專利名稱：層疊體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及可作為太陽能電池模塊用保護板的層疊體及其制造方法。
背景技術(shù)：
近年，出于地球環(huán)境保護的觀點，期待安全性更高的清潔能源。將來期待的清潔能源中，特別是太陽能電池，由于它的清潔性、安全性和易操作性，受到越來越高的期待。太陽能電池中將太陽光轉(zhuǎn)換成電能的心臟部為電池(々>)，該電池廣泛使用由單晶、多晶或無定形硅類的半導體構(gòu)成的電池。該電池通常多個串聯(lián)或并聯(lián)配線，此外，為了能夠長時間地維持其功能，用各種材料進行保護，用作為太陽能電池模塊。太陽能電池模塊通常是這樣的結(jié)構(gòu)用強化玻璃覆蓋電池的面朝太陽光側(cè)的那面，用背板(back sheet)密封背面，在電池和強化玻璃之間的間隙、電池和背板之間的間隙 內(nèi)分別填充由熱塑性樹脂(尤其是乙烯-醋酸乙烯酯聚合物(以下稱為EVA))構(gòu)成的填充劑。太陽能電池模塊要求20 30年左右的產(chǎn)品質(zhì)量保證。由于太陽能電池模塊主要在室外使用，因此要求其構(gòu)成材料具有耐候性。強化玻璃和背板承擔著防止由模塊內(nèi)部的水分引起的劣化的作用，也要求防潮性。強化玻璃不僅防潮性優(yōu)異而且透明性、耐候性也優(yōu)異，但是，塑性、耐沖擊性、操作性等低。因此，人們研究了使用樹脂板，尤其是耐候性優(yōu)異的氟樹脂板代替強化玻璃。但是，樹脂板與強化玻璃相比存在著防潮性低的問題。針對上述問題，有人提出在樹脂板上設(shè)置無機氧化物的蒸鍍薄膜作為防潮層。例如，專利文獻I中提出了層疊氟樹脂板和具有無機氧化物的蒸鍍薄膜的樹脂板的保護板。此外，專利文獻2中提出了在氟樹脂板的一個面上設(shè)置無機氧化物的蒸鍍薄膜，進而，為了提高耐候性，設(shè)置了防污層和/或紫外線吸收層的保護板。但是，上述防潮層與樹脂板的密合性差，以與該防潮層相接的方式設(shè)置了填充劑層來構(gòu)成太陽能電池模塊時，存在防潮層從樹脂板剝離的問題。如果由于該剝離而在樹脂板和填充劑層之間產(chǎn)生間隙，則發(fā)生水分進入等情況，導致太陽能電池模塊的耐久性下降。針對上述問題，有人提出在樹脂板和無機氧化物的蒸鍍薄膜之間設(shè)置用于提高密合性的層(密合層)。例如在專利文獻3中，在氟類樹脂基材層和無機氧化物的蒸鍍薄膜層之間設(shè)置含有丙烯酸多元醇和/或聚酯多元醇以及異氰酸酯化合物的復合體的混合物的結(jié)合層(日語力一-一卜層)。此外，專利文獻4提出在由基材和無機氧化物構(gòu)成的蒸鍍層之間設(shè)置使含有噁唑啉基的樹脂和由聚(甲基)丙烯酸和/或聚(甲基)丙烯酸與共聚單體的共聚物構(gòu)成的丙烯酸類樹脂以特定的比率反應(yīng)而得到的、具有酰胺酯部位的樹脂構(gòu)成的蒸鍍用底涂層。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I:日本專利特開2000-138387號公報
專利文獻2:日本專利特開2000-208795號公報專利文獻3:日本專利特開2009-158778號公報專利文獻4:日本專利特開2010-16286號公報

發(fā)明內(nèi)容
但是，即使設(shè)置了上述密合層，還是存在氟樹脂板與上述防潮膜之間的密合性的長期穩(wěn)定性低的問題。本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的發(fā)明，提供耐候性、防潮性優(yōu)異，層間的密合性及其長期穩(wěn)定性也優(yōu)異的層疊體及其制造方法。
解決上述課題的本發(fā)明具有以下方式。[I] 一種層疊體，其特征在于，按照含有氟樹脂的基材板、含有丙烯酸樹脂的密合層、以選自無機氧化物、無機氮化物和無機氮氧化物中的至少一種無機化合物為主成分的防潮層的順序?qū)盈B而成，上述基材板的與上述密合層相接的面的表面組成為氮原子比率O. 2原子％以上3. O原子％以下且氧原子比率I. O原子％以上5. O原子％以下,其中，上述表面組成通過X射線光電子能譜分析測定。[2]如上述[I]所述的層疊體，上述丙烯酸樹脂在分子鏈中具有選自紫外線吸收基團、紫外線穩(wěn)定化基團和構(gòu)成聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的基團中的至少一種基團。3.如上述[I]或[2]所述的層疊體，上述氟樹脂為乙烯一四氟乙烯類共聚物。[4]如上述[I] [3]中任一項所述的層疊體，上述防潮層含有Si化合物或Al化合物作為上述無機化合物。[5]如上述[I] [4]中任一項所述的層疊體，可見光透射率為80%以上。[6] 一種太陽能電池模塊用保護板，其特征在于，使用上述[I] [5]中任一項所述的層疊體。[7] 一種層疊體的制造方法，該方法是制造上述[I] [6]中任一項所述的層疊體的方法，其特征在于，具有采用輝光放電對含有氟樹脂的基材板的至少一個面進行表面處理，以使得通過X射線光電子能譜分析測定的表面組成中的氮原子比率為O. 2原子％以上3. O原子％以下且氧原子比率為I. O原子％以上5. O原子％以下的工序；在上述基材板的具有上述表面組成的面上涂布含有上述丙烯酸樹脂的涂布液以形成上述密合層的工序；和通過干法在上述密合層上形成上述防潮層的工序。[8]如上述[7]所述的層疊體的制造方法，上述輝光放電中的氣氛氣體含有選自惰性氣體和含氮氣體中的至少一種氣體。[9]如上述[7]所述的層疊體的制造方法，上述輝光放電中的氣氛氣體是含有惰性氣體、含碳氧化物氣體和聚合性不飽和氧化氣體的混合氣體。通過本發(fā)明，可以提供耐候性、防潮性優(yōu)異，層間的密合性及其長期穩(wěn)定性也優(yōu)異的層疊體及其制造方法。
