化學(xué)氣相沉積裝置及其清潔方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種化學(xué)氣相沉積裝置。所述化學(xué)氣相沉積裝置將清潔工具從傳輸腔傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔，并將所述清潔工具安裝在反應(yīng)腔內(nèi)的頂壁上的清潔工具安裝部上，以清潔所述反應(yīng)腔內(nèi)的承載部件；所述化學(xué)氣相沉積裝置還可以翻轉(zhuǎn)所述清潔工具，并將所述清潔工具設(shè)置在所述承載部件上，以清潔所述反應(yīng)腔的頂壁。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置可以自動(dòng)清潔所述反應(yīng)腔的頂壁和承載部件，縮短了清潔時(shí)間，提高了所述化學(xué)氣相沉積裝置的生產(chǎn)效率。本發(fā)明同時(shí)提供一種化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法。
【專(zhuān)利說(shuō)明】化學(xué)氣相沉積裝置及其清潔方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種化學(xué)氣相沉積裝置及所述化學(xué)氣相沉積裝置的清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD,Metal-Organic Chemical VaporDeposition)是在氣相外延生長(zhǎng)(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種化學(xué)氣相外延沉積工藝。它以III族、II族元素的有機(jī)化合物和V、VI族元素的氫化物等作為晶體生長(zhǎng)的原材料，以熱分解反應(yīng)方式在石墨盤(pán)上進(jìn)行沉積工藝，生長(zhǎng)各種II1-V族、I1-VI族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。上述工藝過(guò)程通常在化學(xué)氣相沉積裝置中進(jìn)行，特別是在MOCVD裝置中進(jìn)行。
[0003]下面對(duì)現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積裝置進(jìn)行說(shuō)明。具體地，以MOCVD裝置為例，請(qǐng)參考圖10，圖10是現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0004]所述化學(xué)氣相沉積裝置2包括腔體21，設(shè)置在腔體21頂部的噴淋組件22，設(shè)置在所述腔體21底部的承載部件23，和驅(qū)動(dòng)所述承載部件23轉(zhuǎn)動(dòng)的致動(dòng)裝置24。所述噴淋組件22與所述承載部件23相對(duì)設(shè)置，并限定位于二者之間的反應(yīng)區(qū)。
[0005]在進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝的過(guò)程中，待處理基片設(shè)置在所述承載部件23面向所述噴淋組件22的上表面；所述致動(dòng)裝置24驅(qū)動(dòng)所述承載部件23轉(zhuǎn)動(dòng)；反應(yīng)氣體通過(guò)所述噴淋組件22進(jìn)入所述反應(yīng)區(qū)，并在所述待處理基片的表面發(fā)生反應(yīng)并沉積形成固體薄膜。
[0006]在上述化學(xué)氣相沉積工藝過(guò)程中，盡管不希望發(fā)生，但固體沉積物同時(shí)會(huì)沉積在所述噴淋組件22面向所述承載部件`23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面。所述沉積在所述噴淋組件22和所述承載部件23上的沉積物會(huì)脫落而形成污染顆粒。因此，在完成一定次數(shù)的化學(xué)氣相沉積工藝后，需要對(duì)所述噴淋組件22面向所述承載部件23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面進(jìn)行清潔?，F(xiàn)有技術(shù)中，清潔所述噴淋組件22和所述承載部件23表面的方法是:開(kāi)啟所述腔體21，用人工的方法對(duì)所述噴淋組件22面向所述承載部件23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面進(jìn)行刷洗。由于需要開(kāi)啟所述腔體21，就需要所述化學(xué)氣相沉積裝置2腔體21內(nèi)所有部件都冷卻到100攝氏度以下，并從真空狀態(tài)恢復(fù)到大氣壓狀態(tài)才能開(kāi)啟。在完成所述噴淋組件22表面和所述承載部件23表面的清洗后，又需要將所述化學(xué)氣相沉積裝置2腔體21進(jìn)行抽真空,并將腔體21內(nèi)的部件加熱到反應(yīng)溫度。因此,一次對(duì)所述噴淋組件22表面和所述承載部件23表面的清洗需要花費(fèi)較長(zhǎng)的時(shí)間，從而降低了現(xiàn)有化學(xué)氣相沉積裝置2生產(chǎn)效率。
[0007]為解決上述問(wèn)題，美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)US2011/0186078AI提出將清潔工具傳輸?shù)椒磻?yīng)腔中，并將清潔工具支撐在轉(zhuǎn)軸上，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述清潔工具以自動(dòng)清潔噴淋組件的出氣面的技術(shù)方案。但該技術(shù)方案只能自動(dòng)清潔所述噴淋組件的出氣面，并不能清潔所述承載部件23的表面；因此，還需要人工對(duì)所述化學(xué)氣相沉積裝置的承載部件122進(jìn)行清洗，或?qū)⑶鍧嵐ぞ吲c其相應(yīng)的制動(dòng)工具和支持工具一同傳入反應(yīng)腔內(nèi)對(duì)所述化學(xué)氣相沉積裝置的承載部件122進(jìn)行自動(dòng)清洗，這在小的空間將難以實(shí)現(xiàn)。
[0008]因此，有必要研發(fā)一種能夠?qū)娏芙M件表面和所述承載部件表面進(jìn)行自動(dòng)清潔并能縮短清潔時(shí)間的化學(xué)氣相沉積裝置及化學(xué)氣相沉積裝置清潔方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]現(xiàn)有技術(shù)化學(xué)氣相沉積裝置存在需要人工清洗，清洗時(shí)間長(zhǎng)，生產(chǎn)效率低的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種能解決上述問(wèn)題的化學(xué)氣相沉積裝置。
[0010]一種化學(xué)氣相沉積裝置包括反應(yīng)腔、傳輸腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔底部設(shè)置有承載部件，所述反應(yīng)腔設(shè)置有加熱器與致動(dòng)裝置，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，所述化學(xué)氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應(yīng)腔具有清潔工具安裝部，當(dāng)所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面使其相對(duì)所述清潔工具運(yùn)動(dòng)以使得所述清潔工具對(duì)所述承載面進(jìn)行清潔，當(dāng)翻轉(zhuǎn)所述清潔工具后，并將所述固定部設(shè)置在所述承載面上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面運(yùn)動(dòng)，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對(duì)所述頂壁運(yùn)動(dòng)以對(duì)所述頂壁進(jìn)行清潔。
[0011]本發(fā)明還提供一種能解決上述問(wèn)題的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法。
