專利名稱：門驅動器和閉門器的殼體和結構部件的紫外激光暴露的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種門操作器或閉門器，其中，門操作器或閉門器包括至少一個殼體、接納單元以及至少一個活塞，該活塞被支撐，以能夠在該接納單元中移動。
背景技術：
門操作器是一種用于自動地打開和關閉門的裝置。門可以例如是擺動門(swingleaf door)或滑動門。然而，閉門器僅用于自動地關閉門。在該情況下，特別是門扇到門框中或者與門框有關的運動，門操作器或閉門器起作用。已知這樣實施門操作器或閉門器，即:使得圓柱狀接納單元位于門操作器或閉門器的殼體中?；钊恢?，以能夠在該接納單元中移動。特別是在閉門器中，一旦打開門，則活塞的運動具有使彈簧張緊或者為對應的能量積聚單元充能的效果。如果在打開狀態(tài)中的門被釋放，則儲存在彈簧或能量積聚單元中的能量用于關閉門。此外，已知通過合適的方法例如借助于閥來節(jié)流的流體移位，控制并且調節(jié)閉門器的關閉速度，以及此外同樣地門操作器中的打開速度。門操作器或閉門器的殼體中的優(yōu)選地圓柱狀的接納單元確實地包圍活塞，同樣優(yōu)選地圓柱狀的活塞的圓周表面與殼體的接納單元的內周表面接觸。一旦致動門操作器或閉門器，即在門的打開過程和/或關閉過程期間，并由此一旦使活塞在殼體的接納單元的內部移動，則殼體的接納單元的內周表面和活塞的圓周表面的表面沿彼此滑動。由此，產生的摩擦可能產生可以被認為是干擾的噪音。此外，可能產生磨耗，這可能不利地影響門操作器或閉門器的運行。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供一種在引言中描述的類型的門操作器或閉門器，該門操作器或閉門器的結構部件特別是殼體中的接納單元和活塞被處理，使得提高了門操作器或閉門器的高耐磨性，并且減少了·門操作器或閉門器在致動期間的磨耗。根據(jù)本發(fā)明，通過具有本專利申請的獨立權利要求1的特征的門操作器或閉門器解決了該問題。本發(fā)明的進一步的特征和細節(jié)在從屬權利要求和說明書中說明。借助于引言中提到的類型的門操作器或閉門器解決了該問題，其中，通過暴露于電磁輻射，特別是紫外線范圍中來處理門操作器或閉門器的至少一個殼體的接納單元的表面和/或至少一個活塞的表面。該處理改進了接納單元和/或所述至少一個活塞的表面，使得提高了高耐磨性并因此減少了磨耗。例如，使接納單元的表面和/或所述至少一個活塞(的表面)的不規(guī)則部變得平滑。例如，若干活塞可以設置在凸輪式閉門器中。在門操作器或閉門器的一個優(yōu)選實施例中，接納單元和/或所述至少一個活塞的表面已經被暴露于脈沖準分子激光器的電磁輻射。準分子激光器產生紫外波范圍的電磁輻射。分子、特別是氣體分子用作激光作用介質。在該情況下，例如，氣體是諸如氫氣、氬氣或氙氣，或者惰性氣體齒化物，諸如氟化氬或溴化氙的組合。準分子激光器能夠達到數(shù)千赫茲的重復頻率，其中脈沖能量直到超過1000毫焦耳。因此，使得能夠對接納單元和/或所述至少一個活塞的金屬表面進行特定處理。
根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施例，在電磁輻射中，以具有如下能量密度的電磁輻射處理門操作器或閉門器的所述至少一個殼體的接收單元和/或所述至少一個活塞的表面，即:使得當與所述至少一個殼體和/或所述至少一個活塞的其余的材料相比時，各個表面會在微米范圍內、特別是直到達到從0.5微米到2.5微米的深度上具有改進的材料結構。在該情況下，該改進的材料結構比未以光進行處理的門操作器或閉門器的區(qū)域具有更高的強度和/或更光滑的表面光潔度。借助于將高能量密度施加到接納單元和/或所述至少一個活塞的金屬表面中，該表面被在微小范圍下熔融。由此，當表面隨后再硬化時，使在制造接納單元和/或所述至少一個活塞時產生的凹槽和溝道變得平滑。此外，一旦硬化，則使金屬中的晶體結構再生，由此可以實現(xiàn)表面的更高的強度。