具體實施例方式本發(fā)明的層疊體是按照含有氟樹脂的基材板、含有丙烯酸樹脂的密合層、以選自無機氧化物、無機氮化物和無機氮氧化物中的至少一種無機化合物為主成分的防潮層的順序?qū)盈B而成的層疊體。以下，對本發(fā)明進行詳細說明?！椿陌濉禈?gòu)成基材板的氟樹脂只要是在樹脂的分子結(jié)構(gòu)式中含有氟原子的熱塑性樹脂即可，沒有特別限定，可以使用各種公知的含氟樹脂。具體可以例舉四氟乙烯類樹脂、氯代三氟乙烯類樹脂、偏氟乙烯類樹脂、氟乙烯類樹脂、這些樹脂中任意2種以上的復合物等。其中，特別是出于耐候性、防污性等優(yōu)異的觀點，優(yōu)選四氟乙烯類樹脂或氯代三氟乙烯類樹月旨，特別優(yōu)選四氟乙烯類樹脂。四氟乙烯類樹脂具體可以例舉聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯-全氟(烷氧基乙烯)共聚物(PFA)、四氟乙烯-六氟丙烯-全氟(烷氧基乙烯)共聚物(EPE)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯-乙烯共聚物(ETFE)、乙烯-三氯氟乙烯共聚物(ETCFE)等。 根據(jù)需要，這些樹脂可以分別再聚合少量的共聚單體成分。上述共聚單體成分只要是能夠與構(gòu)成各樹脂的其他單體(例如ETFE時為四氟乙烯和乙烯)共聚的單體即可，例如可以例舉以下化合物。CF2=CFCl、CF2=CH2 等含氟乙烯類；CF2=CFCF3^ CF2=CHCF3 等含氟丙烯類；CH2=CHC2F5, CH2=CHC4F9, CH2=CFC4F9, CH2=CF (CF2) 3H 等具有碳數(shù)為 2 10 的氟代烷
基的含氟烷基乙烯類；CF2=CFO (CF2CFXO)mRf(式中，Rf表示碳數(shù)I 6的全氟烷基，X表示氟原子或三氟甲基，m表示I 5的整數(shù))等全氟(烷基乙烯醚)類；CF2=CF0CF2CF2CF2C00CH3 或 CF2=CFoCF2CF (CF3) OCF2CF2SO2F 等具有可容易地轉(zhuǎn)變?yōu)轸然蚧撬峄幕鶊F的乙烯基醚類等。四氟乙烯類樹脂優(yōu)選上述例子中的PFA、FEP、ETFE或ETCFE，特別是出于成本、機械強度、濺射成膜性等方面考慮，優(yōu)選ETFE。ETFE是以乙烯單元和四氟乙烯單元為主體的共聚物。這里，“單元”是指構(gòu)成聚合
物的重復單元。構(gòu)成ETFE的全部單元中，乙烯單元和四氟乙烯單元的合計含量優(yōu)選90摩爾％以上，更優(yōu)選95摩爾％以上，也可以是100摩爾％。ETFE中的乙烯單元/四氟乙烯單元的摩爾比優(yōu)選40/60 70/30，更優(yōu)選40/60 60/40。根據(jù)需要，ETFE可以具有少量的共聚單體成分單元。該共聚單體成分單元中的共聚單體成分可以例舉與上述同樣的成分。具有共聚單體成分單元時，構(gòu)成ETFE的全部單元中的共聚單體成分單元的含量優(yōu)選O. 3 10摩爾％，更優(yōu)選O. 3 5摩爾％。氯代三氟乙烯類樹脂可以例舉例如將上述四氟乙烯類樹脂中的四氟乙烯取代為氯代三氟乙烯的樹脂。具體可以例舉例如氯代三氟乙烯均聚物(CTFE)、乙烯一氯代三氟乙烯共聚物(ECTFE)等?；陌逯泻械姆鷺渲梢允且环N或兩種以上?；陌蹇梢允莾H由氟樹脂構(gòu)成的基材板，也可以是由氟樹脂和其他熱塑性樹脂的混合樹脂構(gòu)成的基材板。但是，考慮到本發(fā)明的效果，優(yōu)選基材板以氟樹脂為主成分。氟樹脂在基材板中占有的比例，相對于基材板的總質(zhì)量優(yōu)選50質(zhì)量％以上，更優(yōu)選70質(zhì)量％以上。所述其他的熱塑性樹脂可以例舉例如丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、尼龍樹月旨、聚乙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂等。此外，也可以使用混合了顏料、紫外線吸收劑、炭黑、碳纖維、碳化硅、玻璃纖維、云母等添加劑和填充劑等的樹脂。基材板的與密合層相接的面的表面組成(通過X射線光電子能譜分析測定)為氮原子比率O. 2原子％ (atomic%(以下記為at%))以上、3. 0at%以下且氧原子比率I. 0at%以上5. 0at%以下。通過氧原子比率在I. 0at%以上，與由EVA等構(gòu)成的填充劑層的初期密合性提高，通過氮原子比率在O. 2at%以上，可以長期維持充分的密合性。另一方面，如果氧原 子比率或氮原子比率超過上述范圍的上限，為了達到各原子比率而進行的表面處理的處理能變大，處理層變厚，存在密合性的長期穩(wěn)定性下降的擔憂。氮原子比率優(yōu)選O. 2at%以上不足3. 0at%,更優(yōu)選O. 2at%以上2. 5at%以下。氧原子比率優(yōu)選I. 0at%以上不足5. 0at%,更優(yōu)選2. 0at%以上4. 0at%以下。這里，“表面組成”是通過X射線光電子能譜分析測定的存在于該基材板表面(從最外表面至深度2 5nm的范圍內(nèi))的原子濃度(atomic concentration),通過以下的測定順序求出。(表面組成的測定順序)可以使用X射線光電子能譜分析裝置(例如阿夫巴克法伊公司(7 W V ” 7^社)制μ -ESCA "O。2000)，通過在檢測角度45度下的測量光譜，用附帶的解析軟件算出。
