具有特定形狀的研磨顆粒和此類顆粒的形成方法背景本披露的領(lǐng)域以下是針對研磨物品，并且尤其是研磨顆粒的形成方法。相關(guān)技術(shù)的說明研磨顆粒和由研磨顆粒制成的研磨物品適用于各種材料去除操作，包括碾磨、磨光、以及拋光。取決于研磨材料的類型，此類研磨顆?？梢赃m用于在制品制造中使多種材料和表面成形或?qū)ζ溥M行碾磨。迄今已經(jīng)配制了具有特定幾何形狀的某些類型的研磨顆粒，如三角形的研磨顆粒和結(jié)合此類物體的研磨物品。參看例如美國專利第5,201,916號；第5,366,523號；以及第5,984,988號。已經(jīng)被用以制造具有規(guī)定形狀的研磨顆粒的三種基本技術(shù)是(1)融合、(2)燒結(jié)、以及(3)化學(xué)制陶。在融合過程中，研磨顆粒可以通過面部可以或可以不被雕刻的冷卻輥、其中澆注有熔融材料的模具、或浸于氧化鋁熔融物中的散熱材料來成形。參看例如美國專利第3,377,660號，該專利披露了一種包括以下步驟的方法：使熔融的研磨材料從熔爐流動到冷的旋轉(zhuǎn)的鑄造圓筒上，使材料快速凝固以形成薄的半固體的彎曲薄片，用壓力輥使半固體材料密實，以及接著通過用快速驅(qū)動的冷卻的輸送器將半固體材料條帶拉離圓筒來逆轉(zhuǎn)其彎曲，從而使其部分破裂。在燒結(jié)過程中，研磨顆?？梢杂闪６戎炼嗍?0微米直徑的難熔粉末形成?？梢詫⒄澈蟿┡c潤滑劑和合適溶劑(例如水)一起加入到粉末中。所得混合物、混合物、或漿液可以被成形為具有各種長度和直徑的小片或棒。參看例如美國專利第3,079,242號，該專利披露了一種從煅燒鋁土礦材料制造研磨顆粒的方法，該方法包括以下步驟：(1)將該材料減小為細粉末，(2)在正壓力下壓實并且將所述粉末的細顆粒成型為細粒大小的聚結(jié)物，和(3)在低于鋁土礦的融合溫度的溫度下燒結(jié)顆粒的聚結(jié)物以誘導(dǎo)顆粒的有限再結(jié)晶，從而將研磨細粒直接制造到一定大小?；瘜W(xué)制陶技術(shù)涉及將膠體分散液或水溶膠(有時稱為溶膠)任選地在與其他金屬氧化物前驅(qū)體的溶液的混合物中轉(zhuǎn)化為凝膠或約束組分的移動力的任何其他物理狀態(tài)、干燥、以及燒制以獲得陶瓷材料。參看例如美國專利第4,744,802號和第4,848,041號。然而，在工業(yè)中仍需要改進研磨顆粒和使用研磨顆粒的研磨物品的性能、壽命、以及功效。概述根據(jù)一個第一方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個底座、一個上表面、以及在該上表面與該底座之間延伸的一個側(cè)表面，其中主體具有如該側(cè)表面與該底座之間的角所界定的在約1°與約80°之間的范圍內(nèi)的一個傾角。根據(jù)一個第二方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，其中該顆粒在一個直立位置包括一個傾斜的上表面，并且該顆粒在一個第一端處的高度顯著不同于該顆粒在一個第二端處的高度。根據(jù)一個第三方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個長度(l)、寬度(w)、一個第一高度(h1)以及一個第二高度(h2)，其中在一個直立位置，該第一高度和該第二高度彼此被該主體的該長度或該寬度分隔，并且其中該第一高度比該第二高度大至少約5％，其中高度差被計算為Δh＝[(h1-h2)/h1]×100％。在又另一個方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個長度(l)、寬度(w)以及高度(t)，其中l(wèi)≥w≥h，其中該主體在該顆粒的一個第一端處具有一個第一高度，并且在該顆粒的與該第一端相對的一個第二端處具有一個第二高度，并且該第一高度和該第二高度彼此顯著不同。該主體還包括一個在該第一端與該第二端之間延伸的上表面，其中該上表面具有曲線外形。根據(jù)另一個方面，一種形成研磨物品的方法包括在一個襯底上提供一種混合物，將該混合物成型為一種包括一個主體的成形的研磨顆粒，其中該顆粒在一個直立位置包括一個傾斜的上表面，并且該顆粒在一個第一端處的高度顯著不同于該顆粒在一個第二端處的高度。在再另一個方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒具有一個主體，其中該顆粒在一個直立位置包括一個傾斜的上表面，并且該顆粒在一個第一端處的高度顯著不同于該顆粒在一個第二端處的高度，其中該傾斜的上表面包括一種紋理。根據(jù)一個特定方面，一種研磨物品包括一種成形的研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體在該主體的一個第一端處具有著界定一個上表面、一個第一側(cè)表面與一個第二側(cè)表面之間的一個拐角的一個第一高度(h1)，并且在該主體的與該第一端相對的一個第二端處具有著界定該上表面與一個第三側(cè)表面之間的一個邊緣的一個第二高度(h2)，其中該第一高度與該第二高度之間的平均高度差是至少約50微米。該主體包括了界定一個底部區(qū)域(Ab)的一個底表面，該主體進一步包括了界定與該底部區(qū)域垂直并且延伸穿過該顆粒的一個中點的平面的區(qū)域的一個截面中點區(qū)域(Am)，該主體包括一個不大于約6的底部區(qū)域比中點區(qū)域(Ab/Am)面積比。在另一個特定方面，一種研磨物品包括一種成形的研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個長度(l)、寬度(w)以及一個厚度(t)，其中該長度≥該寬度并且該寬度≥該厚度，其中該主體如在由該主體的該長度和該寬度界定的一個平面中觀察，包括一個選自下組的二維形狀，該組由以下各項組成：橢圓形、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、三角形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、以及其組合。該主體在該主體的一個第一端處包括了界定一個上表面、一個第一側(cè)表面與一個第二側(cè)表面之間的一個拐角的一個第一高度(h1)，并且在該主體的與該第一端相對的一個第二端處包括了界定該上表面與一個第三側(cè)表面之間的一個邊緣的一個第二高度(h2)，其中該第一高度與該第二高度之間的平均高度差是至少約50微米。對于又另一個方面來說，一種研磨物品包括一種成形的研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個長度(l)、一個寬度(w)、以及一個厚度(t)，其中該長度≥該寬度并且該寬度≥該厚度，其中該主體如在由該主體的一個長度和一個寬度界定的一個平面中觀察，包括一個三角形二維形狀。該主體在該主體的一個第一端處包括了界定一個上表面、一個第一側(cè)表面與一個第二側(cè)表面之間的一個拐角的一個第一高度(h1)，并且在該主體的與該第一端相對的一個第二端處包括了界定該上表面與一個第三側(cè)表面之間的一個邊緣的一個第二高度(h2)，其中該第一高度與該第二高度之間的平均高度差是至少約50微米。根據(jù)另一個方面，一種研磨物品包括一種成形的研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體在該主體的一個第一端處具有著界定一個上表面、一個第一側(cè)表面與一個第二側(cè)表面之間的一個拐角的一個第一高度(h1)，并且在該主體的與該第一端相對的一個第二端處具有著界定該上表面與一個第三側(cè)表面之間的一個邊緣的一個第二高度(h2)，其中該主體包括了由方程[(h1-h2)/(h1/h2)]界定的至少是約40微米的一個歸一化的高度差，其中h1大于h2。該主體包括了界定一個底部區(qū)域(Ab)的一個底座，該主體進一步包括了界定與該底部區(qū)域垂直并且延伸穿過該顆粒的一個中點的平面的區(qū)域的一個截面中點區(qū)域(Am)，該主體包括一個不大于約6的底部區(qū)域比中點區(qū)域(Ab/Am)面積比。再，在一個特定方面，一種研磨物品包括一種成形的研磨顆粒的樣品，該樣品包括多個單獨的成形的研磨顆粒，每一個成形的研磨顆粒都具有一個主體，該主體在該主體的一個第一端處具有一個第一高度(h1)并且在該主體的與該第一端相對的一個第二端處具有一個第二高度(h2)，其中h1和h2相對于彼此顯著不同，并且其中該樣品包括至少約20的高度變化。該主體包括了界定一個底部區(qū)域(Ab)的一個底座，該主體進一步包括了界定與該底部區(qū)域垂直并且延伸穿過該顆粒的一個中點的平面的區(qū)域的一個截面中點區(qū)域(Am)，該主體包括一個不大于約6的底部區(qū)域比中點區(qū)域(Ab/Am)面積比。根據(jù)另一個方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個底座、一個上表面、以及在該上表面與該底座之間延伸的一個側(cè)表面，其中主體具有如該側(cè)表面與該底座之間的角所界定的在約1°與約80°之間的范圍內(nèi)的一個傾角。該主體在該顆粒的一個第一端處具有一個第一高度(h1)并且在該顆粒的與該第一端相對的一個第二端處具有一個第二高度(h2)，并且其中一個第一高度和一個第二高度彼此顯著不同。