專(zhuān)利名稱(chēng)：一種環(huán)保型等離子拋光液及其制備工藝和拋光工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于拋光技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種環(huán)保型等離子拋光液及其制備工藝和拋光工藝。
背景技術(shù)：
等離子拋光是工件與拋光液中通電脫離的金屬離子吸附在工件表面，工件凸起處電流沖擊高而去除快，電流流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平。
等離子也稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會(huì)脫離原子核而跑出來(lái)，原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。溶液不參加化學(xué)反應(yīng)，成本低，與傳統(tǒng)的化學(xué)電解拋光相比，成本非常低。等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0. 1-0. 3納米，處理深度為0. 3-4. 5納米.拋光物的表面粗糙度在IMM范圍內(nèi)，因此等離子納米化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。但是，市面上通用的是液體電解拋光液，高濃度的酸和堿達(dá)到了 60%，強(qiáng)酸高污染，不易運(yùn)輸，液體碰撞產(chǎn)生溫度可對(duì)容器產(chǎn)生破壞，對(duì)所拋光產(chǎn)品破壞大，且不易控制，無(wú)法做到納米級(jí)拋光，對(duì)操作人員身體危害較大。且處理產(chǎn)品種類(lèi)較單一，無(wú)法處理精密產(chǎn)品。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種環(huán)保型等離子拋光液及其等離子拋光工藝，解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是，一種環(huán)保型等離子拋光液，所述拋光液含有比例為2%_6%的拋光鹽。優(yōu)選地，所述拋光鹽的藥劑含量及成分如下硝酸鹽129^17%，碳酸鋇209^25%，，無(wú)機(jī)物50% 60%，穩(wěn)定劑2% 10%。優(yōu)選地，適用于不銹鋼、鋅合金、無(wú)氧銅拋光去除毛刺。 優(yōu)選地，所述拋光鹽所制備的電解液濃度為2%飛％。優(yōu)選地，所述無(wú)機(jī)物的成分為碳酸鈉、硫酸鈉、檸檬酸鈉、氯化鈉、次氯酸鈉、硝酸鈉、亞硫酸鈉、高氯酸鈉的一種或幾種的組合。優(yōu)選地，所述的拋光液pH值為6 8。一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟I)制備拋光液；2)將電解液加熱至80-120° ;
3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟I)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱45 75度烘烤0. 5^2小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防
止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。優(yōu)選地，等離子拋光的條件為直流電，電壓230-380，電流密度為4(Tl00A/d m2，陰極面積與陽(yáng)極面積之比為i(Tioo:i。本發(fā)明的有益效果是，本拋光鹽為中性配方，粉狀固體，對(duì)所拋光產(chǎn)品不論規(guī)則形狀內(nèi)外都可以一致拋光，所拋光余量可控制在微米級(jí)，應(yīng)用廣泛，操作安全，本拋光鹽為中性環(huán)保型技術(shù)，電解液廢液不含有酸和堿，減少對(duì)環(huán)境的污染，有利于環(huán)保。本拋光液經(jīng)過(guò)上述制備工藝制備，然后使用上述拋光工藝加工產(chǎn)品，其使用期限可長(zhǎng)達(dá)一個(gè)月，可以讓使用者的成本大大降低，提高生產(chǎn)效率。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。一種環(huán)保型等離子拋光液，所述拋光液含有比例為2%_6%的拋光鹽。所述拋光鹽的藥劑含量及成分如下硝酸鹽129^17%，碳酸鋇209^25%，，無(wú)機(jī)物50% 60%，穩(wěn)定劑2% 10%。 適用于不銹鋼、鋅合金、無(wú)氧銅拋光去除毛刺。所述拋光鹽所制備的電解液濃度為2%飛％。所述無(wú)機(jī)物的成分為碳酸鈉、硫酸鈉、檸檬酸鈉、氯化鈉、次氯酸鈉、硝酸鈉、亞硫酸鈉、高氯酸鈉的一種或幾種的組合。所述的拋光液pH值為6 8。一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟I)制備拋光液；2)將電解液加熱至80-120° ;3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟I)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱45 75度烘烤0. 5^2小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防
止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。
