專利名稱：襯底支撐結(jié)構(gòu)、含有上述襯底支撐結(jié)構(gòu)的反應(yīng)腔室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及襯底支撐結(jié)構(gòu)和含有上述襯底支撐結(jié)構(gòu)的反應(yīng)腔室。
背景技術(shù)：
MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是在氣相外延生長(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種化學(xué)氣相外延沉積工藝。它以III族、II族元素的有機化合物和V、VI族元素的氫化物等作為晶體生長的源材料，以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行沉積工藝，生長各種II1-V族、I1-VI族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。下面對現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積工藝的原理進行說明。具體地，請參考圖1所示的現(xiàn)有的MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖。反應(yīng)腔室10內(nèi)形成有相對設(shè)置的噴淋頭11和襯底支撐盤12。所述噴淋頭11內(nèi)可以設(shè)置多個通孔，所述噴淋頭11用于提供反應(yīng)氣體。所述襯底支撐盤12的材質(zhì)通常為石墨，所述襯底支撐盤12的正面(即所述襯底支撐盤12的朝向噴淋頭11 一側(cè)的表面)用于放置襯底121。所述襯底支撐盤12的背面(即所述襯底支撐盤12的遠(yuǎn)離所述噴淋頭11一側(cè)的表面)下方還形成有加熱單元13，所述加熱單元13對襯底支撐盤12進行加熱。為了保證襯底121的受熱均勻性和沉積的外延材料層的均勻性，所述襯底支撐盤12在MOCVD工藝過程中會以一定的速度進行圍繞一軸線進行旋轉(zhuǎn)運動，所述軸線為襯底支撐盤12的正面的中垂線。在MOCVD工藝結(jié)束后，所述襯底支撐盤12連同上方的襯底121從反應(yīng)腔室10中取出。

在實際中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的襯底支撐盤在轉(zhuǎn)動過程中不穩(wěn)定，尤其是在轉(zhuǎn)動的起始和結(jié)束階段，襯底支撐盤容易飛出去。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例解決的問題是提供了襯底支撐結(jié)構(gòu)，解決了放置襯底的襯底支撐盤在轉(zhuǎn)動過程中容易飛出去、轉(zhuǎn)動不穩(wěn)定的問題。為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種襯底支撐結(jié)構(gòu)，包括:襯底支撐盤和圓筒狀支撐件，所述圓筒狀支撐件豎直設(shè)置，所述襯底支撐盤支撐于所述圓筒狀支撐件的頂端；所述圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，所述襯底支撐盤具有與對應(yīng)所述支撐件突起或支撐件凹槽相對應(yīng)的支撐盤凹槽或支撐盤突起，所述支撐件突起與支撐盤凹槽相配合或所述支撐件凹槽與支撐盤突起相配合，將所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件?？蛇x地，所述支撐件突起或支撐件凹槽包括第一支撐件突起或支撐件凹槽和第二支撐件突起或支撐件凹槽，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽可以相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽運動，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽運動沿第一方向運動時，使得所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件；所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽沿與第一方向相反的第二方向運動時，使得所述襯底支撐盤從所述圓筒狀支撐件松開?？蛇x地，所述支撐盤凹槽或支撐盤突起固定于所述襯底支撐盤上?？蛇x地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成第一卡合結(jié)構(gòu)，所述第一卡合結(jié)構(gòu)在所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向運動時卡合；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述襯底支撐盤上的支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成第二卡合結(jié)構(gòu)，所述第二卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第二方向運動時卡合。 可選地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件突起，所述第一支撐件突起具有位于第一方向一側(cè)的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面向第一方向傾斜。可選地，所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件突起，所述第二支撐件突起具有位于第二方向一側(cè)的第二側(cè)面，所述第二側(cè)面向第二方向傾斜。可選地，所述第一支撐件突起或第二支撐件突起的形狀為三角形、菱形或梯形。