另外，該主體包括了界定一個底部區(qū)域(Ab)的一個底座，該主體進一步包括了界定與該底部區(qū)域垂直并且延伸穿過該顆粒的一個中點的平面的區(qū)域的一個截面中點區(qū)域(Am)，該主體包括一個不大于約6的底部區(qū)域比中點區(qū)域(Ab/Am)面積比。在另一個方面，一種研磨物品包括一種研磨顆粒，該研磨顆粒包括一個主體，該主體具有一個底座、一個上表面、以及在該上表面與該底座之間延伸的一個側(cè)表面，其中主體包括一個三角形的二維形狀、占主體的總面積的至少約30％的底座的面積、以及該顆粒的一個第一端處的一個第一高度(h1)和該顆粒的與該第一端相對的一個第二端處的一個第二高度(h2)，并且其中該第一高度和該第二高度彼此顯著不同。附圖簡要說明通過參考附圖可以更好地理解本披露，并且使其眾多的特征和優(yōu)點為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員清楚。圖1包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖2包括了根據(jù)一個實施例的圖1的研磨顆粒的截面圖示。圖3包括了根據(jù)一個實施例的圖1的研磨顆粒的截面圖示。圖4包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖5包括了根據(jù)一個實施例的圖4的研磨顆粒的截面圖示。圖6包括了根據(jù)一個實施例的圖4的研磨顆粒的截面圖示。圖7包括了根據(jù)一個實施例的圖4的研磨顆粒的截面圖示。圖8包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖9包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖10包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖11包括了根據(jù)一個實施例的用于形成一種研磨顆粒的一種絲網(wǎng)印刷方法的圖。圖12A包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。圖12B包括了圖12A的研磨顆粒的一部分的截面圖示。圖13包括了結(jié)合了根據(jù)一個實施例的研磨顆粒材料的涂布的研磨物品的截面圖示。圖14A-14J提供了根據(jù)一個實施例的成形的研磨顆粒中的每一種成形的研磨顆粒的輪廓儀掃描圖。圖15A-15J提供了根據(jù)一個實施例的成形的研磨顆粒中的每一種成形的研磨顆粒的輪廓儀掃描圖。圖16A-16J提供了常規(guī)成形的研磨顆粒中的每一種成形的研磨顆粒的輪廓儀掃描圖。圖17A-17J提供了常規(guī)成形的研磨顆粒中的每一種成形的研磨顆粒的輪廓儀掃描圖。圖18A和圖18B提供了一種單一粗砂劃痕測試的測試結(jié)果。圖19包括了根據(jù)一個實施例的成形的研磨顆粒的圖像。詳細說明以下是針對研磨物品，并且更具體地說，具有如多面形狀、成形的表面、傾角等特定特征的研磨顆粒。另外，以下詳述了此類研磨顆粒的一種形成方法。根據(jù)在此實施例的研磨顆?？梢员唤Y(jié)合到研磨物品中，如涂布磨料和/或粘結(jié)磨料。可替代地，在此實施例的成形的研磨顆?？梢员挥糜谧杂裳心ゼ夹g(shù)中，包括例如碾磨和/或拋光漿液。圖1包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。如所展示，研磨顆粒100可以具有一個三維形狀，該三維形狀包括一個主體101，該主體101具有一個上表面105和與該上表面105相對的一個底表面106。如進一步展示，該主體101可以被成型成具有側(cè)表面102、103、107、以及108，這些側(cè)表面在該上表面105與該底表面106之間延伸。研磨顆粒100可以被成型成使得主體101包含一種多晶材料。值得注意地，多晶材料可以包括研磨細粒。例如，研磨顆粒100可以是一種聚結(jié)物，該聚結(jié)物包括多個研磨顆粒、粗砂和/或細粒彼此粘結(jié)，從而形成研磨顆粒100的主體101。合適的研磨細?？梢园ǖ?、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、硼氧化物、金剛石、以及其組合。在特定情況下，研磨細?？梢园趸衔锘驈?fù)合物，如氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化釔、氧化鉻、氧化鍶、氧化硅、以及其組合。在一個特定情況下，研磨顆粒100被成型成使得形成主體101的研磨細粒包括氧化鋁，并且更具體地說可以主要由氧化鋁組成。主體101內(nèi)含有的研磨顆?？梢允嵌嗑У?，并且具有一個通常不大于約100微米的平均粒度。在其他實施例中，平均粒度可以是更小的，如不大于約80微米、不大于約50微米、不大于約30微米、不大于約20微米、不大于約10微米、或甚至不大于約1微米。再，主體101內(nèi)含有的研磨細粒的平均尺寸可以是至少約0.01微米，如至少約0.05微米，如至少約0.08微米、至少約0.1微米、或甚至是至少約1微米。應(yīng)了解，研磨細?？梢跃哂幸粋€處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)的平均粒度。根據(jù)某些實施例，研磨顆粒可以是復(fù)合物品，該復(fù)合物品在主體101內(nèi)包括至少兩種不同類型的研磨細粒。應(yīng)了解，不同類型的研磨細粒是相對于彼此具有不同組成的研磨細粒。例如，主體101可以被成型成使得它包括至少兩種不同類型的研磨細粒，其中該兩種不同類型的研磨細粒可以是氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、硼氧化物、金剛石、以及其組合。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒100可以具有一個如通過主體101上可測量的最大尺寸所測量，至少約100微米的平均粒度。實際上，研磨顆粒100可以具有一個至少約150微米、如至少約200微米、至少約300微米、至少約400微米、至少約500微米、至少約600微米、至少約700微米、至少約800微米、或甚至是至少約900微米的平均粒度。再，研磨顆粒100可以具有一個不大于約5mm、如不大于約3mm、不大于約2mm、或甚至不大于約1.5mm的平均粒度。應(yīng)了解，研磨顆粒100可以具有一個處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)的平均粒度。研磨顆粒100可以是一種特別稠密的物體。例如，研磨顆粒100的密度可以是理論密度的至少約90％。在其他情況下，研磨顆粒100的密度可以是更大，如是理論密度的至少約92％、至少約95％、或甚至是至少約97％。如所展示，主體101可以具有一個長度(l)、一個寬度(w)、以及一個高度(h)。根據(jù)一個實施例，主體101可以被成型成使得該長度≥該寬度≥該高度。在特定情況下，主體101可以被成型成具有值至少是1:1的一個一級縱橫比，該一級縱橫比是表示為長度:寬度的比率。在其他情況下，主體101可以被成型成使得一級縱橫比(l:w)是至少約1.5:1，如至少約2:1、至少約4:1、或甚至是至少約5:1。再，在其他情況下，研磨顆粒100可以被成型成使得主體具有一個不大于約10:1、如不大于9:1、不大于約8:1、或甚至不大于約5:1的一級縱橫比。應(yīng)了解，主體101可以具有一個處于以上指出的任何比率之間的范圍內(nèi)的一級縱橫比。此外，應(yīng)了解，在此對高度的提及是研磨顆粒的可測量的最大高度。隨后將描述，研磨顆?？梢栽谘心ヮw粒100的主體101內(nèi)的不同位置處具有不同高度。除一級縱橫比外，研磨顆粒100可以被成型成使得主體101包括二級縱橫比，該二級縱橫比可以被定義為寬度:高度的比率。在某些情況下，二級縱橫比可以處于約5:1與約1:3之間、如約4:1與約1:2之間、或甚至約3:1與約1:2之間的范圍內(nèi)。根據(jù)另一個實施例，研磨顆粒100可以被成型成使得主體包括三級縱橫比，該三級縱橫比由比率長度:高度定義。主體101的三級縱橫比可以處于約10:1與約1.5:1之間、如8:1與約1.5:1之間、如約6:1與約1.5:1之間、或甚至約4:1與約1.5:1之間的范圍內(nèi)。如圖1中所展示，研磨顆粒100可以被成型成使得它可以具有一個三維形狀，該形狀可以是一個多面顆粒形狀。一些合適的多面顆粒形狀可以包括四面體、五面體、六面體、七面體、八面體、九面體、十面體、以及其組合。圖2包括圖1的研磨顆粒的截面圖示。如所展示，當(dāng)在由寬度和高度界定的一個平面(即圖1中的平面AA)中觀察時，研磨顆?？梢跃哂幸粋€大體上多邊形的二維外形。值得注意地，研磨顆粒100可以具有一個大體上梯形的二維形狀。因此，主體101可以具有一個界定一個第一寬度(w1)的上表面105和一個界定一個第二寬度(w2)的底座106。如所展示，研磨顆粒100可以具有一個主體101，其中該底表面106的寬度(w2)大于該上表面105的寬度(w1)。在特定情況下，底表面106的寬度(w2)與上表面105的寬度(w1)之間的差(Δw)可以是至少約5％，其中該差被計算為Δw＝[(w2-w1)/w2]×100％。