專利名稱：噴嘴與具有該噴嘴的爐管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種噴嘴結(jié)構(gòu)，特別是一種表面具有固定裝置的噴嘴。
背景技術(shù)：
噴嘴結(jié)構(gòu)已經(jīng)廣泛的應(yīng)用到人們生活的各個方面，例如引擎散熱的噴嘴、滅火機的噴嘴、澆花的噴嘴、洗滌的噴嘴等，這些都是通過改變液體的流速以使得所噴出的液體的流速加劇或呈霧狀。請參考


圖1，一種現(xiàn)有的直立式爐管10包含一內(nèi)筒12、一外筒14、一晶舟16以及一供應(yīng)氣體的噴嘴18設(shè)于內(nèi)筒12與晶舟16之間。內(nèi)筒12與外筒14排列為同心圓的雙重管構(gòu)造，內(nèi)筒12與外筒14間隔預(yù)定距離，且外筒14外圍由設(shè)有加熱器15以及隔熱材17的加熱爐19。此外,噴嘴18為一具光滑表面的空心管柱,噴嘴18的一端連接至一氣體供應(yīng) 系統(tǒng)20，且噴嘴18通過一高真空接頭22固定于爐管10下端的一筒體24的管壁上。高真空接頭22包含一第一套筒221、一第二套筒222以及一第三套筒223依序抓持噴嘴18，且第一套筒221與第二套筒222間設(shè)有一環(huán)型密封墊224用以確保第一套筒221、第二套筒222與噴嘴18間的密封性。由于CVD是利用化學(xué)反應(yīng)來進行薄膜的沉積，在反應(yīng)時通常會將爐管10內(nèi)部的氣壓維持在低壓或接近真空的狀態(tài)，氣體壓力的變化使得噴嘴18會以被高真空接頭22夾持的區(qū)段為軸心而偏轉(zhuǎn)，造成噴嘴18位于內(nèi)筒12與晶舟16之間的區(qū)段因偏轉(zhuǎn)并斜倚在內(nèi)管12的管壁內(nèi)側(cè)，使得歪斜的噴嘴18所噴散出的氣體運行方向不再與晶舟上16上的晶圓平行，導(dǎo)致晶舟16上承載的晶圓表面薄膜沉積不全而被列為不良品報廢。此外，在進行CVD時，生成物除了會沉積在晶舟16上，也會附著在內(nèi)筒12的管壁內(nèi)側(cè)以及噴嘴18表面，當(dāng)內(nèi)筒12的管璧內(nèi)側(cè)表面累積一定厚度的生成物時，由于生成物與噴嘴18的熱膨脹系數(shù)的差異，在受熱時經(jīng)常使得噴嘴18與內(nèi)筒12的管壁接觸的部分發(fā)生斷裂而報廢，即造成整體制程以及生產(chǎn)成本上莫大的損失。

實用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種具有固定裝置的噴嘴，其能避免噴嘴偏轉(zhuǎn)與爐管管壁接觸而發(fā)生斷裂的問題，以克服上述不足。本實用新型提供一種噴嘴，其包括相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，該固定裝置為一粗糙表面。本實用新型還提供一種爐管，其包括一內(nèi)筒；一設(shè)置在該內(nèi)筒外側(cè)的外筒；一設(shè)于該內(nèi)筒以及該外筒下方的筒體，該筒體、該內(nèi)筒與該外筒共同定義一反應(yīng)室；一噴嘴，該噴嘴具有相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，該固定裝置為一粗糙表面；以及一用于將該噴嘴固定于該筒體高真空接頭，該高真空接頭包含至少一環(huán)型密封墊，且該環(huán)型密封墊環(huán)繞并直接接觸該噴嘴的固定裝置。較佳地，該粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之間。[0009]較佳地，該第一管構(gòu)件垂直于該第二管構(gòu)件。較佳地，該第一管構(gòu)件與該第二管構(gòu)件的夾角小于180度。在本實用新型提供的技術(shù)方案中，該固定裝置可為一粗糙表面以增加噴嘴與環(huán)型密封墊之間的接觸面積以及磨擦阻力，避免噴嘴與環(huán)型密封墊之間發(fā)生相對的轉(zhuǎn)動，并且防止噴嘴接觸爐管內(nèi)壁在受熱環(huán)境下因熱膨脹系數(shù)差異而發(fā)生斷裂的問題。上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本實用新型的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉實施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。
以下結(jié)合附圖描述本實用新型的實施例，其中 圖I為一種現(xiàn)有的直立式爐管的局部示意圖。圖2為本實用新型提供的噴嘴的側(cè)視圖。圖3為本實用新型提供的具有圖2所示噴嘴的爐管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖2所示噴嘴的一種變形結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖5為圖2所示噴嘴的另一種變形結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
具體實施方式