在發(fā)明的門操作器或發(fā)明的閉門器的另一個優(yōu)選實施例中，提出了以電磁輻射的這樣的能量密度處理接納單元的表面和/或至少一個活塞的表面，即:使得由于在微米范圍內，特別是直到達到從0.5微米到2.5微米的深度上的處理期間等離子體的形成，該表面比門操作器或閉門器的未以光進行處理的區(qū)域具有更高的氮含量。當通過以這樣的能量密度的暴露處理接納單元和/或所述至少一個活塞的表面時，即:使得其中來自環(huán)境空氣的氮氣已經被離子化并已經形成部分的等離子體。一旦等離子體冷卻以及因伴附隨地重組，則氮原子已經被引入金屬的晶格中，而所述至少一個殼體和所述至少一個活塞就由該金屬構成。因此，經處理的表面具有比門操作器的或閉門器的未經光處理的區(qū)域更高的氮含量。較高的氮含量造成接納單元和/或所述至少一個活塞的較高的表面強度，由此降低了在本發(fā)明的門操作器或本發(fā)明的閉門器的操作期間的磨損和磨耗。
此外，可以以電磁輻射的如下能量密度處理本發(fā)明的門操作器或發(fā)明的閉門器的接納單元的表面和/或所述至少一個活塞的表面，即:使得由于在微米范圍內，特別是直到達到從0.5微米到2.5微米的深度上的處理期間等離子體的形成，該表面可以具有比門操作器或閉門器的未以光進行處理的區(qū)域更低的石墨含量。門操作器或閉門器的結構部件特別是所述至少一個殼體和所述至少一個活塞優(yōu)選地由特別以灰色鑄鐵鑄造方法生產的鑄造材料制造。在該情況下，石墨的形狀的碳被添加于鐵中。從而，鑄鐵變得非常硬，并因此非常合適作為用于門操作器或用于閉門器的材料。石墨在材料中以石墨粒子的形式存在。該粒子與周圍的鐵相比相當?shù)剀?。一旦使門操作器或閉門器以及在接納單元和/或所述至少一個活塞之間的與門操作器或閉門器相關的摩擦致動，則產生了主要由石墨組成的磨耗。通過以高能量密度的電磁輻射的處理，暴露在接納單元和/或所述至少一個活塞的表面處的石墨粒子被加熱并且隨后蒸發(fā)。因此，在處理之后，門操作器或閉門器的以光進行處理的區(qū)域中的石墨粒子含量比處理之前低。因此，在門操作器或閉門器的操作期間，能夠避免磨耗特別是含有石墨的磨耗。
將從以下的說明中產生本發(fā)明的進一步的優(yōu)點、特征和細節(jié)，在以下的說明中，參照附圖詳細地描述了本發(fā)明的示例性實施例。在本發(fā)明中，權利要求書和說明書中提及的單獨或隨機組合的特征對本發(fā)明而言可以是必需的。



附圖及附圖的說明旨在更好地理解本發(fā)明的門操作器或發(fā)明的閉門器。通過相同的附圖標記表示本質上相同或類似的物品或物品的組件。附圖只是本發(fā)明的可能的實施例的示意圖，在附圖中，圖1:示出了發(fā)明的閉門器的透視圖，圖2:示出了根據(jù)圖1的發(fā)明的閉門器的殼體的透視截面圖，圖3:示出了根據(jù)圖1的發(fā)明的閉門器的活塞的透視圖。
具體實施例方式在圖1中示出了發(fā)明的閉門器I的實施例的示意性透視圖。在該情況下，閉門器I的機械部件被殼體2包圍。通過可旋擰的端板4，殼體2的內部是能夠進入的。在閉門器I的內部，借助于軸3致動機械部件。(不可見的)活塞7被以可移動的方式保持在殼體2的接納單元5中，并經由軸3驅動。由于對活塞7的表面8、接納單元5的表面6分別進行本發(fā)明的處理，減小了閉門器I的結構部件之間的摩擦。因此，能夠提高閉門器I的高耐磨性和使用期限。圖2示出了根據(jù)圖1的發(fā)明的閉門器I的殼體2的示意性透視截面圖。未示出其它結構部件。接納單元5的內周表面6是清晰可 見的。