在其他實施例中，寬度差(Δw)可以是更大，使得第一寬度(w1)與第二寬度(w2)之間的差可以是至少約1％，如至少約2％、至少約3％、至少約4％、至少約5％、至少約7％、至少約10％、至少約12％、或甚至是至少約15％。再，在其他實施例中，底表面106與上表面105之間的寬度差(Δw)可以是不大于約80％，如不大于約70％、不大于約60％、不大于約50％、不大于約40％、或甚至是不大于約30％。應(yīng)了解，底表面106與上表面105的寬度之間的差可以處于以上提供的任何最小與最大百分比之間的范圍內(nèi)。此外，應(yīng)了解，研磨顆粒100可以被成型成使得如在由長度(l)和高度(h)界定的一個平面中觀察，它具有一個大體上梯形的二維形狀，如在圖3中展示。因此，如在由長度和高度界定的一個平面中觀察，研磨顆粒100的二維形狀可以具有相同的底表面106與上表面105之間的寬度差。如圖2中進一步展示，底表面106可以被成型成使得它與研磨顆粒100的主體101的上表面105相比具有一個更大的表面積。根據(jù)一個實施例，主體101可以具有一個底表面106，該底表面106占主體101的總表面積的至少30％。在其他實施例中，底表面106可以占主體101的總表面積的一個更大百分比，如至少約35％、至少約40％、至少約45％、至少約50％、或甚至是至少約60％。再，應(yīng)了解，底表面106可以占主體101的總表面積的不大于約90％，如不大于約80％、或甚至是不大于約75％。底表面106可以占主體101的總表面積處于以上指出的任何最小與最大百分比之間的范圍內(nèi)的量。其中底表面106與其他表面(例如上表面105)相比具有一個更大表面積的一種研磨顆粒的形成可以促進能夠在一個直立位置優(yōu)先定向的一種研磨顆粒的形成。優(yōu)先定向為直立位置是指如圖1中所展示的研磨顆粒的位置。就是說，研磨顆粒100可以被定向成使得上表面105面向上，并且被定位在一個切削位置上以嚙合一個用于研磨應(yīng)用的工件。研磨顆粒100可以被成型成使得它具有一個至少50％的直立定向概率。就是說，當(dāng)研磨顆粒100從一個已知的距離落下時，基于研磨顆粒100的形狀，顆粒優(yōu)先地對準(zhǔn)并且被定向在如圖1中所展示的直立位置。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒100的直立定向概率可以是更大，如至少約50％，如至少約55％、至少約60％、至少約70％、或甚至是至少約80％。在特定情況下，研磨顆粒的直立定向概率可以不大于約99％，如不大于約97％、或甚至是至少不大于95％。應(yīng)了解，研磨顆粒100的直立定向概率可以處于以上指出的任何最小與最大百分比之間的范圍內(nèi)。此外，具有此類直立定向概率的研磨顆粒的形成促進了如涂布磨料的研磨物品的形成，其中研磨顆粒被優(yōu)先定向用于最有效的研磨應(yīng)用。如圖2中進一步展示，研磨顆粒100可以被成型成使得側(cè)表面107和102在上表面105與底表面106之間延伸。如所展示，側(cè)表面107和102相對于由高度界定的一個垂直軸可以是錐形的，因此促成了研磨顆粒100的梯形二維形狀。在其他實施例中，側(cè)表面107和102可以具有曲線形狀。例如，表面107和102可以具有如由點虛線115展示的凸形。在其他實施例中，側(cè)表面107和102可以被成型成具有如由點虛線120展示的一個凹形。如圖2中進一步展示，研磨顆粒100可以被成型成具有一個特定傾角202，該傾角202可以被界定為在側(cè)表面102與底表面106之間相對于一個垂直軸201的角。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒100可以具有一個主體101，其中傾角202可以處于1°與約80°之間的范圍內(nèi)。在其他實施例中，傾角可以處于約5°與55°之間、如約10°與約50°之間、約15°與50°之間、或甚至是約20°與50°之間的范圍內(nèi)。具有這種傾角的一種研磨顆粒100的形成可以改進研磨顆粒100的研磨能力。值得注意地，傾角可以處于以上指出的任何兩個傾角之間的范圍內(nèi)。研磨顆粒100的主體101可以進一步包括一個傾角203，該傾角被界定為相對于垂直軸201在側(cè)表面107與底表面106之間。根據(jù)一個實施例，傾角203可以與傾角202實質(zhì)上相同。再，在其他實施例中，傾角203可以被設(shè)計成不同于傾角202。實際上，傾角203可以被設(shè)計成顯著不同于傾角202，以利于研磨顆粒100的某些特定磨損特性和研磨能力。圖3包括了如在由長度和高度界定的一個平面(即如圖1中所展示的平面BB)中觀察的圖1的研磨顆粒的截面視圖。如在由長度(l)和高度(h)界定的一個平面中觀察，研磨顆粒100可以具有一個大體上多邊形的二維形狀。具體地說，研磨顆粒100可以具有如在由長度和高度界定的平面中觀察是一個大體上梯形的多邊形狀的一個二維形狀。再，如所展示，上表面105可以具有一個曲線外形。就是說，研磨顆粒100的上表面105可以是傾斜的，使得研磨顆粒在研磨顆粒內(nèi)的不同位置處具有一個更大高度。例如，由上表面105在研磨顆粒100的端320處距底表面106的距離界定的高度與研磨顆粒在研磨顆粒100的相對端322處的高度相比不同。實際上，在特定情況下，研磨顆粒的上表面105可以具有一個凹形。關(guān)于此類特征的更多細節(jié)在此更詳細地討論。如進一步展示，研磨顆粒100可以具有一個傾角302，該傾角302被界定為在研磨顆粒100的側(cè)表面101與底表面106之間。傾角302可以與在此描述的傾角202實質(zhì)上相同。在其他情況下，傾角302可以顯著不同于根據(jù)在此實施例所述的任何其他傾角。再，傾角302可以具有一個處于約1°與約80°之間、如約1°與約70°之間、約1°與約60°之間、約5°與約60°之間、約15°與55°之間、約10°與約50°之間、約15°與50°之間、或甚至是約20°與50°之間的范圍內(nèi)的值。另外，研磨顆粒100可以被成型成具有一個傾角303，該傾角被界定為研磨顆粒100的側(cè)表面108與底表面106之間的角。傾角303可以與傾角302相同。然而，在特定實施例中，傾角303可以被成型成一個與傾角302相比顯著不同的角。再，傾角303可以具有一個處于約1°與約80°之間、如約1°與約70°之間、約1°與約60°之間、約5°與約60°之間、如約5°與55°之間、約10°與約50°之間、約15°與50°之間、或甚至是約20°與50°之間的范圍內(nèi)的值。值得注意地，傾角可以處于以上指出的任何兩個傾角之間的范圍內(nèi)。雖然未展示，但應(yīng)了解，側(cè)表面101和108可以包括與側(cè)表面107和102相同的特征。就是說，例如，側(cè)表面101和108可以具有一個曲線外形。此外，曲線外形可以被界定為凹形、凸形、或其組合。圖4包括根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。如所展示，研磨顆粒400包括一個上表面405、與該上表面405相對的一個底表面406、以及在該上表面405與該底表面406之間延伸的側(cè)表面403、402、407、以及408。圖5包括圖4的研磨顆粒的一部分的截面圖示。值得注意地，圖5中展示的研磨顆粒是研磨顆粒400如在由研磨顆粒400的長度(l)和高度(h)界定的一個平面(即圖4的平面CC)中所觀察的截面視圖。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒400可以在該研磨顆粒400的一個第一端501處具有一個第一高度(h1)并且在該研磨顆粒400的一個第二端502處具有一個第二高度(h2)。根據(jù)一個實施例，該第一個端501與該第二端502彼此可以被研磨顆粒400的實質(zhì)上整個長度(l)隔開。根據(jù)一個實施例，該第一高度(h1)與該第二高度(h2)可以彼此顯著不同。在更特定情況下，研磨顆粒400可以被成型成使得該第一高度(h1)與該第二高度(h2)具有至少約5％的差(Δh)，其中高度差被計算為Δh＝[(h1-h2)/h1]×100％，其中h1是該第一高度并且h2是該第二高度，并且該第二高度小于該第一高度。值得注意地，高度差(Δh)可以是至少約8％，如至少約10％、至少約15％、至少約20％、至少約40％、或甚至是至少約50％。再，在其他實施例中，研磨顆粒400可以被成型成使得高度差(Δh)不大于約98％，如不大于約95％、或甚至是不大于約90％。高度差可以處于以上指出的任何百分比之間的范圍內(nèi)。根據(jù)一個特定實施例，研磨顆?？梢跃哂兄辽偌s100微米的一個高度(h1)。實際上，研磨顆粒400可以具有至少約150微米、如至少約175微米、至少約200微米、至少約250微米、至少約300微米、至少約400微米、至少約500微米、至少約600微米、或甚至是至少約700微米的一個高度(h1)。再，研磨顆粒400可以具有不大于約5mm、如不大于約3mm、不大于約2mm、或甚至是不大于約1.5mm的一個高度(h1)。