專利名稱：一種用于超薄基底的鍍膜夾具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及光學鍍膜，特別特別是涉及到鍍膜時用的一種鍍膜夾具，尤其適合超薄基底的真空鍍膜。
背景技術：
鍍膜技術通常是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的膜體。當今真空鍍膜技術及設備擁有十分寬泛的應用領域，并且在未來也擁有十分廣闊的發(fā)展前景。真空鍍膜技術特別用在制造大規(guī)模集成電路的電學膜、數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜中。還用于制作能充分展示和應用各種光學特性的光學膜、在計算機顯示用的感光膜、在TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜、在建筑、汽車行業(yè)上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜、在包裝領域用防護膜、阻隔膜。另外，在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜，在工、模具上應用的耐磨超硬膜，在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應用的基礎上得到的不斷發(fā)展的技術領域分支。在通常情況下，光學鍍膜對于真空環(huán)境要求更嚴，很小的缺陷都會影響其光學性能。鍍膜前，一般需要將玻璃基底清洗或擦拭干凈至無任何灰塵和污點后，放入特定的夾具中，為了最大的利用鍍膜效率，夾具直徑和鍍膜均勻區(qū)相仿，夾取方式多采用螺絲或彈簧固定。但對于某些特定領域，如超薄基底，如采用以上方式裝夾，基底在裝夾和鍍膜過程中容易因夾具和膜層的應力而碎裂，造成鍍膜效率十分低。
發(fā)明內容本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術存在的不足，提供一種新型的用于超薄基底的鍍膜夾具。本實用新型的鍍膜夾具用于小尺寸超薄基底的大批量生產(chǎn)，要求能夠保護超薄基底使其安全可靠，生產(chǎn)效率高。為了達到上述發(fā)明目的，本實用新型提供的技術方案如下—種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，該鍍膜夾具包括有金屬底座、磁鐵柱和金屬片，所述的金屬底座和金屬片均為導磁材料制成，所述的金屬底座上設有用于放置基片的凹槽和用于放置磁鐵柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的邊角位置，所述磁鐵柱放置小孔內以吸附在金屬底座上，所述的金屬片吸附于磁鐵柱的頂端，所述的金屬片外徑大于磁鐵柱的外徑。在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述金屬底座上的凹槽為方形，多個方形的凹槽以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔位于凹槽的頂角處。在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，四個相鄰的方形凹槽直角頂角相對處共用一個小孔。在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述的金屬片為圓形，其直徑大于磁鐵柱的直徑，同圓心吸附于磁鐵柱頂端的金屬片部分伸出，金屬片的伸出部分用以壓住凹槽內的基片?；谏鲜黾夹g方案，本實用新型的鍍膜夾具在超薄基底的生產(chǎn)過程中具有如下技術效果1.本實用新型的鍍膜夾具將金屬底座上制作出很多小區(qū)域的凹槽，每個凹槽中均制作小面積的基片，可實現(xiàn)小基片的大批量鍍膜。2.本實用新型的鍍膜夾具采用磁鐵的磁力吸引固定基片，基片限定在一定范圍內，基片的四周均壓有金屬片，使其不能脫離其所在的凹槽范圍，這樣鍍膜過程中基片不易被壓碎，而且因磁性吸附方式固定，整個設備拆裝十分簡單方便。

圖1是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結構圖。圖2是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中磁鐵柱的結構示意圖。圖3是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬片的結構示意圖。圖4是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具的工作狀態(tài)示意圖。
具體實施方式