[0012]一種的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，包括:提供一反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔還包括設(shè)置在所述反應(yīng)腔底部并與頂壁相對(duì)的所述承載部件，所述反應(yīng)腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對(duì)所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面；提供一傳輸腔，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處`理完畢的基片或承載有基片的板部件；提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內(nèi)，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應(yīng)腔中；所述清潔工具通過(guò)所述固定部被設(shè)置在所述承載裝置上；提供一致動(dòng)裝置，所述致動(dòng)裝置升高并旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述頂壁；降低并停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件；所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具并使得所述清潔工具通過(guò)所述固定部安裝在所述清潔工具安裝部上；所述致動(dòng)裝置旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面；停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件，并使所述清潔工具從所述清潔工具安裝部上脫離；所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸?shù)剿鰝鬏斍弧?br> [0013]一種的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，包括:提供一反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔還包括設(shè)置在所述反應(yīng)腔底部并與頂壁相對(duì)的所述有承載部件，所述反應(yīng)腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對(duì)所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面；提供一傳輸腔，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件；提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內(nèi)，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應(yīng)腔中；所述清潔工具通過(guò)所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上；提供一致動(dòng)裝置，所述致動(dòng)裝置旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面；降低并停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件；所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具并使得所述清潔工具的固定部設(shè)置在所述承載部件上；所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載部件抬升并轉(zhuǎn)動(dòng)，使得所述清潔工具清潔所述頂壁；降低停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件；所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸?shù)剿鰝鬏斍弧?br> [0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，在需要清潔所述頂壁和所述承載部件表面時(shí)，將清潔工具傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔內(nèi)的所述承載部件上，使得所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述清潔工具對(duì)所述頂壁進(jìn)行清潔；在完成清潔所述頂壁后，所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具，并使得所述清潔工具固定于所述相對(duì)頂壁固定的清潔工具安裝部上，使所述承載部件旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而清潔所述承載部件的承載面。由于不需要人工對(duì)所述頂壁和所述承載部件的承載面進(jìn)行清洗，因此不需要等待所述反應(yīng)腔的溫度降低后才開(kāi)啟所述反應(yīng)腔，從而可以節(jié)省清潔時(shí)間，提高所述化學(xué)氣相沉積裝置的生產(chǎn)效率；且所述化學(xué)氣相沉積裝置可以自行清潔，減少了對(duì)人力勞動(dòng)的依賴。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置還可以同時(shí)自動(dòng)清洗所述頂壁和所述承載部件表面，從而使得所述反應(yīng)腔內(nèi)的污染物大為減少，提高了化學(xué)氣相沉積工藝的良率。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法具有基本相同的技術(shù)效果。此外，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應(yīng)腔具有清潔工具安裝部，所述清潔工具通過(guò)所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上，這避免了清洗過(guò)程中，將制動(dòng)工具或支持工具一并傳輸?shù)椒磻?yīng)腔中，有效利用了反應(yīng)腔內(nèi)的環(huán)境空間，簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是本發(fā)明化學(xué)氣相沉積裝置第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2是圖1所示化學(xué)氣相沉積裝置剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖3是圖1所示清潔工具的立體機(jī)構(gòu)示意圖。
[0018]圖4是圖3所示清潔工具的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖5是圖3所述刷子單元的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
`[0020]圖6是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具放置與所述承載部件后的反應(yīng)腔剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖7是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具抬升后使得所述清潔工具的刷毛與所述噴淋組件接觸后的反應(yīng)腔剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖8是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將翻轉(zhuǎn)后的所述清潔工具放置在所述承載部件上的反應(yīng)腔剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖9是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具的固定部安裝在所述清潔工具安裝部上的反應(yīng)腔剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖10是現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說(shuō)明。
[0026]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，因此本發(fā)明不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施例的限制。