應(yīng)了解，研磨顆粒400可以具有一個處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)的高度(h1)。如進一步展示，上表面405可以是傾斜的，使得它相對于底表面406形成角度。實際上，上表面405可以相對于底表面406界定一個非平行平面。如圖5中進一步展示，在上表面405與底表面406之間延伸的側(cè)表面403和408可以具有大體上曲線的外形。就是說，側(cè)表面403和408具有大體上凹形的外形。圖6包括圖4的研磨顆粒的截面圖示。具體地說，圖6包括如在由研磨顆粒400的寬度和高度界定的一個平面(即圖4的平面AA)中所觀察的截面圖示。值得注意地，在上表面405與底表面406之間延伸的側(cè)表面407和402可以具有曲線外形。更具體地說，側(cè)表面407和402可以具有凹形外形。圖7包括圖4的研磨顆粒的一部分的截面圖示。值得注意地，在由研磨顆粒400的長度和寬度界定的一個平面(即圖4中的平面BB)中觀察圖7的截面圖示。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒400可以被成型成使得它在研磨顆粒的一個第一端701處具有由側(cè)表面403界定的一個第一寬度(w1)。另外，研磨顆粒400可以被成型成使得它在研磨顆粒400的側(cè)表面408處的一個第二端702處具有第二寬度(w2)。值得注意地，該第一端701與該第二端702彼此可以被研磨顆粒400的實質(zhì)上整個長度(l)隔開。研磨顆粒400可以被成型成使得主體如在由長度和寬度界定的平面中觀察，具有一個大體上梯形的二維形狀。因此，研磨顆粒400可以具有一個顯著小于第二寬度(w2)的第一寬度(w1)，其中第一與第二寬度被研磨顆粒400的整個長度隔開。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒400可以被成型成使得第一寬度(w1)與第二寬度(w2)相差至少約2％的差值(Δw)，其中差值(Δw)可以由方程Δw＝[(w2-w1)/w2]×100％計算，其中w2大于w1。在其他實施例中，(w1)與(w2)之間的差值可以是更大，如至少約5％、至少約8％、至少約10％、至少約20％、至少約30％、或甚至是至少約40％。再，寬度差(Δw)可以不大于約98％、不大于約95％、或甚至是不大于約90％。寬度差可以處于以上指出的任何百分比之間的范圍內(nèi)。根據(jù)一個特定實施例，研磨顆?？梢跃哂幸粋€至少約100微米的寬度(w2)。實際上，研磨顆粒400可以具有一個至少約150微米、如至少約175微米、至少約200微米、至少約250微米、至少約300微米、至少約400微米、至少約500微米、至少約600微米、或甚至是至少約700微米的寬度(w2)。再，研磨顆粒400可以具有一個不大于約5mm、如不大于約3mm、不大于約2mm、或甚至是不大于約1mm的寬度(w2)。應(yīng)了解，研磨顆粒400可以具有一個處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)的寬度(w2)。此外，應(yīng)了解，根據(jù)在此實施例形成的任何顆粒的最大長度可以具有與以上關(guān)于寬度(w2)所指出相同的尺寸。圖8包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。如所展示，研磨顆粒800可以包括一個上表面805、與該上表面805相對的一個底表面806、以及在該上表面805與該底表面806之間延伸并且將兩者連接的側(cè)表面803、802、804、以及807。根據(jù)一個實施例，研磨顆粒800可以具有一個上表面805，該上表面805包括一個紋理809。紋理809可以包括一個圖案，該圖案界定了特征的一個陣列。特征的一些合適實例可以包括突出、凹槽、以及其組合。界定紋理809的突出和凹槽可以按一個規(guī)則的陣列安排。就是說，突出和凹槽可以界定特征相對于彼此的一個規(guī)則并且重復(fù)的安排，該安排可以在整個上表面805上具有短距規(guī)則和/或長距規(guī)則。例如，上表面805可以包括凹槽810和突出811，這些凹槽810和突出811在彼此中間并且在研磨顆粒800的上表面805的整個長度上延伸。再，應(yīng)了解，凹槽810和突出811可以在上表面805的總長度的一部分上延伸。在其他情況下，紋理可以由上表面805上的特征的一個不規(guī)則安排界定。例如，上表面805可以包括隨機定向并且隨機定位的特征，如凹槽810和突出811，使得在這些特征之間不存在圖案或規(guī)則。根據(jù)一個實施例，凹槽810和突出811可以相對于彼此定位從而產(chǎn)生扇形邊緣815和816。扇形邊緣815和816可以促進研磨顆粒800的切削能力和易碎性改進。特征的其他系列和安排可以被提供于上表面805上以在上表面805與側(cè)表面803、802、804、以及807之間產(chǎn)生具有某些特征的邊緣。就是說，上表面805的紋理可以利于具有特定特征的邊緣815和816的形成，這些特征可以改進研磨細粒800的研磨能力。以上已經(jīng)描述了一種研磨顆粒800，該研磨顆粒800具有一個紋理化的上表面805。然而，應(yīng)了解，研磨顆粒的其他表面可以被紋理化，包括例如與上表面805相鄰并且成一定角度延伸的側(cè)表面802。此外，研磨顆粒800的表面的一個或多個組合可以被紋理化。在此實施例已經(jīng)針對具有特定形狀的研磨顆粒。雖然以上已經(jīng)展示了如在截面中觀察，具有大體上四個側(cè)面的研磨顆粒，但可以利用其他多面形狀，并且此類多面形狀可以具有特定的多邊形二維形狀。例如，在此實施例的研磨顆?？梢园ň哂幸韵露S形狀的研磨顆粒：三角形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、以及十角形。例如，圖9包括一種研磨顆粒900的截面圖示，該研磨顆粒900如在由寬度和高度界定的一個平面中觀察，具有一個大體上四角形、并且更具體地說是一個矩形二維形狀?？商娲?，圖10包括一種研磨顆粒的透視圖示，該研磨顆粒如在由長度和寬度界定的一個平面中觀察，可以具有一個大體上八角形的二維形狀?，F(xiàn)提及另外的成形的研磨顆粒，在此一個實施例的一種成形的研磨顆?？梢跃哂杏梢韵赂黜椊缍ǖ囊粋€主體：長度(l)，該長度(l)可以是成形的研磨顆粒的任何側(cè)面的最長尺寸；寬度(w)，該寬度(w)被定義為成形的研磨顆粒穿過成形的研磨顆粒的中點的最長尺寸；以及厚度(t)，該厚度(t)被定義為成形的研磨顆粒在垂直于長度和寬度的方向上延伸的最短尺寸。在特定情況下，長度可以大于或等于寬度。此外，寬度可以大于或等于厚度。另外，成形的研磨顆粒的主體可以具有特定的二維形狀。例如，主體如在由長度和寬度界定的一個平面中觀察，可以具有一個具有以下各項的二維形狀：多邊形狀、橢圓形狀、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、利用多邊形狀的組合的復(fù)雜形狀、以及其組合。特定的多邊形狀包括三角形、矩形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、其任何組合。圖12A包括了根據(jù)一個實施例的一種研磨顆粒的透視圖示。另外，圖12B包括了圖12A的研磨顆粒的截面圖示。主體1201包括一個上表面1203、與上表面1203相對的一個底部主表面1204。該上表面1203和該底表面1204可以彼此由側(cè)表面1205、1206、以及1207分隔。如所展示，成形的研磨顆粒1200的主體1201如在由主體1201的長度(l)和寬度(w)界定的上表面1203的一個平面中觀察，可以具有一個大體上三角形的形狀。具體地說，主體1201可以具有長度(l)、延伸穿過主體1201的中點1281的寬度(w)。根據(jù)一個實施例，成形的研磨顆粒的主體1201可以在主體的一個第一端處具有由一個拐角1213界定的一個第一高度(h1)。值得注意地，拐角1213可以表示主體1201上的最大高度的點。拐角可以被定義為主體1201上由上表面1203與兩個側(cè)表面1205和1207的接合所界定的一個點或區(qū)域。主體1201可以進一步包括彼此隔開的其他拐角，包括例如拐角1211和拐角1212。如進一步展示，主體1201可以包括邊緣1214、1215、以及1216，這些邊緣彼此可以被拐角1211、1212、以及1213隔開。邊緣1214可以是由上表面1203與側(cè)表面1206的一個交叉界定。邊緣1215可以由在拐角1211與1213之間上表面1203與側(cè)表面1205的一個交叉界定。邊緣1216可以由在拐角1212與1213之間上表面1203與側(cè)表面1207的一個交叉界定。如進一步展示，主體1201可以在主體的一個第二端處包括一個第二高度(h2)，該第二端由邊緣1214界定，并且進一步與由拐角1213界定的第一端相對。軸1250可以在主體1201的兩端之間延伸。圖12B是主體1201沿著軸1250的一個截面圖示，該軸可以沿著主體1201的這些端之間的寬度(w)的尺寸延伸穿過主體的一個中點1281。根據(jù)一個實施例，在此實施例的成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒)可以具有一個平均高度差，該平均高度差是h1與h2之間的差的量度。