等離子拋光的條件為直流電，電壓230-380，電流密度為4(Tl00A/d m2，陰極面積與陽(yáng)極面積之比為i(Tioo:i。實(shí)施例一一種電解液，其含有3%比例的等離子拋光鹽； 等離子拋光鹽含量為硝酸鹽15%，碳酸鋇23%，無(wú)機(jī)物57%，穩(wěn)定劑5%。實(shí)施例二 一種電解液，其含有4%比例的等離子拋光鹽；等離子拋光鹽含量為硝酸鹽17%，碳酸鋇22%，無(wú)機(jī)物56%，穩(wěn)定劑5%。實(shí)施例三一種電解液，其含有5%比例的等離子拋光鹽；等離子拋光鹽含量為硝酸鹽14%，碳酸鋇23%，無(wú)機(jī)物57%，穩(wěn)定劑6%。實(shí)施例四一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟I)制備拋光液；2)將電解液加熱至80° ;3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。實(shí)施例五一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟I)制備拋光液；2)將電解液加熱至90° ;3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6 )產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。實(shí)施例六一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟I)制備拋光液；2)將電解液加熱至100° ；3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。實(shí)施例七一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟I)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱50度烘烤I. 5小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。實(shí)施例八一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟I)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱65度烘烤2小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。 實(shí)施例九一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟I)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱70度烘烤I小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。上述實(shí)施方式只是本發(fā)明的實(shí)例，不是用來(lái)限制本發(fā)明的實(shí)施與權(quán)利范圍，凡依據(jù)本發(fā)明申請(qǐng)專(zhuān)利保護(hù)范圍所述的內(nèi)容做出的等效變化和修飾，均應(yīng)包括在本發(fā)明申請(qǐng)專(zhuān)利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于所述拋光液含有比例為2%-6%的拋光鹽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于所述拋光鹽的藥劑 含量及成分如下硝酸鹽12% 17%，碳酸鋇20% 25%，，無(wú)機(jī)物50% 60%，穩(wěn)定劑2% 10%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于適用于不銹鋼、鋅合 金、無(wú)氧銅拋光去除毛刺。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于所述拋光鹽所制備 的電解液濃度為2%飛％。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于所述無(wú)機(jī)物的成分 為碳酸鈉、硫酸鈉、檸檬酸鈉、氯化鈉、次氯酸鈉、硝酸鈉、亞硫酸鈉、高氯酸鈉的一種或幾種 的組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種環(huán)保型等離子拋光液，其特征在于所述的拋光液pH值 為6 8。
7.一種等離子拋光工藝，其特征在于所述工藝含有如下步驟1)制備如權(quán)利要求1所述的拋光液；2)將電解液加熱至80-120°;3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。
8.一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，其特征在于所述工藝含有如下步驟1)調(diào)配混合如權(quán)利要求2所述的拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱45 75度烘烤0.5 2小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為權(quán)利要求1所 述的電解液。
9.如權(quán)利要求7所述的一種等離子拋光工藝，其特征在于等離子拋光的條件為直流 電，電壓230-380，電流密度為4(Tl00A/d m2，陰極面積與陽(yáng)極面積之比為10 100:1。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種環(huán)保型等離子拋光液及其制備工藝和拋光工藝，所述拋光液含有比例為2%-6%的拋光鹽。一種等離子拋光工藝，所述工藝含有如下步驟1)制備拋光液；2)將電解液加熱至80-120°；3)產(chǎn)品等離子拋光；4)產(chǎn)品拋光完畢，放入純凈水槽進(jìn)行清洗；5)產(chǎn)品清洗完畢，放入烤箱進(jìn)行烘烤；6)產(chǎn)品烘烤完畢，進(jìn)行產(chǎn)品后處理。一種環(huán)保型等離子拋光液的制備工藝，所述工藝含有如下步驟1)調(diào)配混合拋光鹽；2)將拋光鹽放入烤箱45~75度烘烤0.5~2小時(shí)，用以蒸發(fā)掉不需要的反應(yīng)物，并防止受潮；3)將加溫后的拋光鹽放入反應(yīng)槽內(nèi)，加入相應(yīng)比例的純凈水，混合成為電解液。本拋光液使用期限可長(zhǎng)達(dá)一個(gè)月，可以讓使用者的成本大大降低，提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)C23F3/00GK102953062SQ20121043413
公開(kāi)日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2012年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月2日
發(fā)明者李寧 申請(qǐng)人:東莞市天昊金屬表面處理設(shè)備有限公司