[0027]現(xiàn)有技術(shù)化學(xué)氣相沉積裝置存在需要人工清洗，清洗時(shí)間長(zhǎng)，生產(chǎn)效率低的問(wèn)題，為解決現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本發(fā)明提出一種清潔時(shí)間短、生產(chǎn)效率高的化學(xué)氣相沉積裝置，所述化學(xué)氣相沉積裝置包括反應(yīng)腔、傳輸腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔底部設(shè)置有承載部件，所述反應(yīng)腔設(shè)置有加熱器與致動(dòng)裝置，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，所述化學(xué)氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應(yīng)腔具有清潔工具安裝部，當(dāng)所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面使其相對(duì)所述清潔工具運(yùn)動(dòng)以使得所述清潔工具對(duì)所述承載面進(jìn)行清潔，當(dāng)翻轉(zhuǎn)所述清潔工具后，并將所述固定部設(shè)置在所述承載面上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面運(yùn)動(dòng)，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對(duì)所述頂壁運(yùn)動(dòng)以對(duì)所述頂壁進(jìn)行清潔。
[0028]與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，在需要清潔所述頂壁和所述承載部件表面時(shí)，將清潔工具傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔內(nèi)的所述承載部件上，使得所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述清潔工具對(duì)所述頂壁進(jìn)行清潔；在完成清潔所述頂壁后，所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具，并使得所述清潔工具固定于所述相對(duì)頂壁固定的清潔工具安裝部上，使所述承載部件旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而清潔所述承載部件的承載面。由于不需要人工對(duì)所述頂壁和所述承載部件的承載面進(jìn)行清洗，因此不需要等待所述反應(yīng)腔的溫度降低后才開(kāi)啟所述反應(yīng)腔，從而可以節(jié)省清潔時(shí)間，提高所述化學(xué)氣相沉積裝置的生產(chǎn)效率；且所述化學(xué)氣相沉積裝置可以自行清潔，減少了對(duì)人力勞動(dòng)的依賴。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置還可以同時(shí)自動(dòng)清洗所述頂壁和所述承載部件表面，從而使得所述反應(yīng)腔內(nèi)的污染物大為減少，提高了化學(xué)氣相沉積工藝的良率。此外，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應(yīng)腔具有清潔工具安裝部，所述清潔工具通過(guò)所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上，這避免了清洗過(guò)程中，將致動(dòng)工具或支持工具一并傳輸?shù)椒磻?yīng)腔中，有效利用了反應(yīng)腔內(nèi)的環(huán)境空間，簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)。
[0029]請(qǐng)參閱圖1，圖1是本發(fā)明化學(xué)氣相沉積裝置第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。所述化學(xué)氣相沉積裝置I包括一傳輸腔11`、一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔12、負(fù)載鎖14和多個(gè)門(mén)閥13。所述一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔12與所述負(fù)載鎖14分布于所述傳輸腔11的周?chē)⒎謩e通過(guò)一個(gè)所述門(mén)閥13與所述傳輸腔11連通。所述負(fù)載鎖14用于向所述化學(xué)氣相沉積裝置I輸入待處理基片，和從所述化學(xué)氣相沉積裝置I輸出處理完成的基片。所述反應(yīng)腔12用于對(duì)待處理基片進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理，從而在待處理基片上沉積一層固體材料。所述固體材料，優(yōu)選的，如II1-V半導(dǎo)體材料。所述傳輸腔11用于在所述負(fù)載鎖14和所述一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔12之間傳輸基片。
[0030]請(qǐng)同時(shí)參閱圖2,圖2是圖1所示化學(xué)氣相沉積裝置2剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述反應(yīng)腔12包括腔體、位于腔體頂部的頂壁128、設(shè)置在所述腔體底部并與所述頂壁128相對(duì)設(shè)置的承載部件122、加熱器123、致動(dòng)裝置126、清潔工具安裝部16和泵部件。所述頂壁128與所述承載部件122之間限定一反應(yīng)區(qū)；所述加熱器123用于加熱設(shè)置在所承載部件122上的待處理基片或其他部件。所述致動(dòng)裝置126通過(guò)一轉(zhuǎn)軸124連接所述承載部件122。所述致動(dòng)裝置126用于驅(qū)動(dòng)所述承載部件122轉(zhuǎn)動(dòng)，優(yōu)選的，所述致動(dòng)裝置126還進(jìn)一步用于驅(qū)動(dòng)所述承載部件122，使所述承載部件122抬升或降低，從而使得所述承載部件122靠近或遠(yuǎn)離所述噴淋組件121。所述泵部件設(shè)置在所述承載部件122的周?chē)?，用于抽走所述反?yīng)區(qū)中的氣體。
[0031]所述頂壁128具有面向所述承載部件122的頂面。噴淋組件121設(shè)置在所述頂壁128上。所述噴淋組件121包括一面向所述承載部件122的出氣表面125。所述出氣表面125為所述頂壁128的頂面的一部分。所述出氣表面125上設(shè)置有多個(gè)出氣孔。反應(yīng)氣體從反應(yīng)腔12外引入到所述噴淋組件121后，通過(guò)所述多個(gè)出氣孔噴射到所述反應(yīng)區(qū)域中。所述承載部件122具有面向所述噴淋組件121的承載面127。在進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝的過(guò)程中，待處理基片被設(shè)置在所述承載面127上；所述加熱器123用于加熱所述被設(shè)置在所述承載面127上的待處理基片。其他部件也可以設(shè)置在所述承載面127上。所述清潔工具安裝部16安裝在所述頂壁128上，所述清潔工具安裝部16為設(shè)置在所述頂壁128上的多個(gè)卡合孔。優(yōu)選的，所述卡合孔設(shè)置在所述噴淋組件121的周?chē)?，如此，所述清潔工具安裝部16不會(huì)占用所述噴淋組件121的出氣表面125上的面積，使得噴淋組件121出氣表面125上的出氣孔在出氣表面125上分布均勻?？蛇x的所述清潔工具安裝部16還可以是設(shè)置在所述噴淋組件121上的檢測(cè)孔。由于所述噴淋組件121本身需要設(shè)置檢測(cè)孔，而且檢測(cè)孔是用于檢測(cè)基片處理過(guò)程中，反應(yīng)腔12內(nèi)的狀態(tài)，因此，在進(jìn)行清潔時(shí)，檢測(cè)孔可以用作清潔工具安裝部16，而不需要在反應(yīng)腔12中額外增加清潔工具安裝部16。
[0032]所述傳輸腔11至少包括腔體和傳輸裝置111。所述傳輸腔11優(yōu)選的為真空傳輸腔，即所述腔體內(nèi)被抽成真空狀態(tài)；有害氣體如:氧氣等進(jìn)入到所述反應(yīng)腔12后會(huì)造成對(duì)所述反應(yīng)腔12的損害，如氧氣氧化所述反應(yīng)腔12內(nèi)的部件；使用真空傳輸腔，使得在所述傳輸腔11與所述反應(yīng)腔12之間的門(mén)閥13開(kāi)啟以傳輸基片時(shí)，不會(huì)有有害氣體如:氧氣等進(jìn)入到所述反應(yīng)腔12中。所述傳輸裝置111設(shè)置在所述傳輸腔11的腔體內(nèi)。所述傳輸裝置111用于在所述負(fù)載鎖14和所述一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔12之間傳輸基片。優(yōu)選的，所述傳輸裝置111為機(jī)械手。優(yōu)選的，所述傳輸腔11還包括一設(shè)置其腔體內(nèi)的基片架112。所述基片架112用于存放基片；所述傳輸裝置111同時(shí)也可以在所述負(fù)載鎖14、所述一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔12和基片架112之間傳輸基片。