可選地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件凹槽，所述第一支撐件凹槽具有位于第一方向一側(cè)的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面向第二方向傾斜?？蛇x地，所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件凹槽，所述第二支撐件凹槽具有位于第二方向一側(cè)的第二側(cè)面，所述第二側(cè)面向第一方向傾斜。可選地，所述第一支撐件凹槽或第二支撐件凹槽的形狀為三角形、菱形或梯形?？蛇x地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成定位結(jié)構(gòu)，所述定位結(jié)構(gòu)用于限定所述第一支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向的運動；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成卡合結(jié)構(gòu)，所述卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿所述第二方向運動時卡合。

可選地，所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件突起，所述第二支撐件突起具有位于第二方向一側(cè)的側(cè)面，所述側(cè)面向第二方向傾斜?？蛇x地，所述第二支撐件突起的形狀為三角形、菱形或梯形。可選地，所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件凹槽，所述支撐件突起具有位于第一方向一側(cè)的側(cè)面，所述側(cè)面向第二方向傾斜?？蛇x地，所述支撐件凹槽的形狀為三角形、菱形或梯形?？蛇x地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件突起，所述第一支撐件突起的形狀矩形或柱狀?？蛇x地，所述圓筒狀支撐件包括第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體和與之配合的第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽設(shè)置在所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽設(shè)置在所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體?？蛇x地，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體嵌套于第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體。可選地，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體能夠相對所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體轉(zhuǎn)動?？蛇x地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體一體成型；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體一體成型。可選地，本發(fā)明還提供一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室，包括所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點:本發(fā)明的圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，通過與所述支撐件突起或支撐件凹槽配合的支撐盤凹槽或支撐盤突起，將所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件上，從而與現(xiàn)有技術(shù)利用支撐柱將襯底支撐盤固定、襯底支撐盤不穩(wěn)定相比，支撐件突起與支撐盤凹槽的配合或支撐件凹槽與支撐盤突起的配合，使得襯底支撐盤與圓筒狀支撐件的位置關(guān)系更加穩(wěn)定，并且由于襯底支撐盤中部的下方?jīng)]有了原先的支撐柱，可以改善襯底支撐盤中部的加熱的均勻度；進一步優(yōu)化地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成定位結(jié)構(gòu)，所述定位結(jié)構(gòu)用于限定所述第一支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向的運動；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成卡合結(jié)構(gòu)，所述卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿所述第二方向運動時卡合。所述圓筒狀支撐件包括第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體，通過調(diào)整第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體上的第一突起和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體上的第二突起之間的相對位置關(guān)系，使得圓筒狀支撐件分別能夠位于放松位置和鎖定位置，在放松位置時，能夠靈活的將襯底支撐盤放置于支撐結(jié)構(gòu)上或?qū)⒁r底支撐盤與支圓筒狀支撐件松開(以便于將轉(zhuǎn)盤與支撐結(jié)構(gòu)分離)，在鎖定位置時，能夠?qū)⒁r底支撐盤固定在圓筒狀支撐件上，從而對襯底支撐盤的固定更加牢固，進一步減小了在襯底支撐盤轉(zhuǎn)動過程中不穩(wěn)定的可能性。


圖1是現(xiàn)有的MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是現(xiàn)有的襯底支撐盤及其支撐柱的結(jié)構(gòu)示意
