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一種真空電鍍的設(shè)備的制作方法

文檔序號:3386584閱讀:447來源:國知局
專利名稱:一種真空電鍍的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及真空電鍍技術(shù)領(lǐng)域,具體是運用于該領(lǐng)域的一種自動化工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備。
背景技術(shù)
真空電鍍是采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層。真空離子鍍,又稱真空鍍膜,屬于真空電鍍中一種比較流行的做法,做出來的產(chǎn)品金屬感強,亮度高?,F(xiàn)在的鍍膜生產(chǎn)線均為單面鍍膜,即在基片的一面鍍上各種功能薄膜?,F(xiàn)有生產(chǎn)線為一條流水線,在真空鍍膜流水線段上,有兩條平行往返的安裝在真空環(huán)境中的鍍膜導(dǎo)軌,基片從導(dǎo)軌的一端進去,從導(dǎo)軌的另一端折返出來。鍍膜模塊對應(yīng)的設(shè)在導(dǎo)軌的兩側(cè)。按照現(xiàn)有生產(chǎn)線,鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝流程是先將基片進行清洗并進行清洗質(zhì)量檢驗;再將清洗合格的基片裝片,置入真空環(huán)境中進行加熱、鍍膜再冷卻;最后是出片、卸片,進行表面質(zhì)量檢驗、性能測試后將合格的鍍膜產(chǎn)品包裝入庫。而最新的產(chǎn)品,比如電容觸摸屏、雙面0LED、雙面裝飾及高透過率等一些鍍膜產(chǎn)品,需要在基片的兩側(cè)表面都鍍有功能薄膜。以國內(nèi)外現(xiàn)有的設(shè)備,需要進行二次鍍膜,就是說,把基片正反面的鍍膜過程分開,相當(dāng)于把已經(jīng)鍍膜好的成品(單面鍍膜產(chǎn)品),重新清洗、檢驗、在基片沒有鍍膜的那一面再進行一次鍍膜。二次鍍膜的過程中,產(chǎn)品的合格率將大幅度降低,生產(chǎn)工時的浪費很嚴(yán)重。生產(chǎn)成本非常高。

實用新型內(nèi)容針對上述問題,本實用新型旨在提供一種可以在一次鍍膜的過程中,使基片的兩面都鍍上所需功能的相關(guān)薄膜的真空電鍍設(shè)備。為實現(xiàn)該技術(shù)目的,本實用新型的真空電鍍的設(shè)備,包括清洗及檢測流水線段,加熱、鍍膜及冷卻流水線段,出片、卸片及質(zhì)檢性能測試流水線段;所述加熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩段,分別安裝在兩條真空室內(nèi),兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小車滑行的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌之間互相平行,采用過渡機構(gòu)連接;所述過渡機構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸上的底板和基片架軌道,所述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機驅(qū)動,所述底板上固定安裝有承載基片架軌道的平移導(dǎo)軌,所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置,所述基片架軌道通過絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動。作為進一步改進,所述平移導(dǎo)軌為兩條,分別設(shè)置在底板的兩端。作為進一步改進,所述絲桿裝置由兩組絲桿和絲桿驅(qū)動電機組成,分別設(shè)置在底板的兩端。本實用新型的設(shè)備采用過渡機構(gòu),使承載基片的基片架小車平移過去,而不發(fā)生回轉(zhuǎn),從而生產(chǎn)出基片兩面都具有薄膜的產(chǎn)品;同時,該機構(gòu)兼具旋轉(zhuǎn)功能,同樣可以生產(chǎn)單面鍍膜產(chǎn)品。只要在PLC設(shè)置成不同的模式,便可以方便的切換,從而完成不同功能產(chǎn)品的生產(chǎn)任務(wù)。
圖1為本實用新型的過渡機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。其中,1為底板;2、9為平移導(dǎo)軌;3、8為絲桿;4、7為絲桿驅(qū)動電機;5為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機;6為主旋轉(zhuǎn)軸;10為小車移動電機;11為基片架軌道;12為基片架小車。
具體實施方式
本實用新型的真空電鍍的設(shè)備,包括現(xiàn)有設(shè)備中的清洗及檢測流水線段,加熱、鍍膜及冷卻流水線段,出片、卸片及質(zhì)檢性能測試流水線段;所述加熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩段,分別安裝在兩條真空室內(nèi),兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小車滑行的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌之間互相平行,軌道之間采用過渡機構(gòu)連接。如圖1所示,過渡機構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸6上的底板1和基片架軌道11,所述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機5驅(qū)動,底板1上固定安裝有承載基片架軌道11的平移導(dǎo)軌2和9,所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置,基片架軌道通過絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動。在具體實施方式