[0033]所述化學(xué)氣相沉積裝置I進(jìn)一步包括一清潔工具15。所述清潔工具15在所述化學(xué)氣相沉積裝置I在待機(jī)狀態(tài)或進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝時(shí)，被放置于傳輸腔11中或所述負(fù)載鎖14中；當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積裝置I中的反應(yīng)腔12中的頂壁128 (即所述噴淋組件121的出氣表面)或承載部件122需要清潔的時(shí)候，所述清潔工具15將通過(guò)所述傳輸裝置111傳輸至所述反應(yīng)腔12中，并設(shè)置在所述承載部件122的承載面127或安裝在所述清潔工具安裝部16上。使得所述致動(dòng)裝置126可以驅(qū)動(dòng)所述承載部件122，從而所述清潔工具15可以對(duì)所述頂壁128的頂面或所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清潔；其中，所述清潔工具15可以先設(shè)置在所述承載部件122的承載面127上以清潔所述頂壁128的頂面，完成清潔所述頂壁128的頂面后，所述化學(xué)氣相沉積裝置I翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15，即使得所述清潔工具15清潔面翻轉(zhuǎn)面向所述承載部件122的承載面127，并使得所述清潔工具15固定于所述清潔工具安裝部16上，使得所述清潔工具15清潔所述承載部件122的承載面127 ;所述清潔工具15也可以先固定在所述清潔工具安裝部16上以清潔所述承載部件122的承載面127，完成清潔所述 承載部件122的承載面127后，所述化學(xué)氣相沉積裝置I翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15，并使得所述清潔工具15設(shè)置在所述承載部件122的承載面127上，以使得所述清潔工具15清潔所述頂壁128的頂面。其中，所述化學(xué)氣相沉積裝置I翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15，可以是使得所述傳輸裝置111將所述清潔工具15從所述反應(yīng)腔12中取出到所述傳輸腔11中，所述傳輸裝置111在所述傳輸腔11中翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15并將所述清潔工具15從新傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔12中。優(yōu)選的，當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積裝置I在待機(jī)狀態(tài)或進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝時(shí)，所述清潔工具15被放置在所述傳輸腔11中的基片架112上。由于所述傳輸腔11為真空傳輸腔；因此需要將所述清潔工具15傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔12中時(shí)，無(wú)需等待所述反應(yīng)腔12的溫度降低和恢復(fù)到大氣壓力，就能開(kāi)啟所述位于傳輸腔11與所述反應(yīng)腔12之間門(mén)閥13。從而縮短傳輸所述清潔工具15的時(shí)間。同時(shí)，將所述清潔工具15放置在所述傳輸腔11中的基片架112上，可以使得將所述清潔工具15傳輸?shù)椒磻?yīng)腔12中的路程最短，從而進(jìn)一步縮短傳輸所述清潔工具15的時(shí)間。
[0034]請(qǐng)同時(shí)參閱圖3和圖4，圖3是圖1所示清潔工具15的立體結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是圖3所示清潔工具15的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。所述清潔工具15包括一托盤(pán)本體151、固定部158和刮擦部。所述固定部158設(shè)置所述托盤(pán)本體151的下表面；所述固定部158與所述清潔工具安裝部16相對(duì)應(yīng)，所述清潔工具15通過(guò)所述固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16中；其中，所述固定部158包括多個(gè)固定卡扣。所述刮擦部固定設(shè)置在所述托盤(pán)本體151的上表面在本實(shí)施方式中，所述刮擦部包括多個(gè)刷子單元152，當(dāng)然在本發(fā)明的某些其他的【具體實(shí)施方式】中，所述刮擦部也可以僅為一個(gè)刷子單元；所述刷子單元152優(yōu)選的呈條狀；可選的，所述刷子單元152也可以呈扇形。優(yōu)選的，所述多個(gè)刷子單元152在所述托盤(pán)本體151的上表面呈放射狀均勻分布；以使得所述清潔工具15可以均勻地清潔所述頂壁128的頂面和所述承載部件122的承載面127。優(yōu)選的，所述清潔工具15的本體151包括若干子部，每一個(gè)子部上具有刷子單元152，從而使得所述清潔工具15分為若干子清潔部157，所述子清潔部157由所述傳輸裝置111在所述傳輸腔11和所述反應(yīng)腔12之間傳輸。所述本體151的子部?jī)?yōu)選的為扇 形結(jié)構(gòu)，所述清潔工具15的本體151為所述子部拼接而成的圓環(huán)形盤(pán)或圓形盤(pán)，也即所述清潔工具15為所述子清潔部157拼接而成的圓環(huán)形盤(pán)或圓形盤(pán)。
[0035]請(qǐng)一并參閱圖5，圖5是圖3所述刷子單元152的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述刷子單元152包括基板1523和刷毛1521/1522。所述基板1523固定安裝于所述托盤(pán)本體151上。所述刷毛1521/1522插至于所述基板1523上；所述刷毛1521/1522的材料優(yōu)選的，為耐高溫和/或耐腐蝕的材料，如所述刷毛1521/1522的材料為尼龍(nylon)、高鉻調(diào)制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(wǎng)(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復(fù)合材料中的一種或多種。優(yōu)選的，所述刷毛1521/1522橫截面積要小于出氣面125上的出氣通孔的橫截面積；如此，所述刷毛1521/1522可以伸入到所述出氣通孔中對(duì)沉積在所述出氣通孔內(nèi)的物質(zhì)進(jìn)行清潔。所述刷毛1521/1522包括第一刷毛1521和第二刷毛1522。所述第一刷毛1521和第二刷毛1522的長(zhǎng)度可以相同；優(yōu)選的，所述第一刷毛1521與所述第二刷毛1522相互間隔設(shè)置；且所述第一刷毛1521的長(zhǎng)度較所述第二刷毛1522的長(zhǎng)度要短。其中較長(zhǎng)的所述第二刷毛1522可以用于清潔所述噴淋組件121的出氣表面125和所述承載部件122的承載面127上較難清潔的縫隙部分。
[0036]所述化學(xué)氣相沉積裝置I還進(jìn)一步包括一控制裝置。所述控制裝置用于控制所述化學(xué)氣相沉積裝置I各個(gè)部件的運(yùn)作。
[0037]以下將對(duì)所述化學(xué)氣相沉積裝置I的工作過(guò)程進(jìn)行介紹。