圖3是本發(fā)明一個實施例的襯底支撐結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖3所示的圓筒狀支撐件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是圖4所示的第一圓筒狀支撐體的第一突起的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是圖4所示的第二圓筒狀支撐體的第二突起的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式現(xiàn)有的襯底支撐盤在轉(zhuǎn)動過程中不穩(wěn)定，容易飛出去。經(jīng)過發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，由于現(xiàn)有的襯底支撐盤的下方通常設(shè)置支撐柱，利用該支撐柱帶動襯底支撐盤進行轉(zhuǎn)動。具體地，請結(jié)合圖2所示的現(xiàn)有技術(shù)的襯底支撐盤及其支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖。襯底支撐盤12下方具有支撐柱14，所述支撐柱14的面積小于襯底支撐盤12的背面的面積。支撐柱14將襯底支撐盤12固定，并且襯底支撐盤12能夠在襯底支撐盤14的帶動下進行轉(zhuǎn)動，所述轉(zhuǎn)動圍繞襯底支撐盤12和支撐柱14的相接觸的表面的中垂線進行。在轉(zhuǎn)動過程中襯底支撐盤容易搖晃不穩(wěn)，并且在轉(zhuǎn)動的起始階段和結(jié)束階段，容易造成襯底支撐盤飛出的情況。并且由于支撐柱的存在也影響了對襯底支撐盤的加熱的均勻性。為了解決上述問題，本發(fā)明提出一種襯底支撐結(jié)構(gòu)，包括:襯底支撐盤和圓筒狀支撐件，所述圓筒狀支撐件豎直設(shè)置，所述襯底支撐盤支撐于所述圓筒狀支撐件的頂端；所述圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，所述襯底支撐盤具有與對應(yīng)所述支撐件突起或支撐件凹槽相對應(yīng)的支撐盤凹槽或支撐盤突起，所述支撐件突起與支撐盤凹槽相配合或所述支撐件凹槽與支撐盤突起相配合，將所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件。本發(fā)明所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)用于在半導(dǎo)體設(shè)備的反應(yīng)腔室中，所述半導(dǎo)體設(shè)備可以為沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備等，所述沉積設(shè)備可以為化學(xué)氣相沉積設(shè)備。本發(fā)明將以襯底支撐結(jié)構(gòu)應(yīng)用于MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔室為例進行說明。為了更好地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，請參考圖3所示的本發(fā)明一個實施例的襯底支撐結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。襯底支撐結(jié)構(gòu)包括襯底支撐盤100和圓筒狀支撐件200，所述圓筒狀支撐件200用于支撐所述襯底支撐盤100，并且將襯底支撐盤100鎖緊。作為一個實施例，所述圓筒狀支撐件200包括第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和與之配合的第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202。所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201嵌套于所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202內(nèi)。所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201能夠相對于所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202進行轉(zhuǎn)動。為了能夠?qū)⒁r底支撐盤100鎖緊，第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和/或第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202的頂部設(shè)置有支撐件突起或支撐件凹槽。作為本發(fā)明的一個實施例，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202的頂部均設(shè)置有支撐件突起，所述支撐件突起可以與對應(yīng)的所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201或所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202 —體成型或兩者可以相互分離。作為本發(fā)明的又一實施例，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202的頂部均設(shè)置有支撐件凹槽，所述支撐件凹槽與對應(yīng)的所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202 —體成型或兩者可以相互分離。作為本發(fā)明的再一實施例，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202中的一個上設(shè)置有支撐件突起，另一個上設(shè)置有支撐件凹槽，該支撐件突起或支撐件凹槽可以與對應(yīng)的圓筒狀旋轉(zhuǎn)體結(jié)合為一體或兩者可以相互分離。