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鍍膜用平面靶裝置的制作方法

文檔序號(hào):3381736閱讀:306來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):鍍膜用平面靶裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種平面靶裝置,尤其涉及一種鍍膜用平面靶裝置。
背景技術(shù)
目前生產(chǎn)鍍膜玻璃的設(shè)備中大多采用平面濺射陰極靶材,其工作原理是將需鍍膜的玻璃送入真空鍍膜室內(nèi),真空鍍膜室內(nèi)通入一定量的高純工藝氣體一如氧氣、氮?dú)饣驓鍤?,在電磁?chǎng)及游離電子的作用下工藝氣體形成帶正電的等離子體,等離子體在載有高負(fù)電壓的陰極的吸引下,在磁場(chǎng)的控制下,按照一定的軌跡和力度轟擊固定安裝在真空鍍膜室內(nèi)的平面陰極靶材上的鍍膜用材料,鍍膜材料被氣體分子碰撞出來(lái),按照一定方向沉積在玻璃上形成一定厚度的膜層。但是,現(xiàn)有的0型圈密封安裝時(shí)會(huì)容易錯(cuò)位,導(dǎo)致密封不好,冷卻水會(huì)泄漏,漏到腔室里就要人工處理,花費(fèi)時(shí)間較多,影響生產(chǎn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問(wèn)題,提供一種鍍膜用平面靶裝置。為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的鍍膜用平面靶裝置,包括有平面靶殼體,所述的平面靶殼體內(nèi)設(shè)置有容納空間,其中所述的容納空間底部設(shè)置有磁鋼組件,所述容納空間頂部設(shè)置有散熱組件;所述的散熱組件頂部設(shè)置有靶材組件。進(jìn)一步地,上述的鍍膜用平面靶裝置,其中,所述的散熱組件設(shè)置有連接孔,所述散熱組件通過(guò)十字槽沉頭螺釘與平面靶殼體相連。更進(jìn)一步地,上述的鍍膜用平面靶裝置,其中,所述的散熱組件包括有散熱背板, 所述散熱背板上分布有散熱銅管。更進(jìn)一步地,上述的鍍膜用平面靶裝置,其中,所述的容納空間內(nèi)設(shè)置有銜接槽, 所述的靶材組件之間設(shè)置有壓條,所述的壓條內(nèi)穿設(shè)有銜接組件,所述銜接組件的底部連入銜接槽。再進(jìn)一步地,上述的鍍膜用平面靶裝置,其中,所述的銜接組件為內(nèi)六角圓柱頭螺釘。采用本實(shí)用新型技術(shù)方案,通過(guò)散熱背板與熱銅管的配合,取代了之前的靠0型圈整體密封的結(jié)構(gòu)。由此,既保證了冷卻效果,又解決了因?yàn)槊芊獠缓脤?dǎo)致腔體內(nèi)積水的問(wèn)題。本實(shí)用新型的目的、優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn),將通過(guò)下面優(yōu)先實(shí)施例的非限制性說(shuō)明進(jìn)行圖示和解釋?zhuān)@些實(shí)施例是參照附圖僅作為例子給出的。

圖1是鍍膜用平面靶裝置的構(gòu)造示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示的鍍膜用平面靶裝置,包括有平面靶殼體1,再平面靶殼體1內(nèi)設(shè)置有容納空間,其與眾不同之處在于本實(shí)用新型所采用的容納空間底部設(shè)置有磁鋼組件2。同時(shí),在容納空間頂部設(shè)置有散熱組件。與之對(duì)應(yīng)的是,在散熱組件頂部設(shè)置有靶材組件3。結(jié)合本實(shí)用新型一較佳的實(shí)施方式來(lái)看,為了便于實(shí)際生產(chǎn)的組裝便捷與穩(wěn)固, 本實(shí)用新型所采用的散熱組件設(shè)置有連接孔,散熱組件通過(guò)十字槽沉頭螺釘4與平面靶殼體1相連。進(jìn)一步來(lái)看,考慮到能夠提升散熱效果,散熱組件包括有散熱背板5,其可以采用銅材制成。同時(shí),在散熱背板5上分布有散熱銅管6。并且,為了能夠讓散熱銅管6的散熱面積得以替身,散熱銅管6呈S形迂回分布在散熱銅管6上。再進(jìn)一步來(lái)看,容納空間內(nèi)設(shè)置有銜接槽,靶材組件3之間設(shè)置有壓條7。并且,所述的壓條7內(nèi)穿設(shè)有銜接組件。這樣,在實(shí)際組裝式,銜接組件的底部連入銜接槽。當(dāng)然, 為了便于操作人員的組裝,銜接組件為內(nèi)六角圓柱頭螺釘8。通過(guò)上述的文字表述并結(jié)合附圖可以看出,采用本實(shí)用新型后,通過(guò)散熱背板5 與熱銅管的配合,取代了之前的靠0型圈整體密封的結(jié)構(gòu)。由此,既保證了冷卻效果,又解決了因?yàn)槊芊獠缓脤?dǎo)致腔體內(nèi)積水的問(wèn)題。當(dāng)然,以上僅是本實(shí)用新型的具體應(yīng)用范例,對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限制。除上述實(shí)施例外,本實(shí)用新型還可以有其它實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案,均落在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.鍍膜用平面靶裝置,包括有平面靶殼體,所述的平面靶殼體內(nèi)設(shè)置有容納空間,其特征在于所述的容納空間底部設(shè)置有磁鋼組件,所述容納空間頂部設(shè)置有散熱組件;所述的散熱組件頂部設(shè)置有靶材組件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的鍍膜用平面靶裝置,其特征在于所述的散熱組件設(shè)置有連接孔, 所述散熱組件通過(guò)十字槽沉頭螺釘與平面靶殼體相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜用平面靶裝置,其特征在于所述的散熱組件包括有散熱背板,所述散熱背板上分布有散熱銅管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜用平面靶裝置,其特征在于所述的容納空間內(nèi)設(shè)置有銜接槽,所述的靶材組件之間設(shè)置有壓條,所述的壓條內(nèi)穿設(shè)有銜接組件,所述銜接組件的底部連入銜接槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的鍍膜用平面靶裝置,其特征在于所述的銜接組件為內(nèi)六角圓柱頭螺釘。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種鍍膜用平面靶裝置,包括有平面靶殼體,平面靶殼體內(nèi)設(shè)置有容納空間,特點(diǎn)是容納空間底部設(shè)置有磁鋼組件,容納空間頂部設(shè)置有散熱組件;散熱組件頂部設(shè)置有靶材組件。這樣,通過(guò)散熱背板與熱銅管的配合,取代了之前的靠O型圈整體密封的結(jié)構(gòu)。由此,既保證了冷卻效果,又解決了因?yàn)槊芊獠缓脤?dǎo)致腔體內(nèi)積水的問(wèn)題。
文檔編號(hào)C23C14/34GK202297758SQ20112022259
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2011年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月28日
發(fā)明者黃峰 申請(qǐng)人:黃峰
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