[0038]在所述化學(xué)氣相沉積裝置I進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝時(shí)，所述負(fù)載鎖14打開(kāi)，待處理基片被加載到所述負(fù)載鎖14中。關(guān)閉所述負(fù)載鎖14，并將所述負(fù)載鎖14抽真空。完成對(duì)所述負(fù)載鎖14抽真空后，開(kāi)啟所述負(fù)載鎖14與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13。傳輸裝置111將所述待處理基片從所述負(fù)載鎖14中取出，并將所述待處理基片運(yùn)送到所述傳輸腔11中；其中，所述傳輸裝置111可以將所述待處理基片保持在所述傳輸裝置111上，或?qū)⑺龃幚砘瑫捍嬖谒龌?12上。關(guān)閉所述負(fù)載鎖14與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13，開(kāi)啟所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13。傳輸裝置111將所述待處理基片運(yùn)輸?shù)剿龇磻?yīng)腔12中，并放置在所述承載部件122上，即，所述承載部件122同時(shí)也是用于支撐待處理基片的基座。關(guān)閉所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13。所述致動(dòng)裝置126驅(qū)動(dòng)所述承載部件122旋轉(zhuǎn)并帶動(dòng)所述待處理基片轉(zhuǎn)動(dòng)；所述加熱器123加熱設(shè)置在所述承載部件122上的基片；所述噴淋組件121連接包括反應(yīng)氣體源和載氣源，從而通過(guò)所述噴淋組件121上的出氣口向所述反應(yīng)區(qū)域提供反應(yīng)氣體和載氣。所述反應(yīng)氣體在所述反應(yīng)區(qū)域發(fā)生反應(yīng)并在所述基片的表面沉積一層固體薄膜。優(yōu)選的，當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積裝置為金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積裝置時(shí)，所述反應(yīng)氣體優(yōu)選的包括III族反應(yīng)氣體和V族反應(yīng)氣體,或所述反應(yīng)氣體包括II族反應(yīng)氣體和VI族反應(yīng)氣體；所述反應(yīng)氣體反應(yīng)在所述基片上沉積一層II1-V族半導(dǎo)體薄膜，如GaN薄膜，或沉積一層I1-VI族半導(dǎo)體薄膜。完成薄膜沉積后，開(kāi)啟所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13，傳輸裝置111將所述基片從所述處理腔12中取出并傳輸?shù)剿鰝鬏斍?1中；其中，所述傳輸裝置111可以將所述基片保持在所述傳輸裝置111上，或?qū)⑺龌瑫捍嬖谒龌?12上。關(guān)閉所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13，開(kāi)啟所述負(fù)載鎖14與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥
13。傳輸裝置111將所述基片傳輸?shù)剿鲐?fù)載鎖14中。關(guān)閉所述負(fù)載鎖14與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13 ;使得所述負(fù)載鎖14中的氣壓恢復(fù)到大氣壓，開(kāi)啟所述負(fù)載鎖14，將所述基片從負(fù)載鎖14中取出，從而完成對(duì)基片`的化學(xué)氣相沉積工藝處理過(guò)程。上述過(guò)程中，基片在反應(yīng)腔12中完成處理并被傳輸?shù)剿鰝鬏斍?1后，還可以被傳輸?shù)搅硗庖粋€(gè)處理腔12中進(jìn)行其他化學(xué)氣相沉積工藝處理。之后再傳輸?shù)剿鲐?fù)載鎖14中取出。
[0039]當(dāng)所述處理腔12完成一次或多次化學(xué)氣相沉積工藝處理后，其頂壁128和所述承載部件122的承載面127將沉積有固體物質(zhì)，因此，需要對(duì)所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清潔。此時(shí)，所述傳輸腔11中的傳輸裝置111從所述負(fù)載腔14或所述傳輸腔11中的所述基片架112上裝載所述清潔工具15。優(yōu)選的，所述清潔工具15被放置在所述傳輸腔11中的基片架112上，因此，所述傳輸裝置111從所述基片架112上裝載所述清潔工具15。開(kāi)啟所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13，傳輸裝置111將所述清潔工具15傳輸至所述反應(yīng)腔12中，并將所述清潔工具15通過(guò)所述固定部158放置在所述承載部件122上，所述清潔工具15通過(guò)所述固定部158固定在所述承載部件122上；所述固定部158的固定卡扣與所述承載部件122上的卡合部配合使得所述清潔工具15固定在所述承載部件122上；優(yōu)選的，傳輸所述清潔工具15為逐個(gè)傳輸所述若干個(gè)子清潔部127。所述控制裝置控制所述致動(dòng)裝置126，使得所述致動(dòng)裝置126驅(qū)動(dòng)所述承載部件122旋轉(zhuǎn)，從而帶動(dòng)所述清潔工具15旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而使得所述清潔工具15上的刮擦部刷洗所述頂壁128 ;優(yōu)選的，在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128同時(shí)，所述加熱器123加熱所述清潔工具15，從而提高所述清潔工具15的清潔效率；進(jìn)一步優(yōu)選的，在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128同時(shí)，所述噴淋組件121還進(jìn)一步連接一清潔氣源，所述清潔氣源優(yōu)選的包括含氯化合物或含氟化合物的氣體，如氯化氫；清潔氣體通過(guò)所述噴淋組件121進(jìn)入所述反應(yīng)腔的反應(yīng)區(qū)，所述清潔氣體可以進(jìn)一步提高所述清潔工具15的清潔效率；進(jìn)一步優(yōu)選的，所述泵部件在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128時(shí)，將反應(yīng)區(qū)中的氣體抽走，以迅速帶走所述頂壁128上的污物，防止污物殘留，提高清潔效果。
[0040]請(qǐng)參閱圖6，圖6是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具15固定于所述承載部件122后的反應(yīng)腔12剖面結(jié)構(gòu)示意圖。其中，當(dāng)所述清潔工具15被設(shè)置在所述承載部件122上后，由于所述清潔工具15的刷毛1511/1512與所述頂壁128之間通常具有間隙。因此，優(yōu)選的，所述致動(dòng)裝置126進(jìn)一步包括一抬升裝置；所述抬升裝置用于抬升所述承載部件122，使得所述清潔工具15的刷毛1511/1512接觸到所述頂壁128。請(qǐng)參閱圖7，圖7是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具15抬升使得所述清潔工具15的刷毛與所述頂壁128接觸后的反應(yīng)腔12剖面結(jié)構(gòu)示意圖。在所述清潔工具15被放置到所述承載部件122上后，所述控制裝置控制所述致動(dòng)裝置126旋轉(zhuǎn)所述承載部件122，并同時(shí)抬升所述承載部件122，使得所述清潔工具15的刷毛1511/1512接觸所述頂壁128，并刷洗所述頂壁128。所述控制裝置進(jìn)一步包括檢測(cè)裝置，所述檢測(cè)裝置用于檢測(cè)所述清潔工具15的刷毛1511/1512是否接觸所述頂壁128。如所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述致動(dòng)裝置126中驅(qū)動(dòng)所述承載部件122轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)的電流量變化從而檢測(cè)所述清潔工具15的刷毛1511/1512是否接觸所述頂壁128。當(dāng)刷毛1511/1512接觸到所述頂壁128，所述電機(jī)的電流會(huì)增加，所述檢測(cè)裝置檢測(cè)到電流增加后，將會(huì)輸出控制信號(hào)，使得所述致動(dòng)裝置126停止提升所述承載部件122。所述控制裝置的檢測(cè)裝置還進(jìn)一步檢測(cè)所述頂壁128是否清潔干凈。如所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述致動(dòng)裝置126中驅(qū)動(dòng)所述承載部件轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)的電流量變化以檢測(cè)所述頂壁128是否已經(jīng)清潔完成，由于所述出氣表面125清潔干凈后，所述驅(qū)動(dòng)所述承載部件122轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)的電流量會(huì)降低，所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述電流的降低，當(dāng)所述電流降低到預(yù)定值時(shí)，所述檢測(cè)裝置發(fā)出控制指令，所述控制指`令使得所述承載部件122停止轉(zhuǎn)動(dòng)，從而所述清潔工具15停止清洗所述頂壁128?？蛇x的，所述控制裝置還可以是包括一計(jì)時(shí)器，所述計(jì)時(shí)器用于控制所述清潔工具15刷洗所述頂壁128的時(shí)間。所述時(shí)間的長(zhǎng)度根據(jù)經(jīng)驗(yàn)設(shè)定，通常以保證能夠清洗干凈所述頂壁128為限。優(yōu)選的，所述控制裝置還包括一轉(zhuǎn)速控制單元，所述轉(zhuǎn)速控制單元能夠根據(jù)所述頂壁128的清潔程度決定所述承載部件122的轉(zhuǎn)速，所述頂壁128越清潔，所述承載部件122的轉(zhuǎn)速越低。又優(yōu)選的，所述控制裝置還包括一溫度控制單元，所述溫度控制單元能夠根據(jù)所述頂壁128的清潔程度決定所述加熱器123對(duì)所述清潔工具15施加的溫度，所述頂壁128越清潔，所述加熱器123的加熱溫度越低。又優(yōu)選的，所述控制裝置還包括一氣壓控制單元，在所述清洗工具15對(duì)所述頂壁128進(jìn)行清洗的過(guò)程中，所述氣壓控制單元控制所述反應(yīng)腔12內(nèi)的氣壓。