下面我們結合附圖和具體的實施案例來對本實用新型的鍍膜夾具做進一步的詳細闡述，以求更為清楚明了地理解本實用新型的結構和工作過程，但不能以此來限制本實用新型的保護范圍。本實用新型用于超薄基底的鍍膜夾具的主要結構包括有金屬底座1、磁鐵柱2和金屬片3ο上述的金屬底座1和金屬片3均采用導磁材料制成，目的是便于磁鐵吸附。這里的導磁材料可以是鋼鐵等金屬材料，要求其可以吸引磁鐵。金屬底座3的結構如圖1所示，圖1是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結構圖。在金屬底座3上設有凹槽11和小孔12。其中，凹槽11是為了放置基片4，小孔12則是用于放置磁鐵柱2。小孔12位于凹槽11的邊角位置，磁鐵柱2放置小孔12內以吸附在金屬底座1上。金屬片3吸附于磁鐵柱2的頂端，本實用新型中要求金屬片3外徑大于磁鐵柱2 的外徑。其目的是在金屬片3吸附在磁鐵柱2的頂端時，金屬片3要部分突出于磁鐵柱2， 這樣金屬片3就可以對位于多個磁鐵柱2之間凹槽11內的基片4起到保護作用，將其限制在凹槽11不至于脫離。另外，由于是磁鐵吸附，安裝與拆除都很方便，大大提高生產(chǎn)效率。作為本實用新型的一個應用實例，金屬底座1設計為圓形盤狀，而金屬底座1上的凹槽11則是方形，多個方形的凹槽11以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔12位于凹槽11 的頂角處。在金屬底座1上，每四個相鄰的方形的凹槽11在四個直角頂角相對處共用一個小孔12。確保每個方形的凹槽11的四個頂角位置處均有一個小孔12。如圖2和圖3所示，金屬片3設計為圓形，其直徑大于圓形的磁鐵柱2的直徑，在使用時，要求金屬片3同圓心吸附于磁鐵柱2的頂端，這樣磁鐵柱2上的金屬片3的邊緣部分就會伸出，伸出部分的金屬片3在金屬底座1上投影在凹槽11內。方形的基片4大小與方形的凹槽11相當，其放置在方形的凹槽11內，由于金屬片11邊緣部分會延伸到凹槽11的上方，這就會對凹槽11內的基片4造成限制，使其在生產(chǎn)過程中不會脫離凹槽11。在基片4放置到凹槽11內時，如圖4所示。在本實用新型的鍍膜夾具裝備時，先將基片4放于金屬底座1的凹槽11內，磁鐵柱2裝于金屬底座1的小孔內，最后采用金屬圓片3壓住基片4。在放置過程中，金屬圓片 3以與小孔12保持同心圓，靠磁鐵的磁力與金屬底座1緊密連接并固定基片4。本實用新型采用磁性定位，裝夾拆卸簡單，相對于螺絲定位，基片受力均勻，受力大小適中，適合超薄基底等對機械性能要求很高的鍍膜。同時，將鍍膜夾具底座分割成很多小區(qū)域凹槽，可實現(xiàn)小基片的大批量鍍膜。
權利要求1.一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，該鍍膜夾具包括有金屬底座(1)、磁鐵柱(2)和金屬片(3)，所述的金屬底座(1)和金屬片(3)均為導磁材料制成，所述的金屬底座(3)上設有用于放置基片(4)的凹槽(11)和用于放置磁鐵柱(2)的小孔(12)，所述的小孔(12)位于凹槽(11)的邊角位置，所述磁鐵柱(2)放置小孔(12)內以吸附在金屬底座(1) 上，所述的金屬片(3)吸附于磁鐵柱(2)的頂端，所述的金屬片(3)外徑大于磁鐵柱(2)的外徑。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，所述金屬底座 (1)上的凹槽(11)為方形，多個方形的凹槽(11)以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔(12) 位于凹槽(11)的頂角處。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，四個相鄰的方形凹槽(11)直角頂角相對處共用一個小孔(12)。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，所述的金屬片 (3)為圓形，其直徑大于磁鐵柱(2)的直徑，同圓心吸附于磁鐵柱(2)頂端的金屬片(3)，該金屬片(3)部分伸出以壓住凹槽(11)內的基片0)。
專利摘要本實用新型涉及一種用于超薄基底的鍍膜夾具，該鍍膜夾具包括有金屬底座、磁鐵柱和金屬片，所述的金屬底座和金屬片均為導磁材料制成，所述的金屬底座上設有用于放置基片的凹槽和用于放置磁鐵柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的邊角位置，所述磁鐵柱放置小孔內以吸附在金屬底座上，所述的金屬片吸附于磁鐵柱的頂端，所述的金屬片外徑大于磁鐵柱的外徑。本實用新型的鍍膜夾具用于小尺寸超薄基底的大批量生產(chǎn)，使得超薄基底的生產(chǎn)安全可靠，且生產(chǎn)效率高。
文檔編號C23C14/50GK202193840SQ20112028298
公開日2012年4月18日 申請日期2011年8月5日 優(yōu)先權日2011年8月5日
發(fā)明者劉毅楠, 張欽廉, 曹嘉寰, 李傳文, 班超, 程春生, 符東浩, 趙浩 申請人:平湖中天合波通信科技有限公司