上述表面組成中的氮原子比率和氧原子比率通過對該表面進行特定的表面處理來調(diào)節(jié)。具體而言，通過對含有氟樹脂的基材板(未處理的基材板)的至少一個面進行采用輝光放電的表面處理(以下稱為輝光放電處理)以使其表面組成(通過X射線光電子能譜分析測定)中氮原子比率為O. 2at%以上3. 0at%以下且氧原子比率為I. 0at%以上5. 0at%以下，得到具有該表面組成的基材板。進行輝光放電以外的放電處理，例如電暈放電處理或電弧放電處理時，氧原子比率的值容易變大，難以將表面組成控制在希望的范圍內(nèi)。輝光放電處理可以使用公知的表面處理裝置實施，可以通過調(diào)節(jié)此時的處理條件(氣氛氣體、溫度、壓力、處理強度等)來調(diào)節(jié)上述氮原子比率和氧原子比率。例如，如果在特定的氣氛氣體下進行輝光放電處理，氣氛氣體被等離子體化，由于該等離子體的作用，特定的官能團(氨基等含氮官能團以及羧基、羰基、羥基等含氧官能團)被導入到基材板表面，氮原子比率或氧原子比率增加?？梢酝ㄟ^此時的氣氛氣體的組成來調(diào)節(jié)導入的官能團的種類和導入量。此外，處理強度越大，導入的官能團的量越多，氮原子比率或氧原子比率增大。輝光放電處理例如可通過在相對電極間配置基材板并將基材板的進行表面處理的面暴露于氣氛氣體中，然后在該相對電極間施加O. 5kHz IOOkHz左右的高頻電壓來實 施。如果該電壓不足O. 5kHz,由于等離子體密度低，因此，處理較為耗時，如果超過100kHz，輝光放電容易轉(zhuǎn)變成電弧放電。如果輝光放電轉(zhuǎn)變成電弧放電，有密合性的長期穩(wěn)定性不充分的擔憂。
氣氛氣體優(yōu)選含有惰性氣體或含氮氣體的氣體。也可以將惰性氣體和含氮氣體混合使用。其中，由于至少含有惰性氣體時產(chǎn)生安全且更穩(wěn)定的輝光放電，因此特別優(yōu)選。惰性氣體(稀有氣體)可以例舉氦氣、氬氣、氖氣、氪氣、氙氣、氡氣等。其中,優(yōu)選氦氣、氬氣，特別優(yōu)選氬氣。惰性氣體下的輝光放電處理是通過除去含有含氟樹脂的基材板的表面上存在的微量含氟樹脂的劣化物(例如ETFE板時為ETFE劣化物)且抑制其聚合物主鏈的切斷，從而使該基材板表面活化。因此，通過在惰性氣體下進行輝光放電處理，在基材板表面附近產(chǎn)生等離子體后使該基材表面與空氣接觸，能夠使其形成含氮官能團和含氧官能團。這些反應(yīng)分別稱為后氮化反應(yīng)、后氧化反應(yīng)。此外，進行所述反應(yīng)的處理稱為采用輝光放電的表面處理后的氮化反應(yīng)處理或氧化反應(yīng)處理。輝光放電處理的氣氛氣體中含有的氧多時，后氮化反應(yīng)不易發(fā)生。因此，為了使表面組成中的氮原子量比在O. 2at%以上，優(yōu)選氣氛氣體中的氧濃度為I摩爾％以下。
含氮氣體優(yōu)選氮氣、氨氣等。如果在含氮氣體氣氛下進行輝光放電處理，在基材板表面附近產(chǎn)生氮等離子體。通過該等離子體，含氮官能團被導入基材板表面的聚合物中，基材板表面的氮原子比率提高，密合性的長期穩(wěn)定性提高。此外，如果此時在該表面附近存在氧，則也形成含氧官能團。但是，氣氛氣體中含有的氧多時，不易形成含氮官能團。因此，為了使表面組成中的氮原子量比在O. 2at%以上，優(yōu)選氣氛氣體中的氧濃度為I摩爾％以下。根據(jù)需要，氣氛氣體可以含有上述惰性氣體和含氮氣體之外的其他氣體。所述其他氣體可以例舉含碳氧化物氣體、聚合性不飽和化合物氣體等?？梢栽谶M行在含碳氧化物氣體氣氛下的輝光放電處理后，進行氮化反應(yīng)處理，或者，也可以在進行在聚合性不飽和化合物氣體氣氛下的輝光放電處理后，進行氮化反應(yīng)處理或氮化反應(yīng)處理和氧化反應(yīng)處理。碳氧化物氣體可以例舉二氧化碳氣體、一氧化碳氣體等。特別優(yōu)選二氧化碳氣體，因為能夠得到與氟樹脂、特別是與ETFE強固密合的表面反應(yīng)物。如果在碳氧化物氣體氣氛下進行輝光放電處理，含氧官能團被導入基材板表面的聚合物中，基材板表面的氧原子比率提高，密合性提高。氣氛氣體中含有的碳氧化物氣體多時，存在氮官能團的導入量不足，密合性的長期穩(wěn)定性不充分的擔憂。因此，氣氛氣體中的碳氧化物濃度優(yōu)選10摩爾％以下。聚合性不飽和化合物氣體可以例舉乙烯氣體、丙烯氣體等具有雙鍵的化合物氣體，優(yōu)選乙烯氣體。如果在聚合性不飽和化合物氣體氣氛下進行輝光放電處理，官能團被有效導入，密合性提高。如果聚合性不飽和化合物氣體的量相對于惰性氣體或含氮氣體過多，則初期放電電壓變高，放電處理變難。因此，氣氛氣體中的聚合性不飽和化合物濃度優(yōu)選10摩爾％以下。在上述氣體中，氣氛氣體優(yōu)選惰性氣體、氮氣或惰性氣體和含碳氧化物氣體和聚合性不飽和化合物氣體的混合氣體,特別優(yōu)選該混合氣體。混合氣體中的惰性氣體/含氮氧化物氣體的比率(摩爾比)優(yōu)選100/1 100/15。此外，惰性氣體/聚合性不飽和化合物氣體的比率(摩爾比)優(yōu)選100/3 100/10。
