專利名稱：真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域，尤其是真空鍍膜中，采用離子轟擊基材進行基材改性和清洗的機構(gòu)，具體地說是一種真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，在真空鍍膜領(lǐng)域，國內(nèi)外一般采用吹風(fēng)、粘塵的方式對基材進行清洗，然后采用噴涂或浸涂的方式對基材進行表面改性。這種大氣環(huán)境下的化學(xué)改性方法，容易對基材產(chǎn)生表面缺陷，而且污染環(huán)境。在真空鍍膜工藝中一般沒有采用過陽極離子板的設(shè)備和機構(gòu)，當(dāng)基材運行速度較快的情況下，鍍膜時，由于濺射能量的有限，容易造成膜層和基材的附著力不是太好。因此影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量和產(chǎn)量。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是針對傳統(tǒng)的基材改性和清洗中所存在的容易對基材產(chǎn)生表面缺陷，污染環(huán)境和膜層與 基材的附著力不好的問題，提出一種設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)。本實用新型的技術(shù)方案是一種真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管、與電源陽極相連的冷卻水管和絕緣件，所述的冷卻水管與充氣管相對設(shè)置，待轟擊基材從冷卻水管和充氣管間的夾隙中通過，進行離子轟擊，所述的充氣管的一端為進氣口，充氣管上與待轟擊基材相對的一面設(shè)有若干個出氣口，所述的充氣管和冷卻水管的兩端夾裝絕緣件。本實用新型的陽極與陰極采用不銹鋼板材。本實用新型的冷卻水管的兩端分別為進水口和出水口，進水口和出水口串接，循環(huán)冷卻。本實用新型的充氣管中充入氬氣。本實用新型的若干個出氣口均勻的布置在充氣管上。本實用新型的各出氣口的孔徑均為O. 5mm，各出氣口的間隔為30mm。本實用新型的絕緣件為聚四氟絕緣件。本實用新型的有益效果本實用新型通過物理方法對基材表面改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。本實用新型的設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便；能保證鍍件基材的清潔、干燥，避免底涂層出現(xiàn)麻點、附著力差等缺點。本實用新型的工作壓力0.1-1Pa ;工作電壓幾百-1000V電流200-800mA。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。其中1、進氣管；2、冷卻水管；3、進氣口 ；4、出氣口 ；[0018]5、進水口 ；6、出水口 ；7、絕緣件；8、基材。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明。如圖1所示，一種真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管1、與電源陽極相連的冷卻水管2和絕緣件7，所述的冷卻水管2與充氣管I相對設(shè)置，待轟擊基材8從冷卻水管2和充氣管I間的夾隙中通過，進行離子轟擊，所述的充氣管I的一端為進氣口 3，充氣管I上與待轟擊基材8相對的一面設(shè)有若干個出氣口 4，所述的充氣管I和冷卻水管2的兩端夾裝絕緣件7。本實用新型的陽極與陰極采用不銹鋼板材。本實用新型的冷卻水管2的兩端分別為進水口 5和出水口 6，進水口 5和出水口 6串接，循環(huán)冷卻。本實用新型的充氣管I中充入氬氣；若干個出氣口 4均勻的布置在充氣管I上；各出氣口 4的孔徑均為O. 5mm，各出氣口 4的間隔為30mm。本實用新型的絕緣件7為聚四氟絕緣件。具體實施時陽極與陰極用不銹鋼板材制作，在其內(nèi)部導(dǎo)入循環(huán)冷卻水，陰極朝基材一面布入氬氣充氣管，管上每隔30mm用激光鉆O. 5mm出氣孔，陰陽極間用聚四氟絕緣材料間隔，采用陽離子對于基材進行改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。本實用新型未涉及部分`均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是它包括電源、與電源陰極相連的充氣管(I)、與電源陽極相連的冷卻水管(2)和絕緣件(7)，所述的冷卻水管(2)與充氣管(I)相對設(shè)置，待轟擊基材(8)從冷卻水管(2)和充氣管(I)間的夾隙中通過，進行離子轟擊，所述的充氣管(I)的一端為進氣口(3)，充氣管(I)上與待轟擊基材(8)相對的一面設(shè)有若干個出氣口(4)，所述的充氣管(I)和冷卻水管(2)的兩端夾裝絕緣件(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述電源的陽極與陰極采用不銹鋼板材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述的冷卻水管(2)的兩端分別為進水口(5)和出水口(6)，進水口(5)和出水口(6)串接，循環(huán)冷卻。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述的充氣管(I)中充入的氣體為IS氣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述的若干個出氣口(4)均勻的布置在充氣管(I)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、5所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述的各出氣口(4)的孔徑均為O. 5mm，各出氣口(4)的間隔為30mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，其特征是所述的絕緣件(7)為聚四氟絕緣件。
專利摘要一種真空鍍膜用離子轟擊板機構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管(1)、與電源陽極相連的冷卻水管(2)和絕緣件(7)，所述的冷卻水管(2)與充氣管(1)相對設(shè)置，待轟擊基材(8)從冷卻水管(2)和充氣管(1)間的夾隙中通過，進行離子轟擊，所述的充氣管(1)的一端為進氣口(3)，充氣管(1)上與待轟擊基材(8)相對的一面設(shè)有若干個出氣口(4)，所述的充氣管(1)和冷卻水管(2)的兩端夾裝絕緣件(7)。本實用新型通過物理方法對基材表面改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。其設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便；能保證鍍件基材的清潔、干燥，避免底涂層出現(xiàn)麻點、附著力差等缺點。
文檔編號C23C14/32GK202881375SQ20122009674
公開日2013年4月17日 申請日期2012年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月14日
發(fā)明者朱殿榮, 曹俊 申請人:無錫康力電子有限公司