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沉錫工藝中的水循環(huán)裝置的制作方法

文檔序號:3380150閱讀:233來源:國知局
專利名稱:沉錫工藝中的水循環(huán)裝置的制作方法
技術領域
本實用新型涉及沉錫工藝中的節(jié)能減排設備技術領域,特指一種沉錫工藝中的水循環(huán)裝置。
技術背景沉錫工藝又稱化學鍍錫工藝,其是為有利于電路板自動插件、芯片封裝而特別設計的在銅面上以化學方式沉積錫金屬鍍層。沉錫工藝是取代I^b-Sn合金鍍層制程的一種綠色環(huán)保新工藝,已廣泛使用于電子產(chǎn)品(如線路板、電子器件)與五金件、裝飾品等表面處理。由于沉錫工藝操作簡單、化學鍍錫液穩(wěn)定,藥水消耗量小、使用壽命長、生產(chǎn)成本低,加工后表面易清洗、無難聞氣味,沉積的鍍層結(jié)晶細致、外觀銀白、表面平整、可焊性高且性能優(yōu)異穩(wěn)定等諸多優(yōu)點,其已經(jīng)被廣泛使用。其工作機理是通過改變銅離子的化學電位使鍍液中的亞錫離子發(fā)生化學置換反應,其實質(zhì)是電化學反應。目前,經(jīng)過沉錫工藝的元件需要經(jīng)過水洗,以清除其表面的雜質(zhì)。為了水洗充分, 目前多采用多級水洗工藝,如圖1所示。目前的水洗工藝中,一般包括三級水洗槽41、42、 43,將元件分別經(jīng)過三級水洗槽41、42、43清洗后取出即可。但是這種三級水洗槽存在水源浪費嚴重的問題。例如,經(jīng)過一段時間的清洗后,需要對每個水洗槽內(nèi)的水進行更換,這樣就需要將水排放,并且排放量較大。而排放的水中含有大量的金屬和化學物質(zhì),直接排放將對環(huán)境產(chǎn)生較大的污染。而由于其排放量較大,也難以對其進行處理
實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術問題就是針對目前沉錫生產(chǎn)線中水洗裝置存在的不足,提供一種可大大減少用水量的沉錫工藝中的水循環(huán)利用裝置。為解決上述技術問題,本實用新型采用了如下的技術方案該裝置包括若干水洗槽,所述的水洗槽按照水流方向連通,其連通方式為一級水洗槽設置有溢流口,該溢流口與一級收集槽連通,一級收集槽通過泵與二級水洗槽連通,通過泵將一級收集槽內(nèi)的水泵入二級水洗槽內(nèi),所述的二級水洗槽設置有溢流口,該溢流口與二級收集槽連通,二級收集槽通過泵與三級水洗槽連通。進一步而言,上述技術方案中,所述的水洗槽為三級或者三級以上。在實際使用時可根據(jù)情況設置,以達到最佳的清洗效果。本實用新型采用上述技術方案后,一級水洗槽的水經(jīng)過溢流進入一級收集槽,再通過泵將一級收集槽的水泵入二級水洗槽內(nèi),按照這種方式,不斷的將上一級水洗槽的水, 泵入到下一級的水洗槽內(nèi),直至最后一個水洗槽。然后再對最后一個水洗槽排出的水進行回收。本實用新型通過收集上一級的水,循環(huán)使用,這樣就可以節(jié)約至少三分之二的用水, 大大降低的水源的消耗。


圖1是現(xiàn)有技術中使用的水洗裝置;圖2是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實型作進一步的說明本實用新型是一種用于沉錫工藝中的水循環(huán)裝置。其包括三級水洗槽。所述的水洗槽按照水流方向連通,其連通方式為一級水洗槽1設置有溢流口 11,該溢流口 11與一級收集槽12連通,一級收集槽12通過泵13與二級水洗槽2連通,通過泵將一級收集槽 12內(nèi)的水泵入二級水洗槽2內(nèi),所述的二級水洗槽2設置有溢流口 21,該溢流口 21與二級收集槽22連通,二級收集槽22通過泵23與三級水洗槽3連通。使用時,清水注入一級水洗槽1內(nèi),沉錫元件開始在一級水洗槽1內(nèi)開始清洗,隨著清水的不斷注入,多于的水將通過溢流口 11流入到一級收集槽12內(nèi),由于多于的水采用溢流方式流出,所以一級水洗槽1內(nèi)金屬等雜質(zhì)直接沉淀在一級水洗槽1底部,不會溢流至一級收集槽12內(nèi)。通過泵13將一級收集槽12內(nèi)的水泵入二級水洗槽2內(nèi),如此循環(huán),直至水泵入三級水洗槽3內(nèi)。三級水洗槽3的水排出后,再經(jīng)過處理可重新返回一級水洗槽1 內(nèi),再次循環(huán)使用。由于本實用新型通過收集上一級的水,循環(huán)使用,這樣就可以節(jié)約至少三分之二的用水,大大降低的水源的消耗。上述實施例中水洗槽采用了三級,根據(jù)實際需要,可以選擇四級或者更多。當然,以上所述僅僅為本實用新型的實施例而已,并非來限制本實用新型范圍,凡依本實用新型申請專利范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均應包括于本實用新型申請專利范圍內(nèi)。
權利要求1.一種沉錫工藝中的水循環(huán)裝置,包括若干水洗槽,其特征在于所述的水洗槽按照水流方向連通,其連通方式為一級水洗槽(1)設置有溢流口(11),該溢流口(11)與一級收集槽(12)連通,一級收集槽(12)通過泵(13)與二級水洗槽(2)連通,通過泵將一級收集槽(1 內(nèi)的水泵入二級水洗槽O)內(nèi),所述的二級水洗槽( 設置有溢流口(21),該溢流口與二級收集槽0 連通,二級收集槽0 通過泵與三級水洗槽C3)連通。
2.根據(jù)權利要求1所述的沉錫工藝中的水循環(huán)裝置,其特征在于所述的水洗槽為三級或者三級以上。
專利摘要本實用新型涉及沉錫工藝中的節(jié)能減排設備技術領域,特指一種沉錫工藝中的水循環(huán)裝置。該裝置包括若干水洗槽,所述的水洗槽按照水流方向連通,其連通方式為一級水洗槽設置有溢流口,該溢流口與一級收集槽連通,一級收集槽通過泵與二級水洗槽連通,通過泵將一級收集槽內(nèi)的水泵入二級水洗槽內(nèi),所述的二級水洗槽設置有溢流口,該溢流口與二級收集槽連通,二級收集槽通過泵與三級水洗槽連通。本實用新型通過收集上一級的水,循環(huán)使用,這樣就可以節(jié)約至少三分之二的用水,大大降低的水源的消耗。
文檔編號C23C18/52GK202139295SQ20112015509
公開日2012年2月8日 申請日期2011年5月16日 優(yōu)先權日2011年5月16日
發(fā)明者楊錦堂 申請人:東莞怡富電路板廠
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