輝光放電處理時的壓力只要是能夠維持氣氛氣體狀態(tài)的壓力即可，沒有特別限定，可以在減壓下進行也可以在大氣壓附近的壓力下進行。由于可以不使用昂貴的裝置，因此優(yōu)選在大氣壓附近的壓力下進行。此外，在大氣壓附近的壓力下進行時，沒有必要使處理空間為密閉體系，可以在開放體系或低氣密性體系下處理。在開放體系或低氣密性體系下進行處理時，由于空氣流入氣氛中，因此供給的氣氛氣體中即使不含氮氣和氧氣，基材板表面也能導入足夠的含氮官能團和含氧官能團。上述大氣壓附近的壓力通常在6. 7 X IO4 I. I X IO5Pa (500 800托)的范圍內(nèi)，優(yōu)選9. 3 X IO4 I. OX IO5Pa (700 780托)的范圍內(nèi)。輝光放電處理時的溫度沒有特別限定。通常在10 80°C的范 圍內(nèi)，更優(yōu)選在25 60°C的范圍內(nèi)。輝光放電處理的處理強度(電力X處理時間/處理面積、單位W · min/m2)優(yōu)選100 1500W · min/m2,更優(yōu)選220 800W · min/m2。該處理強度越大,越可以增大氮原子比率或氧原子比率，提高初期密合性。但是，如果該處理強度過強，則氮原子比率或氧原子比率變得過大，且處理層變厚，容易從基材板表面脫離，存在密合性的長期穩(wěn)定性下降的擔憂。如上所述，通過對未處理的基材板的至少一個面進行采用輝光放電處理的表面處理以使表面組成的氮原子比率和氧原子比率在特定的范圍內(nèi)，可得到能夠用于本發(fā)明的基材板?；陌宓男螤詈统叽绺鶕?jù)目的適當決定即可，沒有特別限定。例如，將該層疊體用作為太陽能電池模塊用保護板時，根據(jù)太陽能電池模塊的形狀和尺寸適宜決定即可。從強度的觀點考慮，基材板的厚度優(yōu)選10 μ m以上，更優(yōu)選20 μ m以上。該厚度的上限根據(jù)目的適宜決定即可，沒有特別限定。例如，將該層疊體配置在太陽能電池模塊的電池的面朝太陽光的那一側(cè)用作為保護板時，從高透光率引起發(fā)電效率提高的觀點考慮，越薄越好，具體而言，優(yōu)選300 μ m以下，更優(yōu)選IOOym以下。<密合層>密合層含有丙烯酸樹脂。丙烯酸樹脂只要是能夠形成膜的丙烯酸樹脂即可，可以使用公知的丙烯酸樹脂，例如在涂料材料等領(lǐng)域使用的丙烯酸樹脂。例如可以例舉聚(甲基)丙烯酸、分子鏈中導入了官能團的聚(甲基)丙烯酸等。該官能團可以例舉例如部分或全部氫原子可以被其它原子或基團取代的烴基、該烴基的部分碳原子被氮原子、氧原子等雜原子取代的基團、聚硅氧烷結(jié)構(gòu)等。上述烴基可以是芳香族烴基，也可以是不具有芳香性的脂肪族烴基。芳香族烴基可以例舉例如苯基、節(jié)基、蔡基等。脂肪族經(jīng)基可以是燒基、環(huán)燒基等飽和經(jīng)基，也可以是鏈稀基、環(huán)稀基等不飽和經(jīng)基。上述烴基的部分碳原子被雜原子取代的基團沒有特別限定，優(yōu)選例可以例舉含有苯并三唑、二苯酮、三嗪、環(huán)酰亞胺、嗎啉、四氫呋喃、己內(nèi)酯等雜環(huán)的基團。上述聚硅氧烷結(jié)構(gòu)可以例舉例如使烷氧基硅烷在水中與烷氧基甲硅烷基反應(yīng)(水解、縮合)而形成的基團。這些官能團可以在丙烯酸樹脂的分子鏈中、主鏈的末端鍵合，也可以在側(cè)鏈鍵合。出于導入的容易度等考慮，優(yōu)選在側(cè)鏈上鍵合。丙烯酸樹脂中含有的官能團的種類可以是I種也可以是2種以上。丙烯酸樹脂特別優(yōu)選在分子鏈中具有選自紫外線吸收基團、紫外線穩(wěn)定化基團和構(gòu)成聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的基團中的至少一種基團的丙烯酸樹脂。由此，得到的層疊體的耐候性、密合性的長期穩(wěn)定性進一步提高。紫外線吸收基團具有紫外線吸收功能即可，也可以與通常在紫外線吸收劑中用作為紫外線吸收基團的基團相同。尤其優(yōu)選苯并三唑類、二苯酮類或三嗪類紫外線吸收基團。紫外線穩(wěn)定化基團是例如通過紫外線產(chǎn)生的自由基、可將活性氧等捕集或惰性化的基團，也可以與通常在紫外線穩(wěn)定劑中用作為紫外線穩(wěn)定化基團的基團相同。特別優(yōu)選哌啶基等受阻胺類的紫外線穩(wěn)定化基團。聚硅氧烷結(jié)構(gòu)可以例舉與上述相同的結(jié)構(gòu)。 丙烯酸樹脂使用通過自由基聚合等公知的合成法合成的丙烯酸樹脂即可，也可以使用市售品。例如，具有紫外線吸收基團和紫外線穩(wěn)定化基團的丙烯酸樹脂可以例舉日本觸媒株式會社(日本觸媒社)制的〃 ^ ^ 7' ·; 'y Y uv-G等。具有聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的丙烯酸樹脂可以例舉JSR公司制的夕f七9等。為了進一步提高耐水解性，密合層優(yōu)選含有固化劑。可以作為與上述丙烯酸樹脂的反應(yīng)生成物而含有該固化劑，也可以以未反應(yīng)的狀態(tài)含有該固化劑。固化劑可以根據(jù)使用的丙烯酸樹脂從公知的固化劑中適宜選擇。從耐候性這一點考慮，固化劑尤其優(yōu)選含有選自聚異氰酸酯化合物、環(huán)氧樹脂、含有噁唑啉基的樹脂、錫化合物、鋁化合物以及鋯化合物中的至少一種。固化劑的混合量根據(jù)使用的固化劑適宜設(shè)定即可，沒有特別限定，相對于丙烯酸樹脂100質(zhì)量份,通常在O. I 20質(zhì)量份的范圍內(nèi)，優(yōu)選I 10質(zhì)量份。此外，也可以混合作為改善密合性的硅烷偶聯(lián)劑和著色劑的染料、顏料、紫外線吸收劑等。從彎曲等性能優(yōu)異的方面考慮，密合層優(yōu)選通過濕式涂布法形成的涂膜。具體而言，該密合層可以通過在上述基材板的具有上述表面組成的面上涂布含有上述丙烯酸樹脂的涂布液并制膜而形成。涂布液可以使用將上述丙烯酸樹脂溶解在溶劑中而成的樹脂溶液或者在該樹脂溶液中混合上述固化劑而成的組合物溶液。涂布液中的丙烯酸樹脂的濃度根據(jù)要形成的密合層的膜厚適當設(shè)定即可。通常為
