專利名稱：真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置。
背景技術(shù)：
在使用真空鍍膜機(jī)鍍制產(chǎn)品吋，特別是在用Ti02+Sio2膜料鍍制產(chǎn)品時(shí)，為了 Tio2膜料獲得穩(wěn)定的折射率，就要使Tio2膜料在一定的真空度下充分氧化，這就必須給真空鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)充入氧氣。而穩(wěn)定真空鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)的真空度就會(huì)用到針型真空微調(diào)閥。上述的針型真空微調(diào)閥如圖I所示，由旋鈕I、刻度盤2、密封圈3、旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)軸4、密封針頭5及充氣孔6組成，充氣孔6通往真空鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)，密封針頭5的尖頭插入充氣孔6內(nèi)，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)軸4與密封針頭5的尾部相連，通過旋鈕I調(diào)節(jié)密封針頭5與充氣孔 6之間縫隙的大小，從而控制充入真空室內(nèi)氣體的量。通過逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)軸4，把密封針頭5從頂住充氣孔6的位置慢慢留出間隙，密封針頭5與充氣孔6的間隙越大，則充入的氧氣越多，反之，順時(shí)針旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)軸4，則會(huì)減小間隙直至完全密封。而要獲知充入氣體量的多少，就看底部的電離規(guī)管顯示的真空度來知道。例如，當(dāng)要維持ー個(gè)2X 10_2帕的真空度吋，在蒸發(fā)Tio2或Sio2膜料時(shí)的放氣量是不同的，通常是Tio2膜料放氣量大，其所需的氧氣也更多，所以針型真空微調(diào)閥要開的大ー些，而Sio2膜料放氣量小，所以針型真空微調(diào)閥要開的小一些，在每ー層的交替蒸鍍中，會(huì)要求員エ不停的對(duì)針型真空微調(diào)閥進(jìn)行微調(diào)操作。手動(dòng)調(diào)節(jié)閥因?yàn)槭侨藶榭刂崎y門的大小間隙，一時(shí)不能夠正確的調(diào)到合適的間隙，往往會(huì)有ー個(gè)上下波到的時(shí)間才能慢慢調(diào)節(jié)到合適的間隙，這時(shí)在真空蒸發(fā)材料時(shí)已經(jīng)過了 15到20秒的時(shí)間了，這段時(shí)間材料的氧化不充分，已經(jīng)影響了材料的折射率，鍍制的光學(xué)曲線可能就存在誤差；還有就是這個(gè)誤差往往是不定時(shí)定量的，比如可能這層手動(dòng)充的氧氣差不多，但另ー層時(shí)又不一樣，沒有規(guī)律，難以做到產(chǎn)品的一致性。長(zhǎng)時(shí)間的操作會(huì)讓員エ過早疲勞，往往有時(shí)不能準(zhǔn)確的操作針型真空微調(diào)閥，這時(shí)就會(huì)影響膜的光學(xué)性能，從而影響產(chǎn)品的品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供ー種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置，其目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中，由于充氧量調(diào)節(jié)需人工手動(dòng)調(diào)節(jié)，導(dǎo)致調(diào)節(jié)不準(zhǔn)確，從而影響膜的光學(xué)性能及產(chǎn)品品質(zhì)的問題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是ー種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置，包括氣控閥、壓強(qiáng)単元及電離單元；其中氣控閥包括閥體、活動(dòng)閥芯；閥體的一端上設(shè)有輸氣管道，輸氣管道由進(jìn)氣端和出氣端組成；所述閥體的另一端上設(shè)有閥腔；所述進(jìn)氣端和出氣端分別設(shè)有與閥腔連通的氣控ロ ；所述活動(dòng)閥芯設(shè)置在閥體內(nèi)的閥腔中，活動(dòng)閥芯的頭部對(duì)應(yīng)所述氣控ロ設(shè)有密封墊，其尾部上套設(shè)有電磁線圏，活動(dòng)閥芯與電磁線圈之間設(shè)有彈簧；[0008]所述壓強(qiáng)単元及電離單元與電磁線圈電連接。