專利名稱：Cvd爐內(nèi)氣體擴散裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及金剛石加工領(lǐng)域中的氣體擴散技術(shù)，具體涉及ー種CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置。
背景技術(shù)：
金剛石加工領(lǐng)域中使用的CVD爐的進氣要求均勻，而現(xiàn)有的CVD爐的進氣方式不夠合理，由于進氣管的口徑較小，進氣管ロ處存在局部流速大且密度大的問題，距離進氣ロ 較遠的地方的氣流流速小且密度小，這樣就導(dǎo)致同一 CVD爐內(nèi)因氣體反應(yīng)程度不同而出現(xiàn)金剛石品質(zhì)的不同，次品率尚。實用新型內(nèi)容本實用新型針對目前現(xiàn)有狀況存在的問題和不足，提出ー種CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置。本實用新型所采用的技術(shù)方案ー種CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，包括進氣管，該進氣管與一個錐形的擴散管的小口徑端連通，該擴散管的中部至少固定有ー個擴散罩，擴散罩上均布有透氣孔，錐形擴散管的底部設(shè)置有高密度濾網(wǎng)。所述擴散罩為錐形結(jié)構(gòu)，其下緣闊ロ匹配固定在擴散管內(nèi)壁上。擴散管內(nèi)從上到下依次固定兩個錐形的擴散罩。上、下兩擴散罩的透氣孔孔徑相同，或者下部擴散罩的透氣孔孔徑小于上部擴散罩的透氣孔孔徑。本實用新型的積極效果利用在進氣管上連接擴散管對CVD爐內(nèi)均勻輸氣，確保 CVD爐內(nèi)金剛石表面都均勻接收反應(yīng)氣體，可提高金剛石生產(chǎn)質(zhì)量，降低次品率。擴散管內(nèi)分別設(shè)置有錐形的擴散罩，便于逐級對氣體進行擴散作用，效果顯著。擴散管內(nèi)的擴散罩和底部的高密度濾網(wǎng)配合進ー步確保氣體被擴散均勻，其結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，容易加工和實施。


圖I是本實用新型剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖I的A向示意圖。圖中標號I為進氣管，2為擴散管，3為高密度濾網(wǎng)，4為上層擴散罩，41為上層擴散罩的透氣孔，5為下層擴散罩。
具體實施方式
實施例一參見圖I和圖2，該CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置是將進氣管I與一個錐形的擴散管2的小口徑端連通，該擴散管2的中部從上到下依次固定兩個錐形的擴散罩，即上層擴散罩4和下層擴散罩5。每個擴散罩為錐形結(jié)構(gòu)，其下緣闊ロ匹配固定在擴散管2內(nèi)壁上，并且在擴散罩上均布有多個透氣孔，錐形擴散管2的底部設(shè)置有高密度濾網(wǎng)3。本實施例中，上、下兩擴散罩的透氣孔孔徑相同。實施例ニ附圖未畫，內(nèi)容與實施例一基本相同，相同之處不重述，不同的是下部擴散罩的透氣孔孔徑小于上部擴散罩的透氣孔孔徑。
權(quán)利要求1.ー種CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，包括進氣管，其特征是該進氣管與一個錐形的擴散管的小口徑端連通，該擴散管的中部至少固定有ー個擴散罩，擴散罩上均布有透氣孔，錐形擴散管的底部設(shè)置有高密度濾網(wǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，其特征是所述擴散罩為錐形結(jié)構(gòu)， 其下緣闊ロ匹配固定在擴散管內(nèi)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，其特征是擴散管內(nèi)從上到下依次固定兩個錐形的擴散罩。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，其特征是上、下兩擴散罩的透氣孔孔徑相同，或者下部擴散罩的透氣孔孔徑小于上部擴散罩的透氣孔孔徑。
專利摘要本實用新型公開了一種CVD爐內(nèi)氣體擴散裝置，包括進氣管，該進氣管與一個錐形的擴散管的小口徑端連通，該擴散管的中部至少固定有一個擴散罩，擴散罩上均布有透氣孔，錐形擴散管的底部設(shè)置有高密度濾網(wǎng)。本實用新型利用在進氣管上連接擴散管對CVD爐內(nèi)均勻輸氣，確保CVD爐內(nèi)金剛石表面都均勻接收反應(yīng)氣體，可提高金剛石生產(chǎn)質(zhì)量，降低次品率。擴散管內(nèi)分別設(shè)置有錐形的擴散罩，便于逐級對氣體進行擴散作用，效果顯著。擴散管內(nèi)的擴散罩和底部的高密度濾網(wǎng)配合進一步確保氣體被擴散均勻，其結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，容易加工和實施。
文檔編號C23C16/455GK202337819SQ201120484628
公開日2012年7月18日 申請日期2011年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月29日
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