O.5 50質(zhì)量％，優(yōu)選I 20質(zhì)量％。溶劑只要是能夠溶解所混合的成分的溶劑即可，可以使用水，也可以使用有機溶劑。涂布液的涂布方法可以適用一般的濕式涂布法?？梢岳e如旋涂法、凹版涂布法、輥涂法、棒涂法、逆轉(zhuǎn)輥涂法、模涂法、噴涂法等，使用任何一種方法均可。涂布液的涂布量根據(jù)要形成的密合層的膜厚適當設(shè)定即可。通過使由涂布形成的涂膜干燥可以制造涂膜。干燥可以通過常溫下的風干進行，優(yōu)選通過加熱干燥進行。出于尺寸穩(wěn)定性這一點考慮，加熱干燥的溫度優(yōu)選40 150°C。出于防潮性、確保與基材板的密合性的觀點考慮，密合層的膜厚優(yōu)選IOOnm以上，更優(yōu)選200nm以上。此外，出于維持透光性、維持層疊體整體的可撓性、確保與基材板的密合性的觀點考慮，優(yōu)選5 μ m以下，更優(yōu)選I μ m以下?！捶莱睂印捣莱睂右赃x自無機氧化物、無機氮化物和無機氮氧化物中的至少一種無機化合物為主成分。這里，“主成分”是指上述無機氧化物在該防潮層中的比例為95摩爾％以上。優(yōu)選上述無機氧化物在防潮層中的比例為100摩爾％。即，優(yōu)選防潮層由上述無機氧化物構(gòu)成或含有上述無機氧化物。上述無機氧化物可以例舉氧化硅、金屬氧化物等。該金屬氧化物中的金屬可以例舉鋁、鈦、鋅、鎂等。該氧化物尤其優(yōu)選氧化硅(Si0x、0〈x ( 2)、氧化鋁(A10x、0〈x < I. 5)。上述無機氮化物可以例舉氮化硅(SiNx、0〈x ( I. 3)、氮化鋁(Α1Νχ、0〈χ ( I)等。上述無機氮氧化物可以例舉氮氧化硅(SiO具、0〈x〈l、0〈y〈l)等。由于透明性、阻擋水蒸氣性能等優(yōu)異，無機氧化物優(yōu)選Si化合物或Al化合物，Si化合物特別優(yōu)選選自 SiOx (0〈x ( 2)、SiNx (0<x ( I. 3)和 SiOxNy (0〈x〈l、0〈y〈l)中的至少一種，此外，Al化合物優(yōu)選AlOx (0〈x < I. 5)。防潮層可以通過干法形成，也可以通過濕法形成，優(yōu)選干法。通過干法形成的膜(蒸鍍膜)與通過濕法形成的膜相比，膜厚均勻，與上述密合層的密合性也高。干法可以例舉物理蒸鍍法(PVD法)、化學蒸鍍法(CVD法)等。PVD法可以例舉如真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等，可以使用任一種方法。其中，特別優(yōu)選濺射法，因為濺射法不僅產(chǎn)率優(yōu)異、在工業(yè)上廣泛使用，而且可以獲得非常致密且與上述密合層的密合性高的膜厚均勻的膜。濺射法可以使用直流濺射法、高頻濺射法、交流濺射法等中的任意一種。出于能夠在大面積基體上以較快的成膜速度有效成膜等產(chǎn)率優(yōu)異這幾點，優(yōu)選直流濺射法或交流濺射法。CVD法可以例舉等離子體CVD法、催化劑CVD法、熱CVD法等，使用任何一種方法均可。其中，由于等離子體CVD法能夠在低溫下形成均勻且致密的膜，故而優(yōu)選。防潮層的具體形成條件可以根據(jù)使用的方法和材料適宜設(shè)定。例如AlOx膜通過使用鋁靶、在含氧氣氛中濺射成膜而得到。此時，通過在靶上施加間歇性的負直流電壓的方法，有效抑制成膜時的弧光(了一今 > 々'')產(chǎn)生，能夠增大投入電力，長時間維持更大的成膜速度。此時的具體濺射條件可根據(jù)裝置的種類、靶組成等諸條件發(fā)生變化，因此可適宜選擇。通常優(yōu)選排真空至1.3X10_3 1.3X10_2Pa(lX10_5 1X10_4托)后，以0:100 90:10的流量比將氬和氧導入容器內(nèi)，在濺射氣體壓O. I
I.3Pa (I X I(T3 10 X I(T3 托)、電密度 O. 5 5ff/cm2 下進行。防潮層可以是單一層構(gòu)成的層，也可以是由材質(zhì)不同(例如主成分為無機化合物)不同的多層構(gòu)成的層。出于防潮性的觀點，防潮層的膜厚(由多層構(gòu)成時為合計膜厚)優(yōu)選IOnm以上。如果過厚則存在由于發(fā)生裂紋而防潮性下降的擔憂，因此優(yōu)選IOOOnm以下，更優(yōu)選IOOnm以下。本發(fā)明的層疊體由于具有上述結(jié)構(gòu)，因此耐候性、防潮性優(yōu)異，各層間的密合性及其長期穩(wěn)定性也優(yōu)異。即，由于密合層含有丙烯酸樹脂，密合層和防潮層之間的密合性高。此外，由于含有含氟樹脂的基材板的耐候性、耐熱性和耐化學品性優(yōu)異，該基材板的與密合層相接的面具有特定的表面組成，基材板與密合層之間的密合性高，長期穩(wěn)定性也優(yōu)異。因此，層疊體整體的密合性及其長期穩(wěn)定性高。因此，本發(fā)明的層疊體可用作為太陽能電池模塊用保護板。例如，由于層疊體整體的密合性及其長期穩(wěn)定性高，將該層疊體配置成防潮層側(cè)的面成為EVA等填充劑層側(cè)的太陽能電池模塊不易產(chǎn)生基材板和填充劑層之間的密合強度下降。此外，含有含氟樹脂的基材板不僅耐候性、耐熱性和耐化學品性優(yōu)異，而且防污性也優(yōu)異。因此，將該層疊體配置成太陽能電池模塊的最外層成為該基材板時，該太陽能電池模塊表面不易粘附灰塵和碎屑，可以長期地防止由于污潰引起的性 能下降。