本實(shí)用新型的工作原理是首先由電離單元測(cè)量當(dāng)前真空度是多少，然后比較壓強(qiáng)単元所設(shè)的真空度數(shù)值，當(dāng)電離單元測(cè)到的真空度比設(shè)定的真空度高吋，壓強(qiáng)單元就調(diào)整變壓器輸出電壓到電磁線圈，電磁線圈產(chǎn)生磁力把活動(dòng)閥芯吸起，打開氣控ロ，這時(shí)氣體就從進(jìn)氣端內(nèi)通過管路充氣到鍍膜機(jī)內(nèi)，這時(shí)，鍍膜機(jī)的真空度就會(huì)反應(yīng)到電離單元上，電離單元測(cè)到真空度有所下降，比較所測(cè)真空度與壓強(qiáng)設(shè)定差別，再輸出電壓調(diào)整電磁力的大小，直到所測(cè)定真空度與壓強(qiáng)單元設(shè)定真空度相同，電壓的調(diào)節(jié)范圍在很短的時(shí)間內(nèi)完成。自動(dòng)壓強(qiáng)控制是把真空計(jì)與氣體流量控制閥配合，實(shí)現(xiàn)氧氣充氣的自動(dòng)控制，由一個(gè)微處理器跟蹤監(jiān)控充氣過程，自動(dòng)調(diào)節(jié)進(jìn)氣速度，充氣速度平穩(wěn)，可在相當(dāng)短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡地真空度。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)I、由于本實(shí)用新型使用，自動(dòng)壓強(qiáng)控制則會(huì)更穩(wěn)定可靠，它會(huì)根據(jù)真空度自動(dòng)調(diào)節(jié)電磁閥電壓大小，能在1-3秒之內(nèi)就可完成充氧到設(shè)定的真空度，誤差小，真空度維持速度快。

附圖I為現(xiàn)有技術(shù)針形真空微調(diào)閥結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中1、旋鈕；2、刻度盤；3、密封圈；4、旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)軸；5、密封針頭；6、充氣孔；7、壓強(qiáng)單元；8、電離單元；9、彈簧；10、活動(dòng)閥芯；11、密封墊；12、電磁線圈；13、閥體；
14、進(jìn)氣端；15、出氣端；16、電源線；17、閥腔。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)ー步描述實(shí)施例如圖2所示，ー種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置，包括氣控閥、壓強(qiáng)単元7及電離單元8 ;其中氣控閥包括閥體13、活動(dòng)閥芯10 ;閥體13的一端上設(shè)有輸氣管道18，輸氣管道18由進(jìn)氣端14和出氣端15組成；所述閥體13的另一端上設(shè)有閥腔17 ;所述進(jìn)氣端14和出氣端15分別設(shè)有與閥腔17連通的氣控ロ ；所述活動(dòng)閥芯10設(shè)置在閥體13內(nèi)的閥腔17中，活動(dòng)閥芯10的頭部對(duì)應(yīng)所述氣控ロ設(shè)有密封墊11，其尾部上套設(shè)有電磁線圈12，活動(dòng)閥芯10與電磁線圈12之間設(shè)有彈簧9 ;所述壓強(qiáng)単元7及電離單元8與電磁線圈12電連接。