專利名稱：旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及濺射鍍膜工藝，尤其是頻濺射鍍膜工藝中用于濺射的陰極即濺射靶，具體地說是一種旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，在中頻濺射鍍膜工藝中常用于濺射的兩個陰極(也叫濺射靶)，通常為并排的兩個平面靶，尺寸和外形全部相同，這兩個靶常稱為孿生靶。孿生靶在濺射室中懸浮安裝，在濺射過程中，兩個靶周期性輪流作為陰極與陽極。由于采用的濺射靶材的工作方式是固定，濺射靶材消耗的形狀是按照磁場的正弦值成比例的，會形成一個上寬下窄的蝕刻形狀，使得靶材的消耗不均勻，因此靶材一次利用率為15%左右。同時由于靶材利用率低，在鍍膜生產(chǎn)過程中靶材消耗速度快，當(dāng)靶材消耗結(jié)束時，必須要停產(chǎn)，更換靶材，造成生產(chǎn)周期比較短、設(shè)備利用率不高等不足。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是針對現(xiàn)有的濺射靶所存在的靶材消耗不均勻、利用率低和消耗速度快的問題，提出一種新型旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，通過在濺射過程中旋轉(zhuǎn)靶材，使得靶材在整區(qū)域的消耗能夠均勻的進(jìn)行刻蝕，將靶材一次利用率提高到> 80%以上；同時可以有效減少打弧和靶面掉渣，工藝穩(wěn)定性好。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，它包括靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、靶支架、冷卻水管和依次安裝在冷卻水管外側(cè)的極靴、多個條形磁鐵、靶材，上述套管的一側(cè)裝有一端蓋，另一端安裝靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和靶支架，所述的條形磁鐵和靶材之間套裝不銹鋼管。本實(shí)用新型的極靴的外側(cè)設(shè)有多個定位槽，相應(yīng)的多個條形磁鐵分別安裝在極靴的定位槽內(nèi)。本實(shí)用新型的條形磁鐵的組合方式是每路條形磁鐵的朝向相同，按S-N-S-N排布在不銹鋼管內(nèi)。本實(shí)用新型的條形磁鐵為四個，均勻分布在極靴外壁的定位槽內(nèi)。本實(shí)用新型的冷卻水管的一端為冷卻水進(jìn)口，另一端為冷卻水出口。本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型為一種新型機(jī)構(gòu)，通過在濺射過程中旋轉(zhuǎn)靶材，使得靶材在整區(qū)域的消耗能夠均勻的進(jìn)行刻蝕，將靶材一次利用率提高到> 80%以上；同時可以有效減少打弧和靶面掉渣，工藝穩(wěn)定性好。本實(shí)用新型由若干根長條形永磁體沿靶軸線方向排成數(shù)列，可以產(chǎn)生對稱分布的細(xì)條型封閉跑道。因此靶所具有的性能與平面矩形磁控原理基本相同，它吸收了平面矩形靶的優(yōu)點(diǎn)，其特點(diǎn)是:1、沉積的膜厚均勻；[0014]2、沉積速率高、濺射效率高；3、可在較大范圍內(nèi)沉積牢固、均勻性好的膜；4、通過靶的勻速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，可使靶材的利用率大大提高；5、由于靶的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，能很好的避免打火掉渣現(xiàn)象。

圖1是本實(shí)用新型的主視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。如圖1所示，一種旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，它包括靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4、靶支架3、冷卻水管8和依次安裝在冷卻水管8外側(cè)的極靴7、多個條形磁鐵6、祀材5,上述套管的一側(cè)裝有一端蓋9,另一端安裝靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4和靶支架3，所述的條形磁鐵6和靶材5之間套裝不銹鋼管。本實(shí)用新型的極靴7的外側(cè)設(shè)有多個定位槽，相應(yīng)的多個條形磁鐵6分別安裝在極靴7的定位槽內(nèi)；如圖2所示，條形磁鐵6的組合方式是每路條形磁鐵的朝向相同，按S-N-S-N排布在不銹鋼管內(nèi)；條形磁鐵6為四個，均勻分布在極靴7外壁的定位槽內(nèi)。本實(shí)用新型的冷卻水管8的一端為冷卻水進(jìn)口 1，另一端為冷卻水出口 2。本實(shí)用新型為一種新型機(jī)構(gòu)，通過在濺射過程中旋轉(zhuǎn)靶材，使得靶材在整區(qū)域的消耗能夠均勻的進(jìn)行刻蝕，將靶材一次利用率提高到> 80%以上；同時可以有效減少打弧和靶面掉渣，工藝穩(wěn)定性好。本實(shí)用新型未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
權(quán)利要求1.一種旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，其特征是它包括靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)、靶支架(3)、冷卻水管(8)和依次安裝在冷卻水管(8)外側(cè)的極靴(7)、多個條形磁鐵(6)、靶材(5)，上述套管的一側(cè)裝有一端蓋(9 )，另一端安裝靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4 )和靶支架(3 )，所述的條形磁鐵(6 )和靶材(5 )之間套裝不銹鋼管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，其特征是所述的極靴(7)的外側(cè)設(shè)有多個定位槽，相應(yīng)的多個條形磁鐵(6)分別安裝在極靴(7)的定位槽內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，其特征是所述的條形磁鐵(6)的組合方式是每路條形磁鐵的朝向相同，按S-N-S-N排布在不銹鋼管內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，其特征是所述的條形磁鐵(6)為四個，均勻分布在極靴(7)外壁的定位槽內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，其特征是所述的冷卻水管(8)的一端為冷卻水進(jìn)口(1)，另一端為冷卻水出口(2)。
專利摘要一種旋轉(zhuǎn)陰極機(jī)構(gòu)，它包括靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)、靶支架(3)、冷卻水管(8)和依次安裝在冷卻水管(8)外側(cè)的極靴(7)、多個條形磁鐵(6)、靶材(5)，上述套管的一側(cè)裝有一端蓋(9)，另一端安裝靶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)和靶支架(3)，所述的條形磁鐵(6)和靶材(5)之間套裝不銹鋼管。本實(shí)用新型為一種新型機(jī)構(gòu)，通過在濺射過程中旋轉(zhuǎn)靶材，使得靶材在整區(qū)域的消耗能夠均勻的進(jìn)行刻蝕，將靶材一次利用率提高到≥80%以上；同時可以有效減少打弧和靶面掉渣，工藝穩(wěn)定性好。
文檔編號C23C14/34GK202913051SQ201220096370
公開日2013年5月1日 申請日期2012年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月14日
發(fā)明者朱殿榮, 曹俊 申請人:無錫康力電子有限公司