專利名稱：一種掩模板及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及OLED顯示及照明技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模板及其加工方法。
背景技術(shù)：
有機電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優(yōu)點，被認為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機電致發(fā)光二極管)技術(shù)中，真空蒸鍍中的掩模板技術(shù)是一項非常重要和關(guān)鍵的技術(shù)，該技術(shù)的等級直接影響OLED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。在應(yīng)用于蒸鍍時，傳統(tǒng)工藝的蒸鍍用掩模板一般采用正反同時蝕刻工藝，雖然可以制作出帶有一定錐度的開口，但由于側(cè)蝕的原因，使得掩模板貼緊蒸鍍ITO玻璃基板的銦錫氧化物接觸面的銦錫氧化物接觸面開口存在倒錐度，該種倒錐角的存在，產(chǎn)生死角區(qū)域，由于該死角區(qū)域的存在，無法達到蒸鍍厚度要求，導(dǎo)致蒸鍍材料的成膜均勻性降低， 影響蒸鍍質(zhì)量，延長了蒸鍍時間，增加制造成本。一般蒸鍍用蔭罩(即掩模板)的厚度在100 μ m左右，而需蒸鍍的有機材料膜的厚度在IOOnm左右，蔭罩上的開口尺寸最小可以是10 μ m,所以無錐度開口的側(cè)壁勢必會在蒸鍍過程中產(chǎn)生遮擋。另一方面，如果通過減薄蔭罩的厚度的方法來降低蔭罩的遮擋程度，又會影響蔭罩的使用壽命，因為蔭罩過薄，易變形，影響的蔭罩的使用，降低蒸鍍質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種掩模板及其加工方法，既能提高有機發(fā)光材料的使用率和成膜率，又能提高掩模板的加工效率，具有工藝簡單、良品率高、加工效率高、制造成本低和實用性強等優(yōu)點。為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有多個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，所述蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。優(yōu)選地，所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。優(yōu)選地，所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為Γ10度。優(yōu)選地，所述掩模板的厚度為18 190 μ m。優(yōu)選地，所述第二段的垂直深度為10 50 μ m。優(yōu)選地，所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為 18 45 μ m。本發(fā)明還提供一種上述掩模板的加工方法，該加工方法包括以下步驟
采用激光工藝在所述蒸鍍面上沿垂直于所述ITO接觸面的方向加工出所述第一段，并控制加工余量；
調(diào)整激光位置，沿所述第一段的加工方向在所述加工余量上加工出所述第二段。
優(yōu)選地,所述加工余量為10 50 μ m。本發(fā)明先采用激光工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段，再調(diào)整激光位置，繼續(xù)沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，由于激光加工出的蒸鍍孔的孔壁呈錐形，使蒸鍍孔在掩模板上呈現(xiàn)出逐漸收縮的態(tài)勢，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應(yīng)用于蒸鍍時，有機發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達玻璃基板上的預(yù)定位置，從而提高了 OLED顯示屏的質(zhì)量，提高了有機發(fā)光材料的使用率和成膜率。同時，本發(fā)明僅使用激光工藝來完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了 OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場前景。


圖1是本發(fā)明實施例中掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施例方式以下將結(jié)合附圖及具體實施例詳細說明本發(fā)明的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本發(fā)明的發(fā)明實質(zhì)。圖1是本發(fā)明實施例中掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。參照圖1所示，本實施例提供一種掩模板1，包括ITO接觸面11和蒸鍍面12，在蒸鍍面12上設(shè)置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔2，蒸鍍孔2自蒸鍍面12貫穿至ITO接觸面
