專利名稱：鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍍膜機(jī)，尤其涉及一種鍍膜機(jī)得真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，鍍膜機(jī)真空室的真空度高低是直接影響所鍍制薄膜的質(zhì)量關(guān)鍵因素之一。 特別是精密度要求高的光學(xué)和電子元件的鍍膜，對(duì)鍍膜機(jī)真空室的真空度提出了更高的要求。因?yàn)橹挥性诟哒婵斩认?，殘余氣體分子量少且不易和反應(yīng)氣體結(jié)合發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，分子的自由程大，因而能減低薄膜的非化學(xué)計(jì)量比的缺陷，使膜層結(jié)合得更牢固，從而提高薄膜的質(zhì)量，進(jìn)而有利于提高各類光學(xué)元件和電子器件的可靠性。因此，鍍膜機(jī)真空室內(nèi)真空度的測(cè)量就顯得尤為重要。鍍膜機(jī)的抽真空管道一般設(shè)置在鍍膜機(jī)腔體的頂部。而目前，如圖I所示，測(cè)量鍍膜機(jī)真空室內(nèi)的真空度，一般是在鍍膜機(jī)腔體I頂部靠近抽真空管2位置設(shè)置真空測(cè)量點(diǎn)， 并用電離真空計(jì)3來(lái)控制真空度。而當(dāng)設(shè)備在對(duì)鍍膜機(jī)腔體I內(nèi)抽真空時(shí)，往往是靠近抽真空管2的位置氣體先被抽完，而位于腔體底部的氣體會(huì)慢被抽到，這樣的話就會(huì)變成為腔體內(nèi)上部和下部的真空度有差別。而電離真空計(jì)顯示的是腔體頂部的真空度，當(dāng)我們通過(guò)底部來(lái)對(duì)真空室充入氧氣時(shí)以調(diào)整真空度時(shí)，則用腔體頂部的電離真空計(jì)來(lái)控制真空度在2X10—2帕，而此時(shí)電離真空計(jì)顯示的真空度是腔體頂部的真空度，這時(shí)底部的真空可能還在更低一些，可能要有5X10_2帕左右，這樣會(huì)對(duì)成膜造成一定影響。膜料被充入過(guò)多的氧氣后，會(huì)影響膜料的光學(xué)性能，降低膜料的折射率，這樣就達(dá)不到所需要光學(xué)曲線，或者說(shuō)光學(xué)曲線會(huì)有次峰、截止深度達(dá)不到等等，導(dǎo)致鍍出不良的產(chǎn)品。因此，如何準(zhǔn)確的測(cè)量鍍膜機(jī)真空室內(nèi)的真空度，是本實(shí)用新型要研究的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)，其目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜機(jī)真空室內(nèi)真空度測(cè)量不準(zhǔn)確的問(wèn)題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)， 包括鍍膜機(jī)腔體、與鍍膜機(jī)腔體內(nèi)部連通的抽真空管及電離真空計(jì)；所述抽真空管的端口位于鍍膜機(jī)腔體的上部；所述電離真空計(jì)位于鍍膜機(jī)腔體的底部，并與其連通。上述技術(shù)方案中的有關(guān)內(nèi)容解釋如下I、上述方案中，所述電離真空計(jì)是基于一定條件下，待測(cè)氣體的壓力與氣體電離產(chǎn)生的離子流呈正比關(guān)系的原理制作的真空測(cè)量?jī)x器。它由電離規(guī)管和電路組成，通過(guò)測(cè)量氣體在控制條件下電離所產(chǎn)生的離子流來(lái)測(cè)定壓力的一種真空計(jì)。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)由于本實(shí)用新型將電離真空計(jì)設(shè)置在鍍膜機(jī)腔體的底部，當(dāng)通過(guò)底部來(lái)對(duì)腔體內(nèi)充入氧氣時(shí)以調(diào)整真空度時(shí)，此時(shí)電離真空計(jì)顯示的真空度是腔體底部的真空度，這樣能保證腔體內(nèi)的真空度準(zhǔn)確，不會(huì)充入過(guò)多的氧氣。從而不影響膜料的光學(xué)性能、膜料的折射率，避免了不良品的鍍出。

附圖I為現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中1、鍍膜機(jī)腔體；2、抽真空管；3、電離真空計(jì)。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述實(shí)施例如圖2所示，一種鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)，包括鍍膜機(jī)腔體I、與鍍膜機(jī)腔體I內(nèi)部連通的抽真空管2及電離真空計(jì)3 ;所述抽真空管2的端口位于鍍膜機(jī)腔體I的上部；所述電離真空計(jì)3位于鍍膜機(jī)腔體I的底部，并與其連通。將電離真空計(jì)3設(shè)置在鍍膜機(jī)腔體I的底部，當(dāng)對(duì)通過(guò)鍍膜機(jī)腔體I的底部來(lái)對(duì)腔體充入氧氣時(shí)以調(diào)整真空度時(shí)，此時(shí)電離真空計(jì)顯示的真空度是鍍膜機(jī)腔體I底部的真空度，這樣能保證腔體內(nèi)的真空度準(zhǔn)確，不會(huì)充入過(guò)多的氧氣。從而不影響膜料的光學(xué)性能、膜料的折射率，避免了不良品的鍍出。上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。 凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)，包括鍍膜機(jī)腔體(I)、與鍍膜機(jī)腔體a)內(nèi)部連通的抽真空管(2)及電離真空計(jì)(3);所述抽真空管(2)的端口位于鍍膜機(jī)腔體(I)的上部；其特征在于所述電離真空計(jì)(3)位于鍍膜機(jī)腔體(I)的底部，并與其連通。
專利摘要一種鍍膜機(jī)的真空度測(cè)量結(jié)構(gòu)，包括鍍膜機(jī)腔體、與鍍膜機(jī)腔體內(nèi)部連通的抽真空管及電離真空計(jì)；所述抽真空管的端口位于鍍膜機(jī)腔體的上部；所述電離真空計(jì)位于鍍膜機(jī)腔體的底部，并與其連通。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜機(jī)真空室內(nèi)真空度測(cè)量不準(zhǔn)確的問(wèn)題。
文檔編號(hào)C23C14/56GK202347093SQ20112041699
公開(kāi)日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者朱文斌 申請(qǐng)人:蘇州靈菱照明鍍膜科技有限公司