[0041]在完成清潔所述頂壁128后，降低所述承載部件122，所述致動(dòng)裝置126停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件122 ;所述反應(yīng)腔12與所述傳輸腔11之間的門(mén)閥13開(kāi)啟。傳輸裝置111將所述清潔工具15從所述反應(yīng)腔12中取出至所述傳輸腔11中。所述傳輸裝置111翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15，使得所述清潔工具15具有刮擦部的表面向下，即具有所述固定部158的表面向上。請(qǐng)參閱圖8，圖8是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將翻轉(zhuǎn)后的所述清潔工具15放置在所述承載部件122上的反應(yīng)腔12剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述清潔工具15在所述傳輸腔11內(nèi)被翻轉(zhuǎn)后，所述傳輸裝置111再將所述清潔工具15傳輸至所述反應(yīng)腔12中，并將所述清潔工具15放置在所述承載部件122上。所述抬升裝置驅(qū)動(dòng)所述承載部件122升高，使得所述清潔工具15靠近所述頂壁128，使得所述清潔工具15的固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上，從而使得所述清潔工具15相對(duì)所述頂壁128固定；在本實(shí)施方式中，所述清潔工具15的固定卡扣對(duì)應(yīng)卡合于所述頂壁128上的檢測(cè)孔中。請(qǐng)參閱圖9，圖9是清潔反應(yīng)腔的過(guò)程中，將所述清潔工具15的固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上的反應(yīng)腔12剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述清潔工具15安裝在所述清潔工具安裝部16后，所述致動(dòng)裝置126驅(qū)動(dòng)所述承載部件122轉(zhuǎn)動(dòng)，使得所述清潔工具15清潔所述承載部件122的承載面127 ;與此同時(shí)，所述加熱器123可以加熱所述清潔工具15。所述控制裝置的檢測(cè)裝置還進(jìn)一步檢測(cè)所述承載部件122的承載面127是否清潔干凈。所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述承載面127是否清潔干凈的方法與檢測(cè)所述頂壁128是否清潔干凈的方法基本相同，因此不再贅述。優(yōu)選的，所述控制裝置的轉(zhuǎn)速控制單元根據(jù)所述承載面127的清潔程度決定所述承載部件122的轉(zhuǎn)速，所述承載面127越清潔，所述承載部件122的轉(zhuǎn)速越低。又優(yōu)選的，所述控制裝置的溫度控制單元能夠根據(jù)所述承載面127的清潔程度決定所述加熱器123對(duì)所述清潔工具15施加的溫度，所述承載面127越清潔，所述加熱器123的加熱溫度越低。又優(yōu)選的，在所述清洗工具15對(duì)所述出氣表面125進(jìn)行清洗的過(guò)程中，所述控制裝置的氣壓控制單元控制所述反應(yīng)腔12內(nèi)的氣壓。
[0042]所述清潔工具15完成清潔所述承載部件122的承載面后，所述清潔工具15從所述噴淋組件121上脫離，并放置在所述承載部件122上，所述傳輸腔11與所述反應(yīng)腔12之間的門(mén)閥13開(kāi)啟；所述傳輸裝置111將所述清潔工具15傳輸?shù)剿龌?12上。所述清潔工具15放置在所述基片架112上后，可以進(jìn)一步傳輸?shù)剿鲐?fù)載鎖14中，再?gòu)乃鲐?fù)載鎖14將所述清潔工具15從所述化學(xué)氣相沉積裝置I中取出。從而完成清洗過(guò)程，所述反應(yīng)腔12可以從新進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝處理工程。
[0043]在上述對(duì)所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清潔的過(guò)程中，所述清潔工具15也可以先通過(guò)所述固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上，以對(duì)所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清潔；其中，所述清潔工具15安裝到所述清潔工具安裝部16和所述清潔工具15對(duì)所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清潔的過(guò)程與前述相同，在此不再贅述。然后所述化學(xué)氣相沉積裝置I再翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15 ;所述化學(xué)氣相沉積裝置I翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15的過(guò)程與前述相同，在此也不再贅述。所述化學(xué)氣相沉積裝置I翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15后，將所述清潔工具15通過(guò)所述固定部158設(shè)置在所述承載部件122上對(duì)所述頂壁128進(jìn)行清潔；所述清潔工具15設(shè)置在所述承載部件122和所述清潔工具15對(duì)所述頂壁128進(jìn)行清潔的過(guò)程與前述相同，在此也不再贅述。
[0044]與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置I中，在需要清潔所述頂壁128和所述承載部件122時(shí)，將清潔工具15傳輸?shù)剿龇磻?yīng)腔12內(nèi)，使得所述清潔工具15安裝在所述清潔工具安裝部16上以對(duì)所述承載部件122進(jìn)行清潔；所述化學(xué)氣相沉積裝置I還翻轉(zhuǎn)所述清潔工具15，使所述清潔工具15設(shè)置在所述承載部件122上，用以對(duì)所述頂壁128進(jìn)行清潔。由于不需要人工對(duì)所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進(jìn)行清洗，因此，不需要等待所述反應(yīng)腔12的溫度降低后開(kāi)啟所述反應(yīng)腔12，因此可以節(jié)省清潔時(shí)間，提高所述化學(xué)氣相沉積裝置I的生產(chǎn)效率。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置I還可以同時(shí)自動(dòng)清洗所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127，從而使得所述反應(yīng)腔12內(nèi)的污染物大為減少，提聞了化學(xué)氣相沉積工藝的良率。
[0045]本發(fā)明化學(xué)氣相沉積裝置的第二實(shí)施方式與本發(fā)明化學(xué)氣相沉積裝置第一實(shí)施方式基本相同，其區(qū)別在于:述清潔工具的刮擦部包括多個(gè)擦布單元。所述刷布單元包括基板和刷布。所述基板固定于所述托盤(pán)本體上。所述刷布粘附于所述基板上；所述刷布的材料優(yōu)選的，為耐高溫和/或耐腐蝕的材料，如所述刷布的材料為尼龍(nylon)、高鉻調(diào)制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbonnanotubes)、炭纖維網(wǎng)(carbonmesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復(fù)合材料中的一種或多種。
[0046]與第一實(shí)施方式化學(xué)氣相沉積裝置I相比，第二實(shí)施方式化學(xué)氣相沉積裝置使用由多個(gè)刷布單元組成的刮擦部清潔所述噴淋組件的出氣表面，由于刷布更加細(xì)膩，因此對(duì)所述噴淋組件的出氣表面的清潔更加均勻。