11。蒸鍍孔2的截面呈階梯狀，包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，蒸鍍孔的尺寸自第一段向第二段呈逐漸收縮狀。在蒸鍍時，ITO接觸面11朝上，與需要蒸鍍有機發(fā)光材料的玻璃基板貼合，蒸鍍面12朝下，面對蒸發(fā)源。蒸發(fā)源內(nèi)的蒸汽狀有機發(fā)光材料顆粒從各種方向進入蒸鍍孔2，并經(jīng)該蒸鍍孔2沾附于玻璃基板的ITO (氧化銦錫)層上，形成蒸鍍膜。蒸鍍膜的形狀和厚薄均勻度直接影響OLED顯示屏的輝度和分辨率，因此，對蒸鍍孔2的形狀和規(guī)格都有非常嚴格的要求。本實施例的蒸鍍孔2設(shè)計為截面尺寸自蒸鍍面12向ITO接觸面11呈逐漸收縮狀，使蒸鍍孔2的整體形狀為上窄下寬的喇叭狀，有利于以更寬的角度接收有機發(fā)光材料顆粒，從而能使蒸鍍膜的厚薄均勻度和形狀都能滿足設(shè)計要求。此外，本實施例的掩模板I的厚度為18 190 μ m,既可保證掩模板I的強度，避免因過薄導(dǎo)致蒸鍍孔2變形而縮短掩模板I的使用壽命，又可避免因過厚影響蒸鍍膜的成膜率。若掩模板I采用鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種材料制成，其厚度可設(shè)置為18 45 μ m。為保證良品率、提高加工效率、降低加工成本，最好將第二段22的錐角設(shè)置為Γ10度，不能過小，也不宜過大，這樣，便可在滿足實際生產(chǎn)要求的同時，最大限度地降低生產(chǎn)成本。本實施例的第二段22的垂直深度為10 50 μ m,且第二段22的垂直深度應(yīng)不大于第一段21的垂直深度。由于第二段22呈錐形狀，而且，第二段22在ITO接觸面11上的尺寸精度要求非常高，因此，可以采用激光工藝加工第一段21，再利用激光工藝加工出第二段22。由于激光工藝的加工精度高，傾角較小，故第二段22的垂直深度不宜過大?？紤]到掩模板I的精度和強度，第二段22的垂直深度又不宜過小，以免影響蒸鍍孔2在ITO接觸面11上的精度和穩(wěn)定性。本發(fā)明還提供一種上述掩模板的加工方法，該方法包括以下步驟
1、采用激光工藝在蒸鍍面上沿垂直于ITO接觸面的方向加工出第一段，并控制加工余
量;
2、調(diào)整激光位置，沿第一段的加工方向在加工余量上加工出第二段。上述步驟中，第一段加工完成后，加工余量控制在1(Γ50μπι，用于加工第二段，使 第二段的垂直深度為1(Γ50μπι。在加工第二段時，先將第一段加工出來，然后調(diào)整激光位置，沿第一段的加工方向繼續(xù)加工，并形成一個臺階。考慮到掩模板的強度要求，第二段的垂直深度不宜過小，以免因第二段過薄導(dǎo)致在ITO接觸面上所加工出的蒸鍍孔發(fā)生變形，故第二段的垂直深度為10 50 μ m為佳。綜上所述，本發(fā)明先采用激光工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段，再調(diào)整激光位置，繼續(xù)沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，由于激光加工出的蒸鍍孔的孔壁呈錐形，使蒸鍍孔在掩模板上呈現(xiàn)出逐漸收縮的態(tài)勢，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應(yīng)用于蒸鍍時，有機發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達玻璃基板上的預(yù)定位置，從而提高了 OLED顯示屏的質(zhì)量，提高了有機發(fā)光材料的使用率和成膜率。同時，本發(fā)明僅使用激光工藝來完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了 OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場前景。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有多個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，其特征在于所述蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板，其特征在于所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為4 10度。
4.如權(quán)利要求3所述的掩模板,其特征在于所述掩模板的厚度為18 190μ m。
5.如權(quán)利要求4所述的掩模板，其特征在于所述第二段的垂直深度為10 50μ m。
6.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18 45 μ m。
7.一種掩模板的加工方法，所述掩模板包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有多個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，其特征在于，所述蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀，所述加工方法包括以下步驟 采用激光工藝在所述蒸鍍面上沿垂直于所述ITO接觸面的方向加工出所述第一段，并控制加工余量； 調(diào)整激光位置，沿所述第一段的加工方向在所述加工余量上加工出所述第二段。
8.如權(quán)利要求7所述的掩模板的加工方法，其特征在于所述加工余量為1(Γ50μ m。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種掩模板及其加工方法，所述掩模板包括ITO接觸面和蒸鍍面，在蒸鍍面上設(shè)置有多個蒸鍍孔，蒸鍍孔自蒸鍍面貫穿至ITO接觸面，且截面呈階梯狀，蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。本發(fā)明僅使用激光工藝來完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場前景。
文檔編號C23C14/24GK103014619SQ20121057328
公開日2013年4月3日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者唐軍 申請人:唐軍, 錢超