此外，該層疊體中，基材板、密合層和防潮層各自的透明性高，層疊體整體的透明性高。因此，該層疊體可以用作為保護太陽能電池模塊中電池單元面朝太陽光的那一側(cè)的保護板。將本發(fā)明的層疊體用作為太陽能電池模塊中電池單元面朝太陽光那一側(cè)的保護板時，該層疊體的可見光透射率優(yōu)選80%以上，更優(yōu)選90%以上。其上限越高越好，因此沒有特別限定，但實際為98%左右。實施例以下，將上述實施方式的具體例子作為實施例進行說明。還有，本發(fā)明并不局限于以下的實施例。以下各例中使用的測定方法和評價方法如下所示。[采用ESCA測定表面組成]使用X射線光電子能譜分析裝置(阿夫巴克法伊公司(7 h、J ” 7八社)制μ -ESCA "O。2000)，根據(jù)在檢測角45度下的測量光譜，用附帶的解析軟件(^ f)x'y ^ )算出表面組成[原子濃度(at%)]。以單色AlKa射線(26. OOeV)為激發(fā)X射線，在24. 9W的輸出功率下測定。[可見光透射率的測定]使用分光器(產(chǎn)品名“UV-3100PC”，島津株式會社制)測定分光透射光譜，以JISR3106-1998為基準，從該測定值算出。[各層的膜厚]使用分光橢偏儀裝置(產(chǎn)品名“M-2000DI ”，J. A烏蘭日本公司(J. A. W00LLAMJAPAN)制)測定膜厚，采用WVASE32(J.A烏蘭日本公司制)通過光學擬合(fiitting)算出。[密合性的評價(密合強度的測定)]將在實施例和比較例中得到的層疊體切割成尺寸IOcmX IOcm而得到的層疊體以及切割成相同尺寸的EVA薄膜(普利司通株式會社(71 卜 >社)制W25CL)配置成ETFE膜/丙烯酸樹脂層/防潮層/ EVA膜的順序(只有比較例3是ETFE膜/防濕層/EVA膜的順序)，用熱壓機(旭硝子株式會社制)在壓力10kgf/cm、面積120cm2、溫度150°C、時間10分鐘的條件下熱壓接，得到試驗片。接著,將各試驗片切割成IcmX IOcm的尺寸,使用奧利安泰克公司(才I) 二 > f夕社)制拉伸萬能試驗機RTC-1310A，以JIS K 6854-2為基準，在拉伸速度50mm/分鐘下，測定180°剝離試驗(peeling)中的密合強度(剝離粘結(jié)強度，單位N/cm)。密合強度的測定在耐候性試驗前(初期)和以下耐候性試驗I或II之后實施。耐候性試驗I :以JIS-B7753為基準，使用日光碳弧燈式耐候性試驗機(須賀試驗機株式會社制日光耐候性試驗機(寸 W開'一^ 一夕一)δ300)進行。耐候性試驗II :使用艾斯派克公司々社)制f f 7 PL-IKPH恒溫高濕器進行85°C、85%RH環(huán)境耐候性試驗。[實施例I]對50 μ m厚的ETFE膜(商品名7 77，旭硝子株式會社制)，在純度99. 99體積％的氮氣氣氛下，在頻率40Hz、電壓上升時間I. 5微秒、下降時間I. 5微秒、脈沖持續(xù)時 間20微秒、30°C大氣壓下,進行處理密度354W · min/m2的輝光放電表面處理。該表面處理后的表面組成的測定結(jié)果示于表I。接著，在丙烯酸樹脂Al (商品名> O 4 7'' V y K UV-G13、日本觸媒株式會社制，將紫外線吸收基團和紫外線穩(wěn)定化基團(受阻胺光穩(wěn)定化基團(HALS))化學接入樹脂骨架中的丙烯酸樹脂)100質(zhì)量份中加入固化劑(商品名二一> N3200、住化巴艾聚氨酯株式會社(住化>社)制)2. 8質(zhì)量份，用甲苯稀釋，配制樹脂濃度為10質(zhì)量％的涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2，膜厚為Ιμπι。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社(卜々社)制)內(nèi)，抽真空至6. 7Χ 10_4Pa(5X 10_6托)左右后，以鋁為靶，將氬氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂Al/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[實施例2]對50 μ m厚的ETFE膜(商品名'T V V ” 7，旭硝子株式會社制)，在由氬氣/乙烯氣體/ 二氧化碳氣體=100/7/2 (摩爾比)構(gòu)成的混合氣體氣氛下，在頻率40Hz、電壓上升時間I. 5微秒、下降時間I. 5微秒、脈沖持續(xù)時間20微秒、30°C、大氣壓下，進行處理密度300W · min/m2的輝光放電表面處理。該表面處理后的表面組成的測定結(jié)果不于表I。接著，在上述丙烯酸樹脂Al (商品名/、> P、4 7'' 'J -y K UV-G13、日本觸媒株式會社制)100質(zhì)量份中加入固化劑(商品名7— > N3200、住化巴艾聚氨酯株式會社制)2. 8質(zhì)量份，用甲苯稀釋，配制樹脂濃度為10質(zhì)量％的涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2,膜厚為I μ m。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社(卜 '、，々社)制)內(nèi)，抽真空至6. 