[0047]雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。`
【權(quán)利要求】
1.一種化學(xué)氣相沉積裝置，包括:反應(yīng)腔、傳輸腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔底部設(shè)置有承載部件，所述反應(yīng)腔設(shè)置有加熱器與致動(dòng)裝置，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應(yīng)腔具有清潔工具安裝部，當(dāng)所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面使其相對(duì)所述清潔工具運(yùn)動(dòng)以使得所述清潔工具對(duì)所述承載面進(jìn)行清潔，當(dāng)翻轉(zhuǎn)所述清潔工具后，并將所述固定部設(shè)置在所述承載面上時(shí)，所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載面運(yùn)動(dòng)，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對(duì)所述頂壁運(yùn)動(dòng)以對(duì)所述頂壁進(jìn)行清潔。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具安裝部設(shè)置于所述反應(yīng)腔的頂壁。
3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)腔頂壁包括面向所述承載部件的頂面，所述頂面的至少一部分為出氣表面。
4.如權(quán)利要求3所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述頂壁具有噴淋組件，所述出氣面為所述噴淋組件面向所述承載部件的表面，所述清潔工具安裝部設(shè)置在所述噴淋組件四周。
5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)腔的頂壁具有檢測(cè)孔，所述檢測(cè)孔為所述清潔工具安裝部。
6.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述頂壁具有噴淋組件，所述檢測(cè)孔設(shè)置在所述噴淋組件上。
7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具包括若干子清潔部，所述子清潔部由所述傳輸裝置在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸。
8.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述子清潔部為扇形結(jié)構(gòu)，所述清潔工具為所述子清潔部拼接而成的圓環(huán)形盤(pán)或圓形盤(pán)。
9.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具的翻轉(zhuǎn)在所述傳輸腔內(nèi)完成。
10.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述傳輸裝置將所述清潔工具傳輸?shù)剿鰝鬏斍缓髮⑺銮鍧嵐ぞ叻D(zhuǎn)。
11.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置傳輸腔內(nèi)包括基片架，所述基片架用以放置所述基片和所述清潔工具。
12.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述傳輸腔為真空傳輸腔。
13.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刮擦部包括多個(gè)刷子單J Li ο
14.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刮擦部包括多個(gè)刷布單J Li ο
15.如權(quán)利要求13所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有基板及至少一種刷毛。
16.如權(quán)利要求15所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛的材質(zhì)包括尼龍(nylon)、高鉻調(diào)制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber) >碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(wǎng)(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復(fù)合材料中的一種或多種。
17.如權(quán)利要求14所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有基板及至少一種刷布。
18.如權(quán)利要求17所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，刷布的材質(zhì)是尼龍(nylon)、高鉻調(diào)制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(wǎng)(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復(fù)合材料中的一種或多種。
19.如權(quán)利要求15所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛具有相同長(zhǎng)度。
20.如權(quán)利要求15所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛具有不同長(zhǎng)度。
21.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述加熱單元對(duì)所述清潔工具加熱。
22.如權(quán)利要求13所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有刷毛，所述頂板具有若干出氣通孔，所述出氣通孔的橫截面積大于所述刷毛的橫截面積。
23.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述承載部件為用于放置所述基片的基座。
24.如權(quán)利要求1-23中任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置還包括控制單元，所述控制單元包括承載部件旋轉(zhuǎn)控制單元，所述旋轉(zhuǎn)控制單元用于控制旋轉(zhuǎn)所述承載部件，以對(duì)所述頂壁或所述承載部件的承載面進(jìn)行清洗。
25.如權(quán)利要求24所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述致動(dòng)裝置為所述承載部件旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置。
26.如權(quán)利要求25所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述控制單元還包括基座升降控制單元用以控制所述基座的升降運(yùn)動(dòng)，以便所述清潔單元的刮擦部能夠刷到所述承載面或所述頂壁。
27.如權(quán)利要求26所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述控制單元具備信號(hào)輸出，以輸出所述刮擦部接觸到所述頂壁時(shí)的表征信號(hào)。
28.如權(quán)利要求27所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具還包括檢測(cè)單元，用于檢測(cè)所述刮擦部對(duì)所述承載面或所述頂壁的接觸程度。
29.如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置為金屬氧化物化學(xué)氣相沉積裝置，用以沉積化合物半導(dǎo)體外延薄膜。
30.如權(quán)利要求29所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述噴淋組件連接反應(yīng)氣體源、載氣源、清潔氣體源。
31.如權(quán)利要求30所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)氣體源包括III族金屬有機(jī)源和V族氫化物源。
32.如權(quán)利要求30所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)氣體源包括II族金屬有機(jī)源和VI族氫化物源。