中,平移導(dǎo)軌為兩條,分別設(shè)置在底板的兩端。絲桿裝置由兩組絲桿3和8以及絲桿驅(qū)動電機4和7組成,分別設(shè)置在底板的兩端。具體運行時當(dāng)生產(chǎn)雙面鍍膜產(chǎn)品時承載基片的基片架小車12從真空室出來后,在小車移動電機10的帶動下,沿著從B側(cè)到A側(cè)的方向移動到基片架軌道11上,到位后,絲桿驅(qū)動電機4和7同時旋轉(zhuǎn),使基片架軌道11平移至規(guī)定位置,然后由軌道下方的小車移動電機10反轉(zhuǎn),帶動基片小車沿著B’側(cè)到A’側(cè)的方向移進到新的真空室,至此動作完成(相當(dāng)于基片小車是退出去,然后原來的尾部變頭部,進入其它的真空室)。當(dāng)生產(chǎn)單面鍍膜產(chǎn)品時,執(zhí)行PLC設(shè)定的另一套程序。承載基片的基片架小車12從真空室出來后,在小車移動電機10的帶動下,沿著從B側(cè)到A側(cè)的方向移動到基片架軌道11上,到位后,旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機5帶動主旋轉(zhuǎn)軸6,使包括底板在內(nèi)的基片架及軌道系統(tǒng)整體旋轉(zhuǎn)180°,然后由軌道下的小車移動電機10帶動小車沿著從A’側(cè)到B’側(cè)的方向移進新的真空室(由于旋轉(zhuǎn)180°,A側(cè)變?yōu)锳’側(cè),B側(cè)變?yōu)锽’側(cè),基片小車始終向前運動)。因為可以在一次鍍膜的過程中,使基片的兩面都鍍上所需功能的相關(guān)薄膜,比現(xiàn)有方式節(jié)省一半的生產(chǎn)時間,節(jié)約生產(chǎn)線的運行成本,并且大大提高的產(chǎn)品的良率,使產(chǎn)品的成本至少降低30%。以上所述,僅為本實用新型的較佳實施例,并不用以限制本實用新型,凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何細(xì)微修改、等同替換和改進,均應(yīng)包含在本實用新型技術(shù)方案的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種真空電鍍的設(shè)備,包括清洗及檢測流水線段,加熱、鍍膜及冷卻流水線段,出片、卸片及質(zhì)檢性能測試流水線段;所述加熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩段,分別安裝在兩條真空室內(nèi),兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小車滑行的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌之間互相平行,采用過渡機構(gòu)連接;所述過渡機構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸上的底板和基片架軌道,所述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機驅(qū)動,其特征在于所述底板上固定安裝有承載基片架軌道的平移導(dǎo)軌,所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置,所述基片架軌道通過絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述平移導(dǎo)軌為兩條,分別設(shè)置在底板的兩端。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述絲桿裝置由兩組絲桿和絲桿驅(qū)動電機組成,分別設(shè)置在底板的兩端。
專利摘要本實用新型公開了一種真空電鍍的設(shè)備,其包括清洗及檢測流水線段,加熱、鍍膜及冷卻流水線段,所述加熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩段,分別安裝在兩條真空室內(nèi),兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小車滑行的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌之間互相平行,采用過渡機構(gòu)連接;所述底板上固定安裝有承載基片架軌道的平移導(dǎo)軌,所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置,所述基片架軌道通過絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動。本新型采用過渡機構(gòu),使承載基片的基片架小車平移過去,而不發(fā)生回轉(zhuǎn),從而生產(chǎn)出基片兩面都具有薄膜的產(chǎn)品;同時,該機構(gòu)兼具旋轉(zhuǎn)功能,同樣可以生產(chǎn)單面鍍膜產(chǎn)品;只要在PLC設(shè)置成不同的模式,便可以方便的切換,提高效率。
文檔編號C23C14/22GK202322981SQ20112045244
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月15日
發(fā)明者孫永忠 申請人:深圳市紅光陽真空工藝有限公司
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