更具體地說，平均高度差可以基于來自一種樣品的多個成形的研磨顆粒來計算。樣品可以包括代表性數(shù)目的成形的研磨顆粒，這些顆?？梢噪S機地選自一個批次，如至少8個顆粒、或甚至是至少10個顆粒。一個批次可以是一組成形的研磨顆粒，這些顆粒是以單一成型方法、并且更具體地說是以相同的單一成型方法制造。平均差可以經(jīng)由使用一個STIL(光的科學(xué)與技術(shù)工業(yè)-法國(SciencesetTechniquesIndustriellesdelaLumiere-France))微測量(MicroMeasure)3D表面輪廓儀(白光(LED)色差技術(shù))來測量。在特定情況下，平均高度差[h1-h2](其中h1是更大)可以是至少約50微米。在再其他情況下，平均高度差可以是至少約60微米，如至少約65微米、至少約70微米、至少約75微米、至少約80微米、至少約90微米、或甚至是至少約100微米。在一個非限制性實施例中，平均高度差可以不大于約300微米，如不大于約250微米、不大于約220微米、或甚至不大于約180微米。應(yīng)了解，平均高度差可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。此外，在此成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒)可以具有至少約0.04的成形的研磨顆粒的一個平均高度差[h1-h2]比輪廓長度(lp)的輪廓比，該輪廓比被定義為[(h1-h2)/(lp)]。應(yīng)了解，主體的輪廓長度可以是在整個主體上用以在主體的相對端之間產(chǎn)生h1和h2的數(shù)據(jù)的掃描的長度。此外，輪廓長度可以是由測量的多個顆粒的一種樣品計算的平均輪廓長度。在某些情況下，輪廓長度(lp)可以與在此實施例中所述的寬度相同。根據(jù)一個特定實施例，輪廓比可以是至少約0.05、至少約0.06、至少約0.07、至少約0.08、或甚至是至少約0.09。再，在一個非限制性實施例中，輪廓比可以不大于約0.3，如不大于約0.2、不大于約0.18、不大于約0.16、或甚至是不大于約0.14。應(yīng)了解，輪廓比可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。此外，在此實施例的成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒的主體1201)可以具有一個底表面1204，該底表面界定了一個底部區(qū)域(Ab)。在特定情況下，底表面1204可以是主體1201的最大表面。底表面可以具有被定義為底部區(qū)域(Ab)的一個表面積，該表面積大于上表面1203的表面積。另外，主體1201可以具有一個截面中點區(qū)域(Am)，該截面中點區(qū)域界定了垂直于底部區(qū)域并且延伸穿過顆粒的中點1281的一個平面的一個區(qū)域。在某些情況下，主體1201可以具有一個不大于約6的底部區(qū)域比中點區(qū)域(Ab/Am)面積比。在更特定情況下，面積比可以不大于約5.5，如不大于約5、不大于約4.5、不大于約4、不大于約3.5、或甚至是不大于約3。再，在一個非限制性實施例中，面積比可以是至少約1.1，如至少約1.3、或甚至是至少約1.8。應(yīng)了解，面積比可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。根據(jù)一個實施例，在此實施例的成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒)可以具有至少約40微米的一個歸一化的高度差。歸一化的高度差可以由方程[(h1-h2)/(h1/h2)]界定，其中h1大于h2。在其他實施例中，歸一化的高度差可以是至少約43微米、至少約46微米、至少約50微米、至少約53微米、至少約56微米、至少約60微米、至少約63微米、或甚至是至少約66微米。再，在一個特定實施例中，歸一化的高度差可以不大于約200微米，如不大于約180微米、不大于約140微米、或甚至是不大于約110微米。在另一實施例中，在此成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒)可以具有一個高度變化。在不希望受特定理論束縛的情況下，認(rèn)為成形的研磨顆粒之間的一定高度變化可以改進切削表面的多樣性，并且可以對結(jié)合在此成形的研磨顆粒的一種研磨物品的研磨性能有所改進。高度變化可以被計算為成形的研磨顆粒的一種樣品的高度差的標(biāo)準(zhǔn)差。在一個特定實施例中，一種樣品的高度變化可以是至少約20。對于其他實施例來說，高度變化可以是更大，如至少約22、至少約24、至少約26、至少約28、至少約30、至少約32、或甚至是至少約34。再，在一個非限制性實施例中，高度變化可以是不大于約180，如不大于約150、或甚至是不大于約120。應(yīng)了解，高度變化可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。根據(jù)另一個實施例，在此成形的研磨顆粒(包括例如圖12A和圖12B的顆粒)可以在主體1201的上表面1203中具有一個橢圓形區(qū)域1217。橢圓形區(qū)域1217可以由一個溝槽區(qū)域1218界定，該溝槽區(qū)域1218可以在上表面1203周圍延伸并且界定橢圓形區(qū)域1217。橢圓形區(qū)域1217可以涵蓋中點1281。此外，認(rèn)為在上表面中界定的橢圓形區(qū)域1217可以是成型方法的一個人為結(jié)果，并且可能是由于在成形的研磨顆粒根據(jù)在此描述的方法形成期間施加于混合物的應(yīng)力而形成。此外，根據(jù)在此其他實施例描述的傾角可以適用于主體1201。同樣，在此描述的所有其他特征，如側(cè)表面、上表面、以及底表面的外形、直立定向概率、一級縱橫比、二級縱橫比、三級縱橫比、以及組成，都可以適用于圖12A和圖12B中展示的示例性成形的研磨顆粒。雖然已經(jīng)關(guān)于圖12A和圖12B的研磨顆粒描述了高度差、高度變化、以及歸一化的高度差的以上特征，但應(yīng)了解，此類特征可以應(yīng)用于在此描述的任何其他成形的研磨顆粒，包括例如具有一個實質(zhì)上梯形的二維形狀的研磨顆粒。在此實施例的成形的研磨顆粒可以包括一種摻雜材料，該摻雜材料可以包括如以下各項的一種元素或化合物：堿金屬元素、堿土金屬元素、稀土元素、鉿、鋯、鈮、鉭、鉬、釩、或其組合。在一個特定實施例中，摻雜材料包括了一種元素或化合物，該元素或化合物包括如以下各項的一種元素：鋰、鈉、鉀、鎂、鈣、鍶、鋇、鈧、釔、鑭、銫、鐠、鈮、鉿、鋯、鉭、鉬、釩、鉻、鈷、鐵、鍺、錳、鎳、鈦、鋅、以及其組合。在某些情況下，成形的研磨顆?？梢员怀尚统删哂刑囟ê康膿诫s材料。例如，一種成形的研磨顆粒的主體可以包括對于主體的總重量來說不大于約12重量％。在其他情況下，摻雜材料的量可以是更少，如對于主體的總重量來說，不大于約11重量％、不大于約10重量％、不大于約9重量％、不大于約8重量％、不大于約7重量％、不大于約6重量％、或甚至是不大于約5重量％。在至少一個非限制性實施例中，摻雜材料的量對于主體的總重量來說，可以是至少約0.5重量％，如至少約1重量％、至少約1.3重量％、至少約1.8重量％、至少約2重量％、至少約2.3重量％、至少約2.8重量％、或甚至是至少約3重量％。應(yīng)了解，成形的研磨顆粒的主體內(nèi)的摻雜材料的量可以處于以上指出的任何最小或最大百分比之間的范圍內(nèi)。圖13包括了結(jié)合了根據(jù)一個實施例的研磨顆粒材料的涂布的研磨物品的截面圖示。如所展示，涂布磨料1300可以包括一個襯底1301和上覆于襯底1301的一個表面的一個制造涂層1303。涂布磨料1300可以進一步包括研磨顆粒材料1306。研磨顆粒材料可以包括一種第一類型的成形的研磨顆粒1305、一種第二類型的研磨顆粒材料1307，該第二類型的研磨顆粒材料1307呈具有一個無規(guī)形狀的稀研磨顆粒形式，它可以不必是成形的研磨顆粒。涂布磨料1300可以進一步包括膠料涂層1304，該膠料涂層1304上覆并且粘結(jié)于研磨顆粒材料1305、1306、1307、以及制造涂層1304。根據(jù)一個實施例，襯底1301可以包括一種有機材料、無機材料、以及其組合。在某些情況下，襯底1301可以包括一種編織材料。然而，襯底1301可以由一種非編織材料制得。特別合適的襯底材料可以包括有機材料，包括聚合物，并且具體地說是聚酯、聚氨基甲酸酯、聚丙烯、聚酰亞胺(如來自杜邦(DuPont)的KAPTON)、紙。一些合適的無機材料可以包括金屬、金屬合金(并且具體地說是銅、鋁、鋼的箔)、以及其組合。制造涂層1303可以按一種單一方法施加于襯底1301的表面，或可替代地，研磨顆粒材料1306可以與一種制造涂層1303材料組合并且以混合物形式施加于襯底1301的表面。制造涂層1303的合適材料可以包括有機材料，具體地說是聚合材料，包括例如聚酯、環(huán)氧樹脂、聚氨基甲酸酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、硅酮、乙酸纖維素、硝化纖維素、天然橡膠、淀粉、蟲膠、以及其混合物。