使用時(shí)，首先由電離單元8測(cè)量真空鍍膜機(jī)內(nèi)當(dāng)前真空度是多少，然后比較壓強(qiáng)単元7所設(shè)的真空度數(shù)值，當(dāng)電離單元8測(cè)到的真空度比壓強(qiáng)單元7所設(shè)定的真空度高吋，壓強(qiáng)單元7就調(diào)整變壓器輸出電壓到電磁線圈12，電磁線圈12產(chǎn)生磁力把活動(dòng)閥芯10吸起，打開氣控ロ(圖中未示出)，圖中箭頭所示為氣路走向，這時(shí)氣體就從進(jìn)氣端14內(nèi)通過輸氣管道18充氣到真空鍍膜機(jī)內(nèi)，這時(shí)，真空鍍膜機(jī)的真空度就會(huì)反應(yīng)到電離單元8上，電離單元8測(cè)到真空度有所下降，比較所測(cè)真空度與壓強(qiáng)單元7所設(shè)定真空度之間的差別，再輸出電壓調(diào)整電磁線圈12電磁力的大小，直到所測(cè)定真空度與壓強(qiáng)單元7設(shè)定真空度相同，電壓的調(diào)節(jié)范圍在很短的時(shí)間內(nèi)完成。流量控制閥是利用通電線圈的磁場(chǎng)強(qiáng)度使經(jīng)過特別處理的鐵磁物質(zhì)磁化，從而使閥體與活動(dòng)閥芯的磁感應(yīng)強(qiáng)度發(fā)生變化，這樣閥體與活動(dòng)閥芯之間也發(fā)生變化，氣體流量則跟隨改變其大小。閥座與閥桿之間的間隙與流量電磁閥電壓有一個(gè)確定的對(duì)應(yīng)關(guān)系，儀器根據(jù)所設(shè)定的壓強(qiáng)和當(dāng)前真空度，微處理器通過調(diào)節(jié)電磁閥電壓的大小，當(dāng)真空度低 時(shí)電磁閥的間隙小，充氧量也會(huì)少；當(dāng)真空度高吋，電磁閥的間隙就大，充氧量就大，直至充氧量達(dá)到所設(shè)定的真空度，從而達(dá)到壓強(qiáng)的快速穩(wěn)定控制。上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1 ー種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置，其特征在于包括氣控閥、壓強(qiáng)単元(7)及電離單元⑶；其中氣控閥包括閥體(13)、活動(dòng)閥芯(10);閥體(13)的一端上設(shè)有輸氣管道(18)，輸氣管道(18)由進(jìn)氣端(14)和出氣端(15)組成；所述閥體(13)的另一端上設(shè)有閥腔(17);所述進(jìn)氣端(14)和出氣端(15)分別設(shè)有與閥腔(17)連通的氣控ロ ； 所述活動(dòng)閥芯(10)設(shè)置在閥體(13)內(nèi)的閥腔(17)中，活動(dòng)閥芯(10)的頭部對(duì)應(yīng)所述氣控ロ設(shè)有密封墊(11)，其尾部上套設(shè)有電磁線圈(12)，活動(dòng)閥芯(10)與電磁線圈(12)之間設(shè)有彈簧(9)； 所述壓強(qiáng)単元(7)及電離單元(8)與電磁線圈(12)電連接。
專利摘要一種真空鍍膜機(jī)內(nèi)充氧量自動(dòng)控制裝置，包括氣控閥、壓強(qiáng)單元及電離單元；其中氣控閥包括閥體、活動(dòng)閥芯；閥體的一端上設(shè)有輸氣管道，輸氣管道由進(jìn)氣端和出氣端組成；所述閥體的另一端上設(shè)有閥腔；所述進(jìn)氣端和出氣端分別設(shè)有與閥腔連通的氣控口；所述活動(dòng)閥芯設(shè)置在閥體內(nèi)的閥腔中，活動(dòng)閥芯的頭部對(duì)應(yīng)所述氣控口設(shè)有密封墊，其尾部上套設(shè)有電磁線圈，活動(dòng)閥芯與電磁線圈之間設(shè)有彈簧；所述壓強(qiáng)單元及電離單元與電磁線圈電連接。本方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中，由于充氧量調(diào)節(jié)需人工手動(dòng)調(diào)節(jié)，導(dǎo)致調(diào)節(jié)不準(zhǔn)確，從而影響膜的光學(xué)性能及產(chǎn)品品質(zhì)的問題。
文檔編號(hào)C23C14/54GK202482428SQ201120552928
公開日2012年10月10日 申請(qǐng)日期2011年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月27日
發(fā)明者朱文斌 申請(qǐng)人:蘇州靈菱照明鍍膜科技有限公司