器配接軸(331)相配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的連接器(3 朝向所述載物容器(34)的一側(cè)構(gòu)成有復數(shù)個第一配合部(332)，而所述配接帽(341)朝向連接器(33)的一側(cè)構(gòu)成有數(shù)量與第一配合部(33 相等的第二配合部(3412)，第一、第二配合部 (332,3412)彼此配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空表面處理裝置，其特征在于當所述的第一配合部(332) 為榫時，則第二配合部(3412)為卯；而當所述的第一配合部(332)為卯時，則第二配合部 (34112)為榫。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的載物容器(34)是鏤空的。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的配接帽(341)的中央構(gòu)成有一配接軸腔(3411)，該配接軸腔(3411)與所述的載物容器配接軸(331)相配合。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的電機(31)為三相異步電動機。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或5或8所述的真空表面處理裝置，其特征在于所述的配接帽 (341)的底部開設(shè)有濾液孔(3413)。
專利摘要一種真空表面處理裝置，屬于金屬基體表面處理技術(shù)領(lǐng)域。包括第一反應(yīng)容器，頂部配設(shè)第一容器蓋，第一容器蓋上設(shè)第一壓力表，在第一反應(yīng)容器的上側(cè)部設(shè)第一進氣管和第一抽真空管，第一進氣管上設(shè)第一電磁閥，第一抽真空管上設(shè)第二電磁閥，在第一反應(yīng)容器的底部設(shè)帶第一閥門的第一排液管;第二反應(yīng)容器，頂部設(shè)第二容器蓋，第二容器蓋上設(shè)第二壓力表，在第二反應(yīng)容器的上側(cè)部設(shè)第二進氣管和第二抽真空管，第二進氣管上設(shè)第三電磁閥，第二抽真空管上設(shè)第四電磁閥，在第二反應(yīng)容器的底部設(shè)帶第二閥門的第二排液管;載物容器工作機構(gòu)；連接管，其上配設(shè)第五電磁閥。結(jié)構(gòu)簡練和操作方便，可保護作業(yè)現(xiàn)場的環(huán)境，避免對操作者身體產(chǎn)生影響。
文檔編號C23C10/00GK202107757SQ20112012493
公開日2012年1月11日 申請日期2011年4月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月26日
發(fā)明者劉建花, 馬文斌 申請人:常熟理工學院