在一個實施例中，制造涂層1303可以包括一種聚酯樹脂。然后可以對涂布的襯底進行加熱以便將樹脂和研磨顆粒材料固化于襯底。一般說來，可以在這一固化過程期間將涂布的襯底1301加熱到約100℃到少于約250℃之間的溫度。研磨顆粒材料1306可以包括根據(jù)在此實施例的成形的研磨顆粒。在特定情況下，研磨顆粒材料1306可以包括不同類型的成形的研磨顆粒。不同類型的成形的研磨顆?？梢栽谌缭诖藢嵤├兴龅慕M成、二維形狀、三維形狀、大小、以及其組合方面不同于彼此。如所展示，涂布磨料1300可以包括成形的研磨顆粒1305，這些成形的研磨顆粒1305根據(jù)在此實施例中所述的成形的研磨顆粒具有一個大體上三角形的二維形狀。其他類型的研磨顆粒1307可以是不同于成形的研磨顆粒1305的稀顆粒。例如，稀顆?？梢栽诮M成、二維形狀、三維形狀、大小、以及其組合方面不同于成形的研磨顆粒1305。例如，研磨顆粒1307可以代表著具有無規(guī)形狀的常規(guī)壓碎的研磨粗砂。研磨顆粒1307可以具有小于成形的研磨顆粒1305的中值粒度的一個中值粒度。在特定情況下，如圖13中所展示，研磨物品1300中的多個成形的研磨顆粒1305可以按相同的方式定向。值得注意地，成形的研磨顆粒1305可以具有一個直立定向，其中顆粒擱在其對應(yīng)的底表面上，這些底表面是最大表面積區(qū)域，并且界定不同高度的端的上表面遠離襯底1301并且被配置成與一個工件接觸以進行一種材料去除方法。更具體地說，成形的研磨顆粒1305可以具有一個直立定向，其中底表面與制造涂層1303直接接觸，并且成形的研磨顆粒的上表面與一個上覆涂層(如膠料涂層1309)直接接觸。根據(jù)一個實施例，研磨物品1300內(nèi)的大多數(shù)成形的研磨顆粒1305可以按如圖13中所展示的一個直立定向來定向。更具體地說，研磨物品1300的成形的研磨顆粒1305的總數(shù)目中至少約55％可以按一個直立定向來定向。再，在其他情況下，百分比可以是更大，如涂布磨料的所有成形的研磨顆粒1305中至少約60％、至少約70％、至少約80％、至少約90％、或甚至是至少約95％可以具有一個直立定向。在用研磨顆粒材料1306充分形成制造涂層1303之后，膠料涂層1309可以被成型成適當(dāng)?shù)厣细膊⑶艺辰Y(jié)研磨顆粒材料1306。膠料涂層1309可以包括一種有機材料，可以主要由一種聚合材料制得，并且值得注意地，可以使用聚酯、環(huán)氧樹脂、聚氨基甲酸酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、硅酮、乙酸纖維素、硝化纖維素、天然橡膠、淀粉、蟲膠、以及其混合物。形成在此實施例的研磨顆粒的方法可以包括從一種混合物形成研磨顆粒?；旌衔锟梢允蔷哂心承┎牧虾土髯兲匦缘囊环N混合物，這些流變特性利于根據(jù)在此實施例的成形的研磨顆粒的形成。在某些情況下，混合物可以是一種漿液或凝膠。例如，混合物可以包括固體顆粒懸浮于一種液體媒介物中的一種混合物。在更特定實施例中，混合物可以是一種溶膠凝膠，該溶膠凝膠包括與一種液體媒介物混合的顆粒物質(zhì)，其中該溶膠凝膠漿液包括某些流變特性，使得它呈一種尺寸上穩(wěn)定的混合物形式。具體地說，混合物可以是由一種陶瓷粉末材料和一種液體形成的一種凝膠，其中該凝膠可以被表征為具有即使在未經(jīng)處理(即未燒制的)狀態(tài)下也保持一種既定形狀的能力的一種形狀穩(wěn)定的材料。根據(jù)一個實施例，凝膠可以由陶瓷粉末材料形成，呈一種整合的離散顆粒網(wǎng)絡(luò)。例如，混合物可以包含一種研磨前驅(qū)體材料。研磨前驅(qū)體材料可以是一種可以通過進一步加工(該加工可以包括例如一種如煅燒的方法)而成型為一種研磨顆粒材料的材料。根據(jù)一個實施例，混合物可以包含一種研磨前驅(qū)體，該研磨前驅(qū)體包括如以下各項的材料：氧化物、硼化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、硼氧化物、氫氧化物、硝酸鹽的沉淀鹽、氯化物、硫酸鹽、以及其組合。在特定情況下，研磨前驅(qū)體可以包括一種基于氧化鋁的材料，如勃姆石。術(shù)語“勃姆石”通常在此被用以表示氧化鋁水合物，包括礦物勃姆石，典型地是Al2O3·H2O并且具有大約15％的水含量；以及偽勃姆石，具有以重量計高于15％、如20％-38％的水含量。應(yīng)注意，勃姆石(包括偽勃姆石)具有一種特定并且可識別的晶體結(jié)構(gòu)和因此獨特的X射線衍射圖，并且因而區(qū)別于其他鋁的材料，包括其他水合氧化鋁，如ATH(三水氧化鋁)，ATH是在此用于制造勃姆石顆粒材料的一種常見前驅(qū)體材料。混合物可以被成型成具有特定含量的固體材料。例如，混合物可以被成型成使得它包括混合物的總重量的至少約5重量％的固體。在其他情況下，混合物內(nèi)的固體的量可以是更大，如至少約8％、至少約10重量％、至少約12重量％、至少約15重量％、至少約18重量％、至少約20重量％、至少約25重量％、至少約30重量％、至少約35重量％、至少約40重量％、至少約50重量％、或甚至是至少約55重量％。再，在特定情況下，混合物的固體含量對于混合物的總重量來說，可以不大于約90重量％，如不大于約85重量％、不大于約75重量％、不大于約70重量％、不大于約65重量％、不大于約55重量％、或甚至是不大于約50重量％。應(yīng)了解，混合物可以含有一個處于以上指出的任何最小與最大百分比之間的范圍內(nèi)的固體含量。此外，可以對構(gòu)成研磨混合物的總固體含量的研磨前驅(qū)體材料的含量進行控制。例如，研磨前驅(qū)體材料的量可以是混合物內(nèi)的固體的總重量的至少約40重量％。在其他情況下，對于固體材料的總量來說，研磨前驅(qū)體材料的量可以是更大，如是混合物內(nèi)固體的總重量的至少約42重量％、至少約46重量％、至少約50重量％、至少約55重量％、至少約60重量％、至少約70重量％、至少約80重量％、至少約85重量％、至少約90重量％、至少約95重量％、或甚至是至少約97重量％。某些漿液可以被成型成使得固體材料的整個重量主要是研磨前驅(qū)體材料。根據(jù)另一個實施例，混合物可以包括一定含量的研磨細粒。研磨細粒不同于研磨前驅(qū)體材料，原因在于研磨細粒表現(xiàn)出研磨細粒的最終成型相。對于某些漿液來說，研磨細?？梢猿室环N晶種材料形式存在，該晶種材料可以在以后加工期間促進也包括在混合物內(nèi)的研磨前驅(qū)體材料的相變。在一些情況下，混合物可以含有少量研磨細粒，包括例如少于約20重量％、少于約10重量％、或甚至是少于約5重量％。然而，特定漿液可以被成型成使得它們含有更大含量的研磨細粒。例如，一種混合物可以含有大半含量的研磨細粒。值得注意地，混合物可以含有與如以上指出的對于混合物內(nèi)的固體的總重量來說的研磨前驅(qū)體材料含量相同的含量的研磨細粒。研磨細?？梢园ㄈ缫韵赂黜椀牟牧希貉趸?、硼化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、硼氧化物、金剛石、以及其組合。某些研磨細粒包含氧化鋁、碳化硅、氧化鋁/氧化鋯、以及立方氮化硼(即cBN)。在更特定情況下，混合物可以包括由氧化鋁制得、并且更具體地說可以主要由氧化鋁組成的研磨細粒。在一種情況下，研磨細粒主要由α氧化鋁組成。然而，應(yīng)理解，本發(fā)明不受此限制，而是能夠適應(yīng)與多種不同研磨材料一起使用?；旌衔锟梢院幸欢ê康墓腆w材料、液體材料、以及添加劑，使得它具有適用于在此詳述的方法的流變特性。就是說，在某些情況下，混合物可以具有一定粘度、并且更具體地說是合適的流變特性，所述流變特性形成了可以通過如在此指出的方法形成的尺寸上穩(wěn)定的材料相。尺寸上穩(wěn)定的材料相是可以被成型成具有一種特定形狀并且維持該形狀以使得該形狀存在于最終成型的物體中的一種材料。此外，混合物可以被成型成具有特定含量的液體材料。一些合適液體可以包括有機材料，如水。根據(jù)一個實施例，混合物可以被成型成具有小于混合物的固體含量的液體含量。在更特定情況下，混合物可以具有混合物的總重量的至少約25重量％的液體含量。在其他情況下，混合物內(nèi)的液體的量可以是更大，如至少約35重量％、至少約45重量％、至少約50重量％、或甚至是至少約58重量％。再，在至少一個非限制性實施例中，混合物的液體含量可以不大于約75重量％，如不大于約70重量％、不大于約65重量％、不大于約60重量％、或甚至是不大于約65重量％。應(yīng)了解，混合物中的液體的含量可以處于以上指出的任何最小與最大百分比之間的范圍內(nèi)。此外，為了促進根據(jù)在此實施例的成形的研磨顆粒的加工和成型，混合物可以具有一個特定儲能模量。例如，混合物可以具有至少約1×104Pa、如至少約4×104Pa、或甚至是至少約5×104Pa的儲能模量。然而，在至少一個非限制性實施例中，混合物可以具有不大于約1×107Pa、如不大于約1×106Pa的儲能模量。應(yīng)了解，混合物的儲能模量可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。儲能模量可以經(jīng)由一個平行板系統(tǒng)使用ARES或AR-G2旋轉(zhuǎn)流變儀在珀爾帖(Peltier)板溫度控制系統(tǒng)下測量。