專利名稱：環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液。
背景技術(shù)：
化學(xué)機(jī)械拋光液(chemical machanical polish, CMP)技術(shù)的概念,是1965年由Monsanto首先提出。該技術(shù)最初是用于獲得高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠(yuǎn)鏡和光子儀器等。與傳統(tǒng)的單純機(jī)械或化學(xué)的拋光方法不同，CMP是通過化學(xué)與機(jī)械的共同綜合作用，因而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光可能造成的拋光速度慢，表面平整度和拋光一致性差的缺陷。該技術(shù)是利用磨損中的“軟磨硬”的原理，也就是用較軟的材料來進(jìn)行拋光，以獲得高質(zhì)量的表面拋光。
在設(shè)定的壓力和拋光液共同作用下，被拋光零件相對拋光墊作相對運(yùn)動，借助微細(xì)粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用的有機(jī)結(jié)合，獲得高質(zhì)量光性表面。CMP技術(shù)已從原來主要應(yīng)用于電路(IC)和超大規(guī)模集成電路(ULSI)對基材硅晶體的拋光，拓展主薄膜存儲磁盤，微電子機(jī)械和精密陶瓷、閥門、機(jī)械模具、光子玻璃，重金屬材料，特殊用途的有色金屬及合金表面(包括鋰及其合金、鋁及其合金、鈦及其合金)等表面有特殊要求的加工領(lǐng)域。器件特征尺寸在O. 35 μ m以下時，必須進(jìn)行全局平面化，以確保精確度和分辨率。而C M P拋光液是目前幾乎唯一的可以提供全局平面化的技術(shù)手段。其中化學(xué)拋光液是重要關(guān)鍵技術(shù)之一。通常情況下，拋光液中的磨料和種類、粒徑大小、顆粒分散度、穩(wěn)定性以及化學(xué)物理性質(zhì)都將與拋光液效果密切相關(guān)。此外，拋光墊的屬性(如材料和平整度等)也會極大的影響拋光效果。由于市場巨大的需求，排放以及后處理工作量大，CMP不再重復(fù)使用，故提出環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液就顯得尤為重要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，該拋光液具有良好的抗磨、減磨性能和防銹性能，且性能穩(wěn)定，可以滿足化學(xué)機(jī)械拋光加工的需要。本發(fā)明以如下技術(shù)方案解決上述技術(shù)問題鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液的組分及質(zhì)量百分比
權(quán)利要求
1.一種環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是由下列組分及質(zhì)量百分?jǐn)?shù)組成
2.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是油性添加劑為質(zhì)量比50%的脂肪酸鹽和50%的聚醚復(fù)合。
3.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是無機(jī)鹽防銹劑為磷酸二氫鈉，鑰酸鈉復(fù)合，質(zhì)量比為I : I;有機(jī)鹽防銹劑為辛酸鹽、十二烯基丁二酸鹽、十二烯基丁二酸辛酯鹽中的任一種。
4.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是非表面離子活性劑為丙異丙胺醇。
5.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是輔劑為乙醇。
6.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是pH調(diào)和劑為由檸檬酸和醋酸組成的復(fù)合有機(jī)酸，二者質(zhì)量比為1:1。
7.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是抗硬水劑為乙二胺四乙酸EDTA。
8.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是消泡劑為改性的聚硅乙烷。
9.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是復(fù)合磨料顆粒物為I. 2-2. 5 μ m質(zhì)量比50%的碳化硅和50%的氮化硼復(fù)合。
10.如權(quán)利要求I所述的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征是分散劑為二乙烯三胺和砒啶按質(zhì)量比1:1復(fù)合。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，由下列質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的成分組成油性添加劑5%-10%，無機(jī)鹽防銹劑為2%-5%，有機(jī)鹽防銹劑為10%-25%，非表面離子活性劑為5%-10%，輔劑為0.6%-1.0%，pH調(diào)和劑為1%-5%，抗硬水劑為0.3%-0.5%，消泡劑為0.07%-0.12%，復(fù)合磨料顆粒為6.0%-6.5%，分散劑為0.03%-0.05%，去離子水為余量。本發(fā)明的環(huán)境友好型鈦合金化學(xué)機(jī)械拋光液，具有良好的抗磨、減磨性能和防銹性能，性能穩(wěn)定，可以滿足化學(xué)機(jī)械拋光加工的需要。
文檔編號C23F3/04GK102877068SQ20121035775
公開日2013年1月16日 申請日期2012年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月24日
發(fā)明者黃福川, 盧朝霞, 莫宇飛, 梁景, 粟滿榮, 唐興中, 田宗義, 肖友程, 藍(lán)明新, 唐彩珍, 李勝, 李宏君, 梁慧, 趙鐘興, 廖丹葵, 劉琨 申請人:廣西大學(xué)