以下基于附圖對本實用新型的具體實施例進行進一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅作為實施例，并不用于限定本實用新型的保護范圍。請參閱圖2至圖5，本實用新型提供的噴嘴26為一空心管柱，其包括一第一管構(gòu)件28以及一第二管構(gòu)件30。第一管構(gòu)件28包含一第一端281，第一端281連接至一氣體供應(yīng)系統(tǒng)42，第一管構(gòu)件28的相對于第一端281的一第二端282連接于第二管構(gòu)件30。第二管構(gòu)件30上設(shè)有多個氣體出口 32，自第一端281導(dǎo)入噴嘴26的氣體將自氣體出口 32排出，參與化學(xué)反應(yīng)并形成生成物，該些生成物將沉積在預(yù)定的晶圓表面。第一管構(gòu)件28與第二管構(gòu)件30的夾角小于180度，且第一管構(gòu)件28與第二管構(gòu)件30的夾角大小可視機臺的需要而調(diào)整。噴嘴26還包含一固定裝置34，其設(shè)于第一管構(gòu)件28自第一端281到連接第二管構(gòu)件30的一端281之間的表面。固定裝置34具有一粗糙表面，且該粗糙表面可以利用化學(xué)方法，如蝕刻制程；或物理制程。該粗糙表面的粗糙度小于5毫米(μ m)，優(yōu)選介于I毫米至3毫米之間。請參考圖3，本實用新型提供的爐管36包含一噴嘴26、一內(nèi)筒38、一外筒40、一晶舟42、一氣體供應(yīng)系統(tǒng)44以及一筒體48。爐管36還包含加熱器15、隔熱材17等加熱爐19設(shè)備，這些與現(xiàn)有的直立式爐管相似，再此不再重復(fù)描述。爐管36的內(nèi)筒38、外筒40以及筒體48共同定義出進行CVD時的一反應(yīng)室49。此外，噴嘴26通過一高真空接頭46套設(shè)在噴嘴26的第一管構(gòu)件28，則可將噴嘴固定于爐管36下端的一筒體48的管壁上，并將噴嘴26的第二管構(gòu)件30固定在反應(yīng)室49內(nèi)且設(shè)于內(nèi)筒38與晶舟42之間的空間。高真空接頭46包含一第一套筒461、一第二套筒462以及一第三套筒463沿著第二端282往第一端281的方向依序抓持噴嘴26的第一管構(gòu)件28，且第一套筒461與第二套筒462間設(shè)有一環(huán)型密封墊50，環(huán)繞在固定裝置34的外圍，并與固定裝置34緊密接觸，由于固定裝置34為粗糙表面，因此環(huán)型密封墊50與固定裝置34的接觸面會有一定的磨擦阻力，使得噴嘴26得以更穩(wěn)定地固定在高真空接頭46內(nèi)部，在進行CVD前抽真空的過程中，環(huán)型密封墊50與固定裝置34之間的磨擦阻力可確保噴嘴26不致發(fā)生偏轉(zhuǎn)，因此可避免第二管構(gòu)件30接觸爐管36內(nèi)壁。上述較佳實施例所示的固定裝置34對第一管構(gòu)件26的一部表面均勻地加工，使得該部分表面為皆為粗糙化的表面。固定裝置34也可為圖4及圖5所不，圖4所不的噴嘴26的固定裝置34為一具有橫紋的圖案化的粗糖表面341,而圖5所示的噴嘴26的固定裝置34具有直條紋的圖案化的粗糙表面342。本創(chuàng)作揭露一種具有固定裝置設(shè)于管壁表面的噴嘴，該固定裝置可為一粗糙表面或一螺紋表面，以增加噴嘴與環(huán)型密封墊之間的接觸面積以及磨擦阻力，避免噴嘴與環(huán)型密封墊之間發(fā)生相對的轉(zhuǎn)動，并且防止噴嘴接觸爐管內(nèi)壁在受熱環(huán)境下因熱膨脹系數(shù)差異而發(fā)生斷裂的問題。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本 實用新型的精神和原則的內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種噴嘴，其包括相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，其特征在于該固定裝置為一粗糙表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴嘴，其特征在于該粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴嘴，其特征在于該第一管構(gòu)件垂直于該第二管構(gòu)件。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴嘴，其特征在于該第一管構(gòu)件與該第二管構(gòu)件的夾角小于180度。
5.一種爐管，其包括一內(nèi)筒；一設(shè)置在該內(nèi)筒外側(cè)的外筒；一設(shè)于該內(nèi)筒以及該外筒下方的筒體，該筒體、該內(nèi)筒與該外筒共同定義一反應(yīng)室，其特征在于還包括一噴嘴，該噴嘴具有相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，該固定裝置為一粗糙表面；以及一用于將該噴嘴固定于該筒體高真空接頭，該高真空接頭包含至少一環(huán)型密封墊，且該環(huán)型密封墊環(huán)繞并直接接觸該噴嘴的固定裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的爐管，其特征在于該第一管構(gòu)件與該第二管構(gòu)件的夾角小于180度。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的爐管，其特征在于該粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之間。
專利摘要本實用新型提供了一種具有固定裝置且能避免噴嘴偏轉(zhuǎn)與爐管管壁接觸的噴嘴，其包括相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，該固定裝置為一粗糙表面。本實用新型還提供了一種具有上述噴嘴的爐管，其包括一內(nèi)筒；一設(shè)置在該內(nèi)筒外側(cè)的外筒；一設(shè)于該內(nèi)筒以及該外筒下方的筒體，該筒體、該內(nèi)筒與該外筒共同定義一反應(yīng)室；一噴嘴，該噴嘴具有相連接的一個第一管構(gòu)件及一個第二管構(gòu)件，該第一管構(gòu)件的一個表面設(shè)有一固定裝置，該固定裝置為一粗糙表面；以及一用于將該噴嘴固定于該筒體高真空接頭，該高真空接頭包含至少一環(huán)型密封墊，且該環(huán)型密封墊環(huán)繞并直接接觸該噴嘴的固定裝置。
文檔編號C23C16/455GK202465865SQ20122009333
公開日2012年10月3日 申請日期2012年3月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月13日
發(fā)明者謝玲艷 申請人:余姚市士森銅材廠