為了測試，可以將混合物擠壓在兩個板之間的一個空隙內(nèi)，這些板被設(shè)定成彼此相隔大約8mm。在將所得物擠壓到空隙中之后，將兩個板之間界定空隙的距離減小到2mm，直到混合物完全填充板之間的空隙。在擦掉過量混合物之后，將空隙減小0.1mm并且開始測試。測試是一個振蕩應(yīng)變掃描測試，它是在01％到100％之間的應(yīng)變范圍的儀器設(shè)定下在6.28rad/s(1Hz)下進行，使用25mm的平行板并且每十個一組記錄10個點。在測試完成之后1小時內(nèi)，再將空隙減小0.1mm并且重復(fù)測試。可以重復(fù)測試至少6次。第一測試可以不同于第二和第三測試。僅應(yīng)該報導(dǎo)來自每一標(biāo)本的第二和第三測試的結(jié)果。此外，混合物可以被成型成具有特定含量的可以不同于液體的有機材料，包括例如有機添加劑，以利于根據(jù)在此實施例的成形的研磨顆粒的加工和形成。一些合適的有機添加劑可以包括穩(wěn)定劑；粘合劑，如果糖、蔗糖、乳糖、葡萄糖；UV可固化樹脂等。此外，混合物可以被成型成具有特定含量的不同于液體的酸或堿，以利于根據(jù)在此實施例的成形的研磨顆粒的加工和形成。一些合適的酸或堿可以包括硝酸、硫酸、檸檬酸、氯酸、酒石酸、磷酸、硝酸銨、檸檬酸銨。根據(jù)一個特定實施例，使用硝酸添加劑，混合物可以具有少于約5、并且更具體地說處于約2與約4之間的范圍內(nèi)的pH。根據(jù)一個實施例，形成在此實施例的研磨顆粒的方法包括一種將混合物成型為一個特定形狀的方法。一些合適的成型方法可以包括模制、擠壓、鑄造、印刷、滾壓、沖壓、穿孔、猛擊、刮抹、以及其組合。在一個特定情況下，將混合物成型為具有在此實施例的特征的一種成形的研磨顆粒的方法可以包括將混合物沉積到一個襯底上。將混合物沉積到一個襯底上可以包括一種印刷方法，并且更具體地說一種絲網(wǎng)印刷方法。圖11包括了根據(jù)一個實施例的一種絲網(wǎng)印刷方法的圖。如所展示，形成一個研磨物品的方法可以包括在一個襯底1101的一個表面上提供一種混合物，該襯底還可以被稱為一個帶。值得注意地，襯底1101可以在繞線軸1102與1103之間移動，使得襯底1101可以充當(dāng)一個傳送帶，該傳送帶被配置成通過某些方法移動，這促進了研磨顆粒1150的形成。根據(jù)一個實施例，襯底1101可以相對于一個沉積區(qū)域移動，其中混合物可以被放置于襯底1101的表面上。雖然未特別展示，但絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)可以利用一個模具，該模具具有一個被配置成含有待印刷并且成型為成形的研磨顆粒的混合物的儲槽?；旌衔锟梢员环胖迷诹?或壓力)下以促進混合物擠壓通過一個模具開口并且到一個印刷絲網(wǎng)1107中的開口中并且到印刷絲網(wǎng)1107下面的移動襯底1101上。印刷絲網(wǎng)1107可以具有多個延伸穿過襯底1101的體積(volume)的開口。根據(jù)一個實施例，開口如在由襯底1101的長度(l)和寬度(w)界定的一個平面中觀察可以具有包括各種形狀的一個二維形狀，例如多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、包括多邊形狀的組合的復(fù)雜形狀、以及其組合。在特定情況下，開口可以具有二維多邊形狀，如三角形、矩形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、以及其組合。在將混合物用力推過模具開口并且通過印刷絲網(wǎng)1107中的開口之后，可以在被安置在印刷絲網(wǎng)1107下的一個襯底1101上印刷前驅(qū)體成形的研磨顆粒。根據(jù)一個特定實施例，前驅(qū)體成形的研磨顆粒423如在由印刷絲網(wǎng)1107的長度和寬度界定的一個平面中觀察可以具有實質(zhì)上復(fù)制開口形狀的一個形狀，和至少實質(zhì)上復(fù)制開口形狀的一個二維形狀。值得注意地，混合物在印刷絲網(wǎng)1107的開口內(nèi)的平均滯留時間可以是少于約2分鐘、少于約1分鐘、少于約40秒、或甚至是少于約20秒。在一個非限制性實施例中，混合物在印刷期間可以實質(zhì)上不變，并且更具體地說，可以不經(jīng)歷揮發(fā)性材料可觀的損失或在印刷絲網(wǎng)1107的開口中的干燥。混合物可以按如圖11中所展示的一種絲網(wǎng)印刷方法的方式被沉積通過一個孔并且到襯底1101上。絲網(wǎng)印刷方法的一些詳細說明提供于美國專利第6,054,093號中，該美國專利以其全文結(jié)合在此。具體地說，該絲網(wǎng)印刷方法可以利用一個呈一個連續(xù)印刷帶形式的印刷絲網(wǎng)1107，該印刷絲網(wǎng)1107可以在一系列輥1108、1109、1110、以及111周圍傳遞，其中某些輥之間的間隙界定了印刷方法內(nèi)的區(qū)。例如，絲網(wǎng)印刷方法可以利用一個施加區(qū)、一個脫離區(qū)、一個清潔區(qū)、以及一個處理區(qū)。在被界定為輥1110與1111之間的區(qū)域的施加區(qū)中，可以保持絲網(wǎng)與襯底1101牢固地接觸，同時絲網(wǎng)和襯底1101在相同方向上以基本上相同的速度移動，并且將混合物在刮刀1112前面施加于絲網(wǎng)的內(nèi)表面。刮刀1112下面的通道將混合物用力推入絲網(wǎng)印刷帶中的孔中，該帶在那個點處與襯底1101牢固地接觸。雖然展示了一個刮刀1112，但在某些情況下，可以不使用刮刀。在輥1110與1109之間的脫離區(qū)中，絲網(wǎng)印刷帶可以脫離襯底1101，在襯底1101的表面上留下絲網(wǎng)印刷形狀1140。在將混合物擠壓通過絲網(wǎng)1107的開口之后，襯底1101和絲網(wǎng)1107可以移動到一個脫離區(qū)，其中帶109和絲網(wǎng)151可以與彼此隔開以利于前驅(qū)體成形的研磨顆粒的形成。根據(jù)一個實施例，絲網(wǎng)151和帶109可以在脫離區(qū)內(nèi)以特定脫離角度彼此隔開。根據(jù)特定實施例，脫離角度可以是絲網(wǎng)1107的一個下表面與帶1101的一個上表面之間的角的量度。根據(jù)一個實施例，可以特別地控制脫離角度以利于具有在此描述的特征中的一項或一個組合的成形的研磨顆粒的適當(dāng)形成。例如，根據(jù)一個實施例，脫離角度可以是至少約15°并且不大于約45°。在更特定情況下，脫離角度可以是至少約18°，如至少約20°、至少約22°、至少約24°、或甚至是至少約26°。再，然而，脫離角度可以是不大于約42°，如不大于約40°、不大于約38°、或甚至是不大于約36°。應(yīng)了解，脫離角度可以處于以上指出的任何最小與最大值之間的范圍內(nèi)。形狀1140可以由襯底1101傳輸?shù)狡渌庸^(qū)，包括例如加工區(qū)1135?？梢栽诩庸^(qū)1135中進行的某些合適方法可以包括干燥、加熱、固化、反應(yīng)、輻射、混合、攪拌、攪動、平坦化、煅燒、燒結(jié)、粉碎、篩分、以及其組合。在一個特定實施例中，加工區(qū)1135包括一個干燥方法，其中從形狀1140提取出水分以改進顆粒的結(jié)構(gòu)完整性以便處置和進一步加工。同時，在離開脫離區(qū)之后，絲網(wǎng)印刷帶1107可以通過輥1109與1108之間的一個清潔區(qū)。在該清潔區(qū)中，絲網(wǎng)印刷帶1107可以被清潔并且準(zhǔn)備再次使用。清潔方法可以包括干燥、定向刷洗、氣沖、以及此類方法的組合。絲網(wǎng)印刷帶可以從清潔區(qū)傳到處理區(qū)，其中必要時，可以施加一種脫模劑以簡化脫離區(qū)中形狀1140與絲網(wǎng)印刷帶1107的分離。在襯底1101進入與絲網(wǎng)印刷帶1107接觸的施加區(qū)之前，如果尚未對襯底1101進行預(yù)處理，那么可以給予一個脫離處理(如碳氟化合物噴霧)以給予其烘干的脫離層。如所展示，在進行成型方法之后，形狀1140可以由襯底1101傳輸?shù)郊庸^(qū)1135。除以上指出的方法外，可以利用一種或多種方法在加工區(qū)1135內(nèi)處理形狀1140，如干燥、加熱、固化、反應(yīng)、輻射、混合、攪拌、攪動、平坦化、煅燒、燒結(jié)、粉碎、篩分、紋理化(texturing)、以及其組合。在一個特定情況下，處理方法可以包括一種改變混合物的流變學(xué)的方法。改變混合物的流變學(xué)的方法可以利于形成一種使得混合物中形成的紋理得以維持的尺寸上穩(wěn)定的材料相，和最終形成的研磨顆粒1150的一部分?？梢赃M行某些方法(如干燥、加熱、固化、煅燒、以及燒結(jié))以從混合物去除液體材料并且使形狀1140凝固并變硬。根據(jù)至少一個實施例，處理方法包括使形狀1140的至少一個表面紋理化以在最終形成的研磨顆粒中形成紋理特征。此外，還可以進行一種粉碎(即壓碎)方法以促進最終形成的研磨顆粒113的形成。在此實施例的研磨顆粒包括可以使用對某些成型方法的修改形成的特征。例如，可以利用對絲網(wǎng)印刷方法的一種修改使研磨細粒成型成具有在此披露的特征中的一項或一個組合，其中對該方法的修改賦予了研磨顆粒以特定特征。