仍然參考圖3并且結(jié)合圖4，圖4為圖3所示的圓筒狀支撐件的結(jié)構(gòu)示意圖。作為本發(fā)明的一個實施例，所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201的頂部設(shè)置有第一支撐件突起2011，兩者結(jié)合為一體；所述第二 圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202的頂部設(shè)置有第二支撐件突起2021，兩者結(jié)合為一體。通過第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體201和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體202之間的旋轉(zhuǎn)運動，使得所述第一支撐件突起2011能夠相對第二支撐件突起2021進行運動。當(dāng)所述第一支撐件突起2011相對于第二支撐件突起2021沿所述第一方向運動時，能夠?qū)⒁r底支撐盤100鎖緊于圓筒狀支撐件200上；當(dāng)所述第一支撐件突起2011相對于第二支撐件突起2021沿所述第二方向運動時，使得所述襯底支撐盤100與所述圓筒狀支撐件200松開，以便于將襯底支撐盤100與所述圓筒狀支撐件200分離。下面請參考圖4并結(jié)合圖5，圖5為圖4所示第一圓筒狀支撐體的第一突起的結(jié)構(gòu)示意圖。所述第一支撐件突起2011具有位于第二方向的第一側(cè)面2012，且所述第一側(cè)面2012朝向所述第一方向傾斜。本實施例中，所述第一支撐件突起2011的形狀為菱形。在其他的實施例中，所述第一支撐件突起2011的形狀還可以為梯形、長方形、三角形等。請參考圖4并結(jié)合圖6，圖6為圖4所示的第二圓筒狀支撐體的第二突起的結(jié)構(gòu)示意圖。所述第二支撐件突起2021具有位于第二方向的第二側(cè)面2022，且所述第二側(cè)面2022朝向第二方向傾斜。本實施例中，所述第二支撐件突起2021的形狀為菱形。在其他的實施例中，所述第一支撐件突起2011的形狀還可以為梯形、長方形、三角形等。圖4 圖6中詳細(xì)示出了圓筒狀支撐件200的結(jié)構(gòu)，為了實現(xiàn)將襯底支撐盤鎖定于圓筒狀支撐件200上，還需要在襯底支撐盤上對應(yīng)設(shè)置支撐盤凹槽或支撐盤突起。下面將對襯底支撐盤及其支撐盤凹槽或支撐盤突起的結(jié)構(gòu)進行說明。具體地，請參考圖3，襯底支撐盤100的上表面用于放置襯底，所述襯底支撐盤100的上方還具有與之對應(yīng)的噴淋頭(圖中未示出)，所述噴淋頭用于向所述襯底支撐盤100提供氣體。所述襯底支撐盤100的下表面(圖中未標(biāo)出)具有環(huán)狀凸緣102。作為一個實施例，所述環(huán)狀凸緣102環(huán)繞所述襯底支撐盤100的下表面的外側(cè)一周。所述環(huán)狀凸緣102可以與襯底支撐盤100 一體成型或兩者可以相互松開。本實施例中，所述環(huán)狀凸緣102與所述襯底支撐盤100一體成型。所述環(huán)狀凸緣102朝向圓筒狀支撐件200的一側(cè)設(shè)置有支撐盤凹槽或支撐盤突起。所述支撐盤凹槽或支撐盤突起固定于環(huán)狀凸緣102上。作為本發(fā)明的一個實施例，所述環(huán)狀凸緣102上設(shè)置有支撐盤凹槽1021，該支撐盤凹槽1021的形狀和尺寸與圓筒狀支撐件200上的支撐件突起的形狀對應(yīng)，兩者配合將襯底支撐盤100固定于圓筒狀支撐件200上。本實施例中，所述支撐盤凹槽1021的形狀為等腰梯形。所述支撐盤凹槽1021與第一支撐件突起2011和第二支撐件突起2021配合，所述第一支撐件突起2011與支撐盤凹槽1021構(gòu)成第一卡合結(jié)構(gòu)，所述第二支撐件突起2021與支撐盤凹槽1021構(gòu)成第二卡合結(jié)構(gòu)，第一支撐件突起2011與第二支撐件突起2021之間以及兩者與支撐盤凹槽1021相對運動。當(dāng)所述第一支撐件突起2011相對所述襯底支撐盤100沿第一方向運動時，所述第一卡合機構(gòu)卡合，反之，當(dāng)所述第一支撐件突起2011相對所述襯底支撐盤100沿第二方向運動時，所述第一卡和機構(gòu)松開；當(dāng)所述第二支撐件突起2021相對所述襯底支撐盤100沿第二方向運動時，所述第二卡合機構(gòu)卡合；反之，當(dāng)所述第二支撐件2021相對所述襯底支撐盤100沿第一方向運動時，所述第二卡合機構(gòu)松開。當(dāng)所述第—和機構(gòu)和第二結(jié)構(gòu)均卡合時，所述襯底支撐盤100鎖緊于所述圓筒狀支撐件200上；當(dāng)所述第一卡合機構(gòu)和第二卡合機構(gòu)中有一個松開時，所述襯底支撐盤100從所述圓筒狀支撐件200上松開，從而能夠?qū)崿F(xiàn)襯底支撐盤100與所述圓筒狀支撐件200的分離。在本發(fā)明的其他實施例中，圓筒狀支撐件上包括第一支撐件突起和第二支撐件突起，襯底支撐盤上設(shè)置有支撐件凹槽，所述第一支撐件突起還可以與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成定位結(jié)構(gòu)，所述定位結(jié)構(gòu)用于限定所述第一支撐盤突起相對所述襯底支撐盤沿第一方向的運動；所述第二支撐件突起與所述支撐盤凹槽構(gòu)成卡合結(jié)構(gòu)，所述卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐件突起相對所述襯底支撐盤沿所述第二方向運動時卡合。所述第一支撐件關(guān)起可以為柱狀結(jié)構(gòu)。本發(fā)明利用在襯底支撐盤與圓筒狀旋轉(zhuǎn)體之間的突起與凹槽之間配合，將襯底支撐盤鎖緊與圓筒狀旋轉(zhuǎn)體，圖3僅以圓筒狀旋旋轉(zhuǎn)體上形成第一支撐件突起和第二支撐件突起、襯底支撐盤上對應(yīng)形成有支撐盤凹槽為例進行說明，在實際中，只要能夠保證襯底支撐盤上的支撐盤突起或支撐盤凹槽在圓筒狀旋轉(zhuǎn)體上具有對應(yīng)的支撐件凹槽或支撐件突起的情況下，襯底支撐盤上也可以形成支撐盤突起或同時形成有支撐盤突起和支撐盤凹槽，圓筒狀支撐件上可以形成支撐件凹槽或同時形成有支撐件凹槽和支撐件突起，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以進行靈活的選擇。并且，支撐件凹槽或支撐件突起的形狀、位置和分布可以其他的選擇，在此不作一一列舉。