7X 10_4Pa(5X 10_6托)左右后，以鋁為靶，將氬氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂Al/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[比較例I]使用表面處理裝置(春日電機株式會社(春日電機社)制)，在空氣(25°C、大氣壓)中對50 iim厚的ETFE膜(商品名7 > 〃々 >，旭硝子株式會社制)進行采用電暈放電的表面處理。接著，在上述丙烯酸樹脂Al (商品名/、> P、4 7'' V -y F UV-G13、日本觸媒株式會社制)100質(zhì)量 份中加入固化劑(商品名7 7 -7' - — > N3200、住化巴艾聚氨酯株式會社制)2. 8質(zhì)量份，用甲苯稀釋，配制樹脂濃度為10質(zhì)量％的涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2,膜厚為I ii m。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社制)內(nèi)，抽真空至6. 7 X KT4Pa (5 X 1(T6托)左右后，以招為祀，將IS氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂Al/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[實施例3]對50 ii m厚的ETFE膜(商品名7 77，旭硝子株式會社制)，在純度99. 99體積％的氮氣氣氛下，在頻率40Hz、電壓上升時間I. 5微秒、下降時間I. 5微秒、脈沖持續(xù)時間20微秒、30°C、大氣壓下,進行處理密度354W min/m2的輝光放電表面處理。該表面處理后的表面組成的測定結(jié)果示于表I。接著，在含有丙烯酸樹脂A2的液體(商品名夕M f七9 T8306, JSR公司制，使含有烷氧基甲硅烷基的丙烯酸樹脂和烷氧基硅烷反應(yīng)(水解、共縮合)而得到的水解縮合物溶液)100質(zhì)量份中混合固化劑(商品名-.m * H553，JSR公司制，氧化鋯改性化合物)6質(zhì)量份，配制涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2，膜厚為lym。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社制)內(nèi)，抽真空至6. 7 X KT4Pa (5 X 1(T6托)左右后，以招為祀，將IS氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂A2/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[實施例4]對50 iim厚的ETFE膜(商品名7，旭硝子株式會社制)，在由氬氣/乙烯氣體/ 二氧化碳氣體=100/7/2 (摩爾比)構(gòu)成的混合氣體氣氛下，在頻率40Hz、電壓上升時間I. 5微秒、下降時間I. 5微秒、脈沖持續(xù)時間20微秒、30°C、大氣壓下，進行處理密度300W min/m2的輝光放電表面處理。該表面處理后的表面組成的測定結(jié)果不于表I。接著，在上述含有丙烯酸樹脂A2的液體(商品名夕M f七9 T8306, JSR公司制)100質(zhì)量份中混合固化劑(商品名7力H553，JSR公司制)6質(zhì)量份，配制涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2，膜厚為lum。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社制)內(nèi)，抽真空至6. 7 X KT4Pa (5 X 1(T6托)左右后，以招為祀，將IS氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂A2/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[比較例2]
使用表面處理裝置(春日電機株式會社(春日電機社)制)，在空氣(25°C、大氣壓)中對50 iim厚的ETFE膜(商品名.JW" >，旭硝子株式會社制)進行采用電暈放電的表面處理。接著，在上述含有丙烯酸樹脂A2的液體(商品名夕M f七9 T8306, JSR公司制)100質(zhì)量份中混合固化劑(商品名7力H553，JSR公司制)6質(zhì)量份，配制涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2，膜厚為lum。將該帶有涂膜的ETFE膜設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社制)內(nèi)，抽真空至6. 7 X IO^4Pa (5 X 10_6托)左右后，以招為祀，將IS氣導入50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂A2/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。[實施例5]對50 iim厚的ETFE膜(商品名7 V ” 7，旭硝子株式會社制)，在由氬氣/乙烯氣體/ 二氧化碳氣體=100/7/2 (摩爾比)構(gòu)成的混合氣體氣氛下，在頻率40Hz、電壓上升時間I. 5微秒、下降時間I. 5微秒、脈沖持續(xù)時間20微秒、30°C、大氣壓下，進行處理密度300W min/m2的輝光放電表面處理。