表面6的本發(fā)明的處理允許在操作閉門器I時減小摩擦。圖3示出了發(fā)明的閉門器I的活塞7的示意性透視圖。帶齒齒條9與軸3 (未示出)的對應地構造的部分嚙合，并造成活塞7在殼體2的接納單元5中的運動。在該情況下，活塞7的圓周表面8承靠在殼體2的接納單元5的內周表面6上。由于以強烈的激光例如在紫外線范圍中的對表面6、8的本發(fā)明的處理，表面硬化、變得平滑，并且已經消除了石墨粒子。因此，具有這樣經處理的結構部件的閉門器I以及同樣類似地構造的門操作器具有較少的磨損、較低的噪音產生以及較長的使用期限。圖1至圖3中所示的元件同樣可以說明門操作器。所述的優(yōu)點與所述的閉門器的優(yōu)點相同。附圖標記列表I 門操作器或閉門器2 殼體3 軸4 端板5 殼體中的接納單元6 接納單元的內周表面

7 活塞8 活塞的圓周表面9 帶齒齒條
權利要求
1.一種門操作器或所述閉門器(I)，所述門操作器或閉門器(I)具有至少一個殼體(2)和至少一個活塞(7)，所述活塞被支撐，用以能夠在所述至少一個殼體(2)的接納單元(5)中移動，其特征在于，所述接納單元(5)的表面(6)和/或所述至少一個活塞(7)的表面(8)已經通過暴露于電磁輻射進行處理。
2.根據(jù)權利要求1所述的門操作器或閉門器(I)，其特征在于:所述表面(6，8)暴露于的所述電磁輻射包括脈沖準分子激光器的光。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的門操作器或閉門器(I)，其特征在于:以具有如下能量密度的電磁輻射處理所述接納單元(5)的表面(6)和/或所述至少一個活塞(7)的表面(8)，即:使得與所述殼體⑵和/或所述至少一個活塞(7)的材料的其余部分相比，所述接納單元(5)的所述表面(6)和/或所述至少一個活塞(7)的所述表面(8)在微米范圍內，特別是直到達到從0.5微米至2.5微米的深度上具有改進的材料結構，其中，所述改進的材料結構比所述門操作器或所述閉門器(I)的未利用光進行處理的區(qū)域具有更高的強度和/或更光滑的表面光潔度。
4.根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的門操作器或閉門器(I)，其特征在于，所述接納單元(5)的所述表面(6)和/或所述至少一個活塞(7)的所述表面(8)已經以具有如下能量密度的電磁輻射進行處理，即:使得由于光處理期間的等離子體的產生，在微米范圍內，特別是直到達到從0.5微米到2.5微米的深度上，所述表面比所述門操作器或所述閉門器(I)的未以光進行處理的區(qū)域呈現(xiàn)更高的氮含量。
5.根據(jù)權利要求1至4中的任一項所述的門操作器或閉門器(I)，其特征在于，所述接納單元(5)的所述表面(6)和/或所述至少一個活塞(7)的所述表面(8)已經以具有如下能量密度的電磁輻射進行處理，即:使得由于光處理期間的等離子體的產生，在微米范圍內，特別是直到達到從0.5微米至2.5微米的深度上，所述表面比所述門操作器或所述閉門器(I)的未以光進行處理的區(qū)域呈現(xiàn)更低的石墨粒子含量。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種門驅動器或閉門器(1)，該門驅動器或該閉門器(1)具有至少一個殼體(2)和至少一個活塞(7)，該活塞(7)被安裝在該殼體(2)的接納單元(5)中，其中，該接納單元(5)和∕或所述至少一個活塞(7)的表面(6，8)通過暴露于電磁輻射進行處理。
文檔編號C21D1/10GK103249846SQ201180059211
公開日2013年8月14日 申請日期2011年10月25日 優(yōu)先權日2010年11月5日
發(fā)明者蒂姆·武爾勃蘭特 申請人:多瑪兩合有限公司