綜上，本發(fā)明的圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，通過與所述支撐件突起或支撐件凹槽配合的支撐盤凹槽或支撐盤突起，將所述支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件上，從而與現(xiàn)有技術(shù)利用支撐柱將襯底支撐盤固定、襯底支撐盤不穩(wěn)定相比，支撐件突起與支撐盤凹槽的配合或支撐件凹槽與支撐盤突起的配合，使得襯底支撐盤與圓筒狀支撐件的位置關(guān)系更加穩(wěn)定，并且由于襯底支撐盤中部的下方?jīng)]有了原先的支撐柱，可以改善襯底支撐盤中部的加熱的均勻度；進一步優(yōu)化地，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成定位結(jié)構(gòu)，所述定位結(jié)構(gòu)用于限定所述第一支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向的運動；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成卡合結(jié)構(gòu)，所述卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿所述第二方向運動時卡合。所述支撐結(jié)構(gòu)包括第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體，通過調(diào)整第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體上的第一突起和第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體上的第二突起之間的相對位置關(guān)系，使得支撐結(jié)構(gòu)分別能夠位于放松位置和鎖定位置，在放松位置時，能夠靈活的將轉(zhuǎn)盤放置于支撐結(jié)構(gòu)上或?qū)⑥D(zhuǎn)盤與支撐結(jié)構(gòu)松開，在鎖定位置時，能夠?qū)⑥D(zhuǎn)盤固定在支撐結(jié)構(gòu)上。雖然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。`
權(quán)利要求
1.一種襯底支撐結(jié)構(gòu)，包括:襯底支撐盤和圓筒狀支撐件，所述圓筒狀支撐件豎直設(shè)置，所述襯底支撐盤支撐于所述圓筒狀支撐件的頂端；其特征在于:所述圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，所述襯底支撐盤具有與對應(yīng)所述支撐件突起或支撐件凹槽相對應(yīng)的支撐盤凹槽或支撐盤突起，所述支撐件突起與支撐盤凹槽相配合或所述支撐件凹槽與支撐盤突起相配合，將所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件。
2.如權(quán)利要求1所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述支撐件突起或支撐件凹槽包括第一支撐件突起或支撐件凹槽和第二支撐件突起或支撐件凹槽，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽可以相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽運動，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽運動沿第一方向運動時，使得所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件；所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述第二支撐件突起或支撐件凹槽沿與第一方向相反的第二方向運動時，使得所述襯底支撐盤從所述圓筒狀支撐件松開。
3.如權(quán)利要求2所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述支撐盤凹槽或支撐盤突起固定于所述襯底支撐盤上。
4.如權(quán)利要求2所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成第一卡合結(jié)構(gòu)，所述第一卡合結(jié)構(gòu)在所述第一支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向運動時卡合；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述襯底支撐盤上的支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成第二卡合結(jié)構(gòu)，所述第二卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第二方向運動時卡合。
5.如權(quán)利要求4所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件突起，所述第一支撐件突起具有位于第一方向一側(cè)的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面向第一方向傾斜。
6.如權(quán)利要求4所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件突起，所述第二支撐件突起具有位于第二方向一側(cè)的第二側(cè)面，所述第二側(cè)面向第二方向傾斜。