33.如權(quán)利要求30所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清洗氣體源包括含氯化合物或含氟化合物的氣體。
34.一種的化學(xué)氣相沉積裝置 的清洗方法，包括:提供一反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔還包括設(shè)置在所述反應(yīng)腔底部并與頂壁相對(duì)的所述承載部件，所述反應(yīng)腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對(duì)所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面； 提供一傳輸腔，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件； 提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內(nèi)，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應(yīng)腔中； 所述清潔工具通過(guò)所述固定部被設(shè)置在所述承載裝置上； 提供一致動(dòng)裝置，所述致動(dòng)裝置升高并旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述頂壁； 降低并停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件； 所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具并使得所述清潔工具通過(guò)所述固定部安裝在所述清潔工具安裝部上； 所述致動(dòng)裝置旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面； 停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件，并使所述清潔工具從所述清潔工具安裝部上脫離； 所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸?shù)剿鰝鬏斍弧?br> 35.一種的化學(xué)氣相沉 積裝置的清洗方法，包括: 提供一反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔具有頂壁，所述反應(yīng)腔還包括設(shè)置在所述反應(yīng)腔底部并與頂壁相對(duì)的所述有承載部件，所述反應(yīng)腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對(duì)所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面； 提供一傳輸腔，所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件； 提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內(nèi)，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應(yīng)腔中； 所述清潔工具通過(guò)所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上； 提供一致動(dòng)裝置，所述致動(dòng)裝置旋轉(zhuǎn)所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面； 降低并停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件； 所述化學(xué)氣相沉積裝置翻轉(zhuǎn)所述清潔工具并使得所述清潔工具的固定部設(shè)置在所述承載部件上； 所述致動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述承載部件抬升并轉(zhuǎn)動(dòng)，使得所述清潔工具清潔所述頂壁； 降低停止旋轉(zhuǎn)所述承載部件； 所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸?shù)剿鰝鬏斍弧?br> 36.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具包括若干子清潔部，所述子清潔部由所述傳輸裝置在所述傳輸腔和所述反應(yīng)腔之間傳輸。
37.如權(quán)利要求36所述的化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述子清潔部為扇形結(jié)構(gòu)，所述清潔工具為所述子清潔部拼接而成的圓環(huán)形盤(pán)或圓形盤(pán)。
38.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述清潔工具包括多個(gè)刷子單元。
39.如權(quán)利要求38所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述致動(dòng)裝置升高與旋轉(zhuǎn)所述承載部件可以同時(shí)進(jìn)行。
40.如權(quán)利要求38所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，升高與旋轉(zhuǎn)所述承載部件可以分步進(jìn)行。
41.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括檢測(cè)裝置，所述檢測(cè)裝置用以檢測(cè)所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔狀態(tài)。
42.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置為金屬氧化物化學(xué)氣相沉積裝置，用以沉積化合物半導(dǎo)體外延薄膜。
43.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述清潔工具包括刷子或刷布單元。
44.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括轉(zhuǎn)速控制單元，所述轉(zhuǎn)速控制單元能夠根據(jù)所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定所述承載部件的轉(zhuǎn)速。
45.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括溫度控制單元，所述溫度控制單元能夠根據(jù)所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定所述加熱單元對(duì)所述清潔工具施加的溫度。
46.如權(quán)利要求45所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，在所述清洗工具對(duì)所述頂壁或所述 承載部件的承載面進(jìn)行清洗的過(guò)程中，向所述反應(yīng)腔中通入清潔氣體。
47.如權(quán)利要求34或35所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積裝置還包括設(shè)置在承載部件周?chē)谋貌考?，在所述清洗工具?duì)所述頂壁或所述承載部件的承載面進(jìn)行清洗的過(guò)程中，向所述反應(yīng)腔中通入氣體，所述泵部件將氣體抽走，以迅速帶走所述的污物。
48.如權(quán)利要求47所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括氣體流量控制單元，所述氣體流量控制單元能夠根據(jù)所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定向所述反應(yīng)腔中通入氣體的流量。
49.如權(quán)利要求48所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括氣壓控制單元，在所述清洗工具對(duì)所述頂壁或所述承載部件的承載面進(jìn)行清洗的過(guò)程中，所述氣壓控制單元控制所述反應(yīng)腔內(nèi)的氣壓。
【文檔編號(hào)】C23C16/00GK103805958SQ201210458045
【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2012年11月14日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月14日
【發(fā)明者】馬悅, 袁剛, 姜蔚, 奚明 申請(qǐng)人:理想能源設(shè)備(上海)有限公司