例如，在印刷期間，絲網(wǎng)可以按一種特定方式移動以形成特征，如在此研磨顆粒的傾斜的上表面。根據(jù)一個實施例，印刷方法可以包括相對于上面印刷有混合物的襯底的平面表面成一定角度提升絲網(wǎng)。在特定情況下，也可以按一種扭轉(zhuǎn)方式相對于襯底的平面表面提升絲網(wǎng)以形成在此研磨顆粒的傾斜的上表面。值得注意地，在此類實施例中，混合物可以呈一種尺寸上穩(wěn)定的混合物形式，其中在整個加工期間維持在成型期間向混合物提供的特征。除印刷顆粒以形成在此指出的特征的方法外，可以在研磨顆粒上進行進一步加工。例如，可以在形成研磨顆粒之后進行一種紋理化方法以促進在此研磨顆粒的上表面和/或任何其他表面內(nèi)紋理的形成。某些合適的紋理化操作可以包括壓印、蝕刻、熱處理、輻射處理、化學(xué)處理、聲波處理、磁處理、模制、壓制、穿孔、以及其組合。在特定情況下，可以通過使一個紋理化形式與形狀1140的一個表面接觸將形狀1140紋理化。使用一種紋理化形式紋理化可以包括如滾壓、沖壓、穿孔、猛擊、刮抹、以及其組合的方法。值得注意地，在此實施例的研磨顆粒利用在常規(guī)研磨顆粒中未被識別或利用的特征的一個組合。此類特征包括特定多面形狀、研磨顆粒的側(cè)面的外形、研磨顆粒的高度和寬度的變化、紋理化的表面、以及其組合。此外，在此實施例可以利用特定成型方法來促進具有以上指出的特征中的一項或一個組合的研磨細粒的形成。特征的組合促成可以容易地結(jié)合到多種研磨物品(包括涂布的研磨物品和/或粘結(jié)的研磨物品)中的彈性研磨顆粒。本說明書并不打算列舉多種特征的一種層次，而是列舉可以按一種或多種方式進行組合以界定本發(fā)明的不同特征。實例1使用一種絲網(wǎng)印刷方法制造第一批成形的研磨顆粒。最初制造出呈一種凝膠形式的一種混合物，該混合物包括以CatapalB從薩索公司(SasolCorporation)可商購的42重量％勃姆石、相對于主體中的最終α氧化鋁含量1重量％亞微米α氧化鋁(其中該亞微米α氧化鋁具有大于120m2/g的BET表面積)和2重量％到4重量％硝酸。將混合物擠壓通過一個模具開口并且通過具有三角形開口的一個絲網(wǎng)。三角形開口具有最小2.38mm的邊長和625微米的深度。在絲網(wǎng)的界定開口的內(nèi)表面上不提供脫模劑。絲網(wǎng)以大約1英尺/分鐘的速率移動并且以大約10°到60°的角度從下面的帶脫離混合物在開口中的大致滯留時間是少于10秒。在絲網(wǎng)下面的帶上形成了成形的研磨前驅(qū)體顆粒，并且然后在95℃的溫度下干燥大約4-7分鐘的持續(xù)時間。聚集干燥的顆粒，并且在1000℃的溫度下煅燒10分鐘的持續(xù)時間，并且然后在大約1300℃的溫度下燒結(jié)10到30分鐘的持續(xù)時間。最終形成的成形的研磨顆粒主要由α氧化鋁組成，并且具有0.1到0.5微米的中值晶體大小和1.3到1.5mm長度的粒度。從該批中取出隨機選擇的成形的研磨顆粒的一個第一樣品(S1)，并且經(jīng)由使用STIL(光的科學(xué)與技術(shù)工業(yè)-法國)微測量3D表面輪廓儀(白光(LED)色差技術(shù))分析以測定平均高度差、歸一化的高度差、以及高度變化。分析該樣品的成形的研磨顆粒中每一種，并且記錄尺寸(即h1和h2)。圖14A-14J提供樣品1的成形的研磨顆粒中每一種的輪廓儀掃描圖。樣品S1的平均高度差大約是114微米，高度變化大約是120，并且歸一化的高度差大約是81微米。該第一樣品的平均輪廓長度被計算為大約1.3mm，并且因此樣品的輪廓比是0.088(即[0.114/1.3])。實例2根據(jù)實例1制造第二批，例外之處在于最終形成的成形的研磨顆粒具有1.2到1.5mm長度的中值粒度。從第二批中取出隨機選擇的成形的研磨顆粒的一個第二樣品(S2)，并且經(jīng)由使用STIL(光的科學(xué)與技術(shù)工業(yè)-法國)微測量3D表面輪廓儀(白光(LED)色差技術(shù))分析以測定平均高度差、歸一化的高度差、以及高度變化。分析該樣品的成形的研磨顆粒中每一種，并且記錄尺寸(即h1和h2)。圖15A-15J提供樣品2的成形的研磨顆粒中每一種的輪廓儀掃描圖。樣品S2的平均高度差是約82微米，高度變化大約是48，并且歸一化的高度差大約是66微米。樣品的平均輪廓長度被計算為大約1.2mm，并且因此樣品的輪廓比是0.068(即[0.082/1.2])。圖19包括了根據(jù)實例2形成的實際成形的研磨顆粒的圖像。值得注意地，圖19的成形的研磨顆粒具有大體上三角形的二維形狀，在上表面內(nèi)顯示橢圓形區(qū)域，并且進一步在其整個上表面上顯示顯著的高度差特征。實例3獲得可獲自3M的成形的研磨細粒以進行對比分析。一個第一對比樣品(CS3)以具有--的平均粗砂大小的CubitronI可獲得。一個第二對比樣品(CS4)以具有60+的平均粗砂大小的CubitronII可獲得。一個第三對比樣品(CS5)以具有80+的平均粗砂大小的CubitronII可用。分析樣品CS3的成形的研磨顆粒中每一種，并且記錄尺寸(即h1和h2)。樣品CS3的平均高度差是約40微米，高度變化大約是27，并且歸一化的高度差大約是33微米。在一個分析中，樣品的平均輪廓長度被計算為大約1.2mm，并且因此樣品的輪廓比是0.033(即[0.040/1.2])。在另一個分析中，樣品的平均輪廓長度被計算為大約1.4mm，并且因此樣品的輪廓比是0.028(即[0.040/1.4])。分析樣品CS4的成形的研磨顆粒中每一種，并且記錄尺寸(即h1和h2)。圖16A-16J提供樣品CS4的成形的研磨顆粒中每一種的輪廓儀掃描圖。樣品CS4的平均高度差是約30微米，高度變化大約是18，并且歸一化的高度差大約是23微米。樣品的平均輪廓長度被計算為大約0.65mm，并且因此樣品的輪廓比是0.028(即[0.018/0.65])。分析樣品CS5的成形的研磨顆粒，并且記錄尺寸(即h1和h2)。圖17A-17J提供樣品CS5的成形的研磨顆粒中每一種的輪廓儀掃描圖。樣品CS5的平均高度差是約17微米，高度變化大約是11，并且歸一化的高度差大約是14微米。樣品的平均輪廓長度被計算為大約0.50mm，并且因此樣品的輪廓比是0.022(即[0.011/0.50])。顯然，在比較圖和數(shù)據(jù)后，對比實例的成形的研磨細粒在高度變化方面顯著不同。實際上，在檢驗后，很明顯，對比的成形的研磨顆粒未被成型成在顆粒的端之間實現(xiàn)高度變化，并且實際上“形狀正確性”似乎是優(yōu)選焦點。實例5在一種單一粗砂劃痕測試中測試S1的成形的研磨顆粒和樣品CS3的對比的成形的研磨顆粒。成形的研磨顆粒被放在其底表面上，該底表面是具有最大表面積的一個主表面。對于樣品S1的成形的研磨顆粒來說，顆粒在直立位置定向，表示一種用于一種研磨物品中的優(yōu)選定向。在一種單一粗砂(即成形的研磨顆粒)劃痕測試中，通過一種粘結(jié)環(huán)氧樹脂材料將一種單一粗砂固持在一個粗砂固持器中。使用22m/s的輪轉(zhuǎn)速和30微米的初始劃痕深度使粗砂在304不銹鋼的一個工件整個上移動8英寸的劃痕長度。粗砂在該工件中產(chǎn)生一個具有一個截面積(AR)的凹槽。每一個成形的研磨顆粒橫穿8英寸長度完成15次通過，對于每一個樣品來說測試10個單獨顆粒，并且將結(jié)果分析并且求平均值。測量凹槽的截面積從劃痕長度的開始到結(jié)束的變化以測定粗砂磨損。圖18A和圖18B提供一種單一粗砂劃痕測試的測試結(jié)果。明顯地并且相當(dāng)出乎意料地，在此實施例的成形的研磨顆粒與對比樣品相比顯示出顯著改進的性能。值得注意地，在測量的宏觀破裂百分比(percentgrossfracture)方面，樣品S1的成形的研磨顆粒與對比樣品相比顯示出300％改進。另外，關(guān)于測量的破裂水平，在此實施例的成形的研磨顆粒與對比實例的成形的研磨顆粒相比顯示出顯著的改進。具體地說，樣品S1的成形的研磨顆粒與對比樣品相比每通過一次具有50％的破裂減少。此外，樣品S1的成形的研磨顆粒與對比樣品相比具有90百分位破裂水平(N)的將近100％改進。在上文中，對特定實施例和某些組件的連接的提及是示意性的。應(yīng)了解，對于被聯(lián)接或被連接的組件的提及是打算去披露如所了解的在所述組件之間的直接連接或通過一個或多個介入組件的間接連接，以進行在此所討論的方法。因此，以上披露的主題應(yīng)被視為示意性的，并且不是限制性的，并且隨附權(quán)利要求書打算將涵蓋所有此類屬于本發(fā)明的真實范圍內(nèi)的修改、改進、以及其他實施例。因此，在法律所允許的最大程度上，本發(fā)明的范圍將由以下權(quán)利要求書和其等效物的最寬泛的可允許解釋所確定，并且不應(yīng)受到以上詳細說明束縛或限制。提供本披露的摘要以符合專利法并且在該摘要不用于解釋或限制權(quán)利要求書的范圍或含義的理解下提交該摘要。另外，在以上詳細說明中，不同特征可以被集合在一起或出于精簡披露的目的而在單一實施例中描述。本披露不得被解釋為反映一種意圖，即所要求的實施例需要比在每一項權(quán)利要求中所明確敘述更多的特征。實際上，如以下權(quán)利要求書所反映，本發(fā)明的主題可以涉及少于所披露實施例的任一個實施例的所有特征。因此，以下權(quán)利要求書被結(jié)合到詳細說明中，其中每一項權(quán)利要求獨立地界定所分別要求的主題。