專利名稱：平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及鍍膜用濺射靶，具體地說(shuō)是一種平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，矩形平面磁控濺射靶由于其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，有較高的沉積率、低的基板溫度、膜層與基板結(jié)合牢固易于大型化和不受基板種類影響等優(yōu)點(diǎn)在工業(yè)鍍膜上得到廣泛運(yùn)用，但該系統(tǒng)由于在生產(chǎn)過(guò)程中靶面的非均勻剝蝕會(huì)降低靶材的利用率(一般利用率在10%-20%)，影響鍍膜的均勻性，會(huì)造成靶的拉弧及中毒，嚴(yán)重影響產(chǎn)品品質(zhì)及生產(chǎn)周期。新型移動(dòng)平面靶結(jié)構(gòu)研發(fā)，可以將靶材的利用率提高到40%-45%，對(duì)提高產(chǎn)品品質(zhì)及降低產(chǎn)生成本有著重要的意義。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是針對(duì)矩形平面磁控濺射靶所存在的靶材的利用率低、鍍膜均勻性不高問(wèn)題，提出一種平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)；通過(guò)磁場(chǎng)的移動(dòng)使得放電區(qū)內(nèi)電子跑道擴(kuò)展，靶材利用率可提高到40%-45%。起到節(jié)能降本的效果。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:—種平面移動(dòng)IE機(jī)構(gòu),它包括框架、往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)、極靴、永磁鐵和位于真空箱體內(nèi)的陰極和靶材，所述的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝在框架的中部，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)分別安裝在框架的上下部分，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)上分別裝有至少一個(gè)滑塊，極靴安裝在往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的中部，極靴的上、下兩端分別固定在兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)的滑塊上，永磁鐵安裝在極靴上，在永磁鐵上方的真空箱體底部安裝陰極，靶材安裝在陰極的上方。本實(shí)用新型的陰極為銅背板。本實(shí)用新型的陰極的內(nèi)部裝有冷卻水管。本實(shí)用新型的滑塊為四個(gè)，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)上分別安裝兩個(gè)滑塊，極靴的四角分別固定在四個(gè)滑塊上。本實(shí)用新型的永磁鐵為三根，均勻排布在極靴上。本實(shí)用新型的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括伺服電機(jī)和滾珠絲杠，由伺服電機(jī)帶動(dòng)固定在滾珠絲杠上的極靴作勻速往返運(yùn)動(dòng)。本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型通過(guò)磁場(chǎng)的移動(dòng)使得放電區(qū)內(nèi)電子跑道擴(kuò)展，靶材利用可提高到40%-45%。起到節(jié)能降本的效果。在度膜工藝中，采用本實(shí)用新型的移動(dòng)靶，可以改善膜層均勻性；有效延長(zhǎng)靶材的使用周期。

圖1是本實(shí)用新型的主視結(jié)構(gòu)示意圖。[0015]圖2是本實(shí)用新型的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:1、框架；2、往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；3、直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)；4、極靴；5、永磁鐵；6、陰極；7、冷卻水管；8、靶材;9、真空箱體;10、滑塊；11、伺服電機(jī)；12、滾珠絲杠。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。如圖1所示，一種平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，它包括框架1、往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)3、極靴4、永磁鐵5和位于真空箱體9內(nèi)的陰極6和靶材8，所述的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2安裝在框架I的中部，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)3分別安裝在框架I的上下部分，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)3上分別裝有至少一個(gè)滑塊10，極靴4安裝在往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2的中部，極靴4的上、下兩端分別固定在兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)3的滑塊10上，永磁鐵5安裝在極靴4上，在永磁鐵5上方的真空箱體9底部安裝陰極6,祀材8安裝在陰極6的上方。本實(shí)用新型的陰極6為銅背板；陰極6的內(nèi)部裝有冷卻水管7，進(jìn)行陰極冷卻，防止設(shè)備過(guò)熱損壞。如圖2所示，本實(shí)用新型的滑塊10為四個(gè)，、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)3上分別安裝兩個(gè)滑塊10，極靴4的四角分別固定在四個(gè)滑塊10上。本實(shí)用新型的永磁鐵5為三根，均勻排布在極靴4上。本實(shí)用新型的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2包括伺服電機(jī)11和滾珠絲杠12，由伺服電機(jī)11帶動(dòng)固定在滾珠絲杠12上的極靴作勻速往返運(yùn)動(dòng)。本實(shí)用新型的陰極水冷直接做到靶所綁定的銅背板里，磁鐵均勻排布在極靴純鐵板上，在平行于靶面的方向用直線導(dǎo)軌固定純鐵板，利用伺服電機(jī)的往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)固定在純鐵板上的滾珠絲杠作勻速往返運(yùn)動(dòng)。本實(shí)用新型未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
權(quán)利要求1.一種平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是它包括框架(I)、往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(2)、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)(3 )、極靴(4)、永磁鐵(5 )和位于真空箱體(9 )內(nèi)的陰極(6 )和靶材(8 )，所述的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(2)安裝在框架(I)的中部，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)(3)分別安裝在框架(I)的上下部分，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)(3)上分別裝有至少一個(gè)滑塊(10)，極靴(4)安裝在往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(2)的中部，極靴(4)的上、下兩端分別固定在兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)(3)的滑塊(10)上，永磁鐵(5)安裝在極靴(4 )上，在永磁鐵(5 )上方的真空箱體(9 )底部安裝陰極(6 )，靶材(8 )安裝在陰極(6 )的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是所述的陰極(6)為銅背板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是所述的陰極(6)的內(nèi)部裝有冷卻水管(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是所述的滑塊(10)為四個(gè)，、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)(3)上分別安裝兩個(gè)滑塊(10)，極靴(4)的四角分別固定在四個(gè)滑塊(10)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是所述的永磁鐵(5)為三根，均為排布在極靴(4)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，其特征是所述的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(2)包括伺服電機(jī)(11)和滾珠絲杠(12)，由伺服電機(jī)(11)帶動(dòng)固定在滾珠絲杠(12)上的極靴(4)作勻速往返運(yùn)動(dòng)。
專利摘要一種平面移動(dòng)靶機(jī)構(gòu)，它包括框架、往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)、極靴、永磁鐵和位于真空箱體內(nèi)的陰極和靶材，所述的往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝在框架的中部，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)分別安裝在框架的上下部分，兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)上分別裝有至少一個(gè)滑塊，極靴安裝在往返傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的中部，極靴的上、下兩端分別固定在兩直線導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)的滑塊上，永磁鐵安裝在極靴上，在永磁鐵上方的真空箱體底部安裝陰極，靶材安裝在陰極的上方。本實(shí)用新型通過(guò)磁場(chǎng)的移動(dòng)使得放電區(qū)內(nèi)電子跑到擴(kuò)展，靶材利用可提高到40%-45%。起到節(jié)能降本的效果。
文檔編號(hào)C23C14/35GK202945321SQ20122009674
公開(kāi)日2013年5月22日 申請(qǐng)日期2012年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月14日
發(fā)明者朱殿榮, 曹俊 申請(qǐng)人:無(wú)錫康力電子有限公司