該表面處理后的表面組成的測定結(jié)果不于表I。接著，在上述丙烯酸樹脂Al (商品名/、> P、4 7'' 'J ” F UV-G13、日本觸媒株式會社制)100質(zhì)量份中加入固化劑(商品名7 7 7 — > N3200、住化巴艾聚氨酯株式會社制)2. 8質(zhì)量份，用甲苯稀釋，配制樹脂濃度為10質(zhì)量％的涂布液。用棒式涂布器將該涂布液涂布在上述ETFE膜的表面處理面上，在60°C烘箱內(nèi)干燥30分鐘，形成涂膜。該涂膜的干燥質(zhì)量為lg/m2,膜厚為I ii m。將該涂有涂膜的ETFE膜安裝在等離子體化學蒸鍍裝置內(nèi)的送出輥上，在以下條件下，在其涂膜側(cè)的表面上形成膜厚IOOnm的氮氧化硅蒸鍍膜(CVD膜)。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂Al/氮氧化硅(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。(蒸鍍條件)反應(yīng)氣體混合比甲娃燒/氮氣=100sccm/1000sccm到達真空度5 X KT4Pa成膜壓力1. OPa電極施加電力2kW膜搬送速度lm/min[實施例6]按照與實施例5同樣的順序制造涂有涂膜的ETFE膜(ETFE膜/丙烯酸樹脂Al)，將該涂有涂膜的ETFE膜配置在電子束蒸鍍裝置(昭和真空株式會社(昭和真空社)制)內(nèi)，按照以下條件，在其涂膜側(cè)的表面形成膜厚IOOnm的氧化鋁的蒸鍍膜。由此，得到由ETFE膜/丙烯酸樹脂Al/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果示于表I。(蒸鍍條件)反應(yīng)氣體混合比氧氣=20sccm到達真空度5 X KT4Pa
成膜壓力0.04Pa施加電壓IOkV電流密度80mA蒸鍍源A1 (4N :純度99. 99%以上)成膜時間3秒[比較例3]將50 ii m厚的ETFE膜(商品名7 W” + ,旭硝子株式會社制)設(shè)置在濺射裝置(特機株式會社制)內(nèi)，抽真空至6. 7 X IO-4Pa (5 X 10_6托)左右后，以鋁為靶，將氬氣導A 50sccm腔體內(nèi)，將氧氣導入3sccm腔體內(nèi)，通過DC電壓320V使其放電。通過開閉遮斷器控制成膜時間，由此制成20nm的氧化鋁薄膜。由此，得到由ETFE膜/氧化鋁(防潮層)構(gòu)成的層疊體。測定該層疊體的可見光透射率(％)和密合強度(初期以及耐候性試驗后)。其結(jié)果不于表I。[表I]
權(quán)利要求
1.一種層疊體，其特征在干，按照含有氟樹脂的基材板、含有丙烯酸樹脂的密合層、以選自無機氧化物、無機氮化物和無機氮氧化物中的至少ー種無機化合物為主成分的防潮層的順序?qū)盈B而成，上述基材板的與上述密合層相接的面的表面組成為氮原子比率0. 2原子％以上3. 0原子％以下且氧原子比率I. 0原子％以上5. 0原子％以下,其中，上述表面組成通過X射線光電子能譜分析測定。
2.如權(quán)利要求I所述的層疊體，上述丙烯酸樹脂在分子鏈中具有選自紫外線吸收基團、紫外線穩(wěn)定化基團和構(gòu)成聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的基團中的至少ー種基團。
3.如權(quán)利要求I或2所述的層疊體，上述氟樹脂為こ烯一四氟こ烯類共聚物。
4.如權(quán)利要求I 3中任一項所述的層疊體，上述防潮層含有Si化合物或Al化合物作為上述無機化合物。
5.如權(quán)利要求I 4中任一項所述的層疊體,可見光透射率為80%以上。
6.ー種太陽能電池模塊用保護板，其特征在于，使用權(quán)利要求I 5中任ー項所述的層疊體。
7.一種層疊體的制造方法，該方法是制造權(quán)利要求I 6中任一項所述的層疊體的方法，其特征在于，具有采用輝光放電對含有氟樹脂的基材板的至少ー個面進行表面處理，以使得通過X射線光電子能譜分析測定的表面組成中的氮原子比率為0. 2原子％以上3. 0原子％以下且氧原子比率為I. 0原子％以上5. 0原子％以下的エ序；在上述基材板的具有上述表面組成的面上涂布含有上述丙烯酸樹脂的涂布液以形成上述密合層的エ序；和通過干法在上述密合層上形成上述防潮層的エ序。
8.如權(quán)利要求7所述的層疊體的制造方法，上述輝光放電中的氣氛氣體含有選自惰性氣體和含氮氣體中的至少ー種氣體。
9.如權(quán)利要求7所述的層疊體的制造方法，上述輝光放電中的氣氛氣體是含有惰性氣體、含碳氧化物氣體和聚合性不飽和氧化氣體的混合氣體。
全文摘要
提供耐候性、防潮性優(yōu)異，層間的密合性及其長期穩(wěn)定性也優(yōu)異的層疊體及其制造方法。一種層疊體，其特征在于，按照含有氟樹脂的基材板、含有丙烯酸樹脂的密合層、以選自無機氧化物、無機氮化物和無機氮氧化物中的至少一種無機化合物為主成分的防潮層的順序?qū)盈B而成，上述氟樹脂板的與上述密合層相接的表面的表面組成(通過X射線光電子能譜分析測定)為氮原子比率0.2原子%以上3.0原子%以下且氧原子比率1.0原子%以上5.0原子%以下。
文檔編號C23C16/34GK102781659SQ201180012169
公開日2012年11月14日 申請日期2011年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月5日
發(fā)明者中尾卓也, 志堂寺榮治, 有賀広志, 木原直人 申請人:旭硝子株式會社