7.如權(quán)利要求5或6所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或第二支撐件突起的形狀為三角形、菱形或梯形。
8.如權(quán)利要求4所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件凹槽，所述第一支撐件凹槽具有位于第一方向一側(cè)的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面向第二方向傾斜。
9.如權(quán)利要求4所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件凹槽，所述第二支撐件凹槽具有位于第二方向一側(cè)的第二側(cè)面，所述第二側(cè)面向第一方向傾斜。
10.如權(quán)利要求8或9所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件凹槽或第二支撐件凹槽的形狀為三角形、菱形或梯形。
11.如權(quán)利要求2所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成定位結(jié)構(gòu)，所述定位結(jié)構(gòu)用于限定所述第一支撐盤突起或支撐盤凹槽相對所述襯底支撐盤沿第一方向的運動；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述支撐盤凹槽或支撐盤突起構(gòu)成卡合結(jié)構(gòu)，所述卡合結(jié)構(gòu)在所述第二支撐件突起或支撐件凹槽相對所述襯底支撐盤沿所述第二方向運動時卡合。
12.如權(quán)利要求11所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件突起，所述第二支撐件突起具有位于第二方向一側(cè)的側(cè)面，所述側(cè)面向第二方向傾斜。
13.如權(quán)利要求12所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二支撐件突起的形狀為三角形、菱形或梯形。
14.如權(quán)利要求11所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二支撐件突起或支撐件凹槽為第二支撐件凹槽，所述支撐件突起具有位于第一方向一側(cè)的側(cè)面，所述側(cè)面向第二方向傾斜。
15.如權(quán)利要求14所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述支撐件凹槽的形狀為三角形、菱形或梯形。
16.如權(quán)利要求11所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽為第一支撐件突起，所述第一支撐件突起的形狀矩形或柱狀。
17.如權(quán)利要求2至6、8至9、和11至16中任一項所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述圓筒狀支撐件包括第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體和與之配合的第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體，所述第一支撐件突起或支撐件凹槽設(shè)置在所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽設(shè)置在所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體。
18.如權(quán)利要求17所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體嵌套于第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體。
19.如權(quán)利要求18所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體能夠相對所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體轉(zhuǎn)動。
20.如權(quán)利要求17所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一支撐件突起或支撐件凹槽與所述第一圓筒狀旋轉(zhuǎn)體一體成型；所述第二支撐件突起或支撐件凹槽與所述第二圓筒狀旋轉(zhuǎn)體一體成型。
21.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室，其特征在于，包括如權(quán)利要求1所述的襯底支撐結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種襯底支撐結(jié)構(gòu)和含有上述襯底支撐結(jié)構(gòu)的反應(yīng)腔室，所述襯底支撐結(jié)構(gòu)包括襯底支撐盤和圓筒狀支撐件，所述圓筒狀支撐件豎直設(shè)置，所述襯底支撐盤支撐于所述圓筒狀支撐件的頂端；所述圓筒狀支撐件的頂端具有支撐件突起或支撐件凹槽，所述襯底支撐盤具有與對應(yīng)所述支撐件突起或支撐件凹槽相對應(yīng)的支撐盤凹槽或支撐盤突起，所述支撐件突起與支撐盤凹槽相配合或所述支撐件凹槽與支撐盤突起相配合，將所述襯底支撐盤鎖緊于所述圓筒狀支撐件。本發(fā)明解決了放置襯底的襯底支撐盤在轉(zhuǎn)動過程中容易飛出去、轉(zhuǎn)動不穩(wěn)定的問題。
文檔編號C23C16/458GK103074610SQ20121030900
公開日2013年5月1日 申請日期2012年8月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月28日
發(fā)明者黃允文 申請人:光達(dá)光電設(shè)備科技(嘉興)有限公司