專利名稱：平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前，現(xiàn)有平面顯示玻璃的再生方式，大體上是先將玻璃清洗后利用酸性化學(xué)藥劑予以酸洗，用以去除玻璃表面的膜層，繼而再將酸洗后的玻璃利用拋光設(shè)備予以粗拋、細拋后，即完成可供再利用的再生玻璃。由于傳統(tǒng)平面顯示玻璃的再生工藝皆包含利用酸性化學(xué)藥劑酸洗玻璃的程序，不僅會增加化學(xué)藥劑的成本，更會造成化學(xué)藥劑后續(xù)處理動作的繁瑣、甚而造成環(huán)境污染的問題。并且，需要將酸洗后的玻璃厚度減薄時，必須利用后續(xù)的粗拋程序才可達到減薄玻璃的效果，但利用拋光設(shè)備將玻璃減薄至預(yù)定尺寸，必須花費較多時間，導(dǎo)致平面顯示玻璃的再生工藝后段加工時間延長。但是，現(xiàn)有的玻璃研磨設(shè)備在玻璃研磨盤旋轉(zhuǎn)過程中，會使得研磨劑快速被甩出而無法均勻散布或滯留，影響研磨效果?！?br> 實用新型內(nèi)容本實用新型的目的就是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足而提供一種平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其可使研磨液均勻散布并增加研磨液的滯留時間，提升研磨效果。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，研磨盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)引部包括有回流區(qū)及若干排放口。所述回流區(qū)包括有若干沿研磨盤徑向延伸的第一導(dǎo)流溝、若干第二導(dǎo)流溝，第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝相交地延伸于研磨盤上，各第一導(dǎo)流溝、第二導(dǎo)流溝連通研磨盤邊緣之處分別形成排放口。各第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝垂直相交。所述回流區(qū)系包括有若干導(dǎo)流溝，各導(dǎo)流溝沿研磨盤圓周方向環(huán)繞延伸，其連通研磨盤邊緣處形成排放口。本實用新型還提供另一種平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，承載盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)引部包括有回流區(qū)及若干排放口。所述回流區(qū)包括有若干沿承載盤徑向延伸的第一導(dǎo)流溝、若干第二導(dǎo)流溝，第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝相交地延伸于承載盤上，各第一導(dǎo)流溝、第二導(dǎo)流溝連通承載盤邊緣之處分別形成排放口。各第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝垂直相交。[0013]所述回流區(qū)系包括有若干導(dǎo)流溝，各導(dǎo)流溝沿承載盤圓周方向環(huán)繞延伸，其連通承載盤邊緣處形成排放口。本實用新型有益效果在于本實用新型包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，研磨盤或承載盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)引部包括有回流區(qū)及若干排放口，回流區(qū)及若干排放口可將研磨液均勻散布至承載盤、研磨盤與再生玻璃的接觸面，并增進研磨液的滯留時間，提升研磨效果，能夠運用于平面顯示玻璃的再生工藝中而省略酸洗程序，進而達到減少使用化學(xué)藥劑的效果。

圖I是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實用新型研磨盤打開的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3是本實用新型另一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本實用新型又一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明，見圖I 2所示，平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，可運用于平面顯示玻璃的再生工藝，能夠省略現(xiàn)有平面顯示玻璃再生工藝中酸洗的步驟，包括有承載盤12，是可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于機臺上，用以放置再生玻璃20 ;研磨盤14，可旋轉(zhuǎn)地架設(shè)于承載盤12上方，可下壓貼置于再生玻璃20上而受旋轉(zhuǎn)的承載盤12帶動，用以研磨再生玻璃20 ;運轉(zhuǎn)裝置及一研磨液供應(yīng)裝置(圖中未示)，用以提供承載盤12旋轉(zhuǎn)的動力及供應(yīng)研磨再生玻璃20的研磨液；前述各承載盤12、研磨盤14、運轉(zhuǎn)裝置及研磨液供應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)及運作方式都與現(xiàn)有研磨設(shè)備相同，此處不另贅述，本實用新型的特點是在于研磨盤14表面設(shè)置有導(dǎo)引部22，導(dǎo)引部22大概呈棋盤狀，由回流區(qū)24與多個排放口 26所構(gòu)成。回流區(qū)24，具有多條沿研磨盤14徑向延伸的第一導(dǎo)流溝28，多條第二導(dǎo)流溝30，與各該第一導(dǎo)流溝28垂直相交地延伸于研磨盤14上，各第一導(dǎo)流溝28、第二導(dǎo)流溝30連通研磨盤14邊緣的處則分別形成排放口 26。由此，研磨設(shè)備運作時，由各第一導(dǎo)流溝28、第二導(dǎo)流溝30交錯構(gòu)成的導(dǎo)引部22可使研磨液供應(yīng)裝置所供應(yīng)的研磨液(例如以碳化硅成分為主的研磨液，平均粒徑約
0.I 10um、液體比重約I. 05 I. 2、PH值約6 12)均勻散布至承載盤12、研磨盤14與再生玻璃20的接觸面，供研磨盤14研磨再生玻璃20使用。并且，由于各第二導(dǎo)流溝30是與沿研磨盤14徑向延伸的第一導(dǎo)流溝28垂直相交，當(dāng)該研磨盤14被承載盤12帶動而旋轉(zhuǎn)時，各第二導(dǎo)流溝30內(nèi)的研磨液不容易立即被排出研磨盤14外，能夠增進研磨液的滯留時間而有效提升研磨效果。由上可知，本實用新型的研磨盤14上縱橫交錯如棋盤狀的導(dǎo)引部22設(shè)計，確實可使研磨液均勻散布至該承載盤12、研磨盤14與再生玻璃20的接觸面，且，更可有效提升研磨液的滯留時間，如此一來，相較于現(xiàn)有研磨設(shè)備中研磨盤表面放射狀導(dǎo)流溝的設(shè)計，本實用新型的研磨設(shè)備確實具備更佳的研磨效果者，可運用于平面顯示玻璃的再生工藝，而省略酸洗的步驟，達到減少使用化學(xué)藥劑的效果。如圖3所示，是本實用新型另一實施方式的研磨設(shè)備，其結(jié)構(gòu)大體上與前述研磨設(shè)備相同，不同處是在于其導(dǎo)引部22大概如螺旋狀，其回流區(qū)24是由沿研磨盤14圓周方向環(huán)繞延伸的導(dǎo)流溝25所構(gòu)成?；?，該研磨設(shè)備亦具備前述使研磨液均勻散布、提高研磨液的滯留時間及研磨效果等功效者。當(dāng)然，如圖4所示，亦可于承載盤12上設(shè)置導(dǎo)引部22，同樣能夠使研磨液均勻散布、提高研磨液的滯留時間，以及提升研磨效果。必須一提的是，本實用新型該研磨設(shè)備中導(dǎo)引部并不限前述的型式，其只須可使研磨液不易被旋轉(zhuǎn)中的研磨盤甩出而延長研磨液的滯留時間、使研磨液均勻散布，即符合本實用新型的需求，而屬本實用新型的技術(shù)范疇。綜上所陳，本實用新型所提供的平面顯示再生玻璃的研磨設(shè)備，其不僅可使研磨液均勻散布并增加研磨液的滯留時間、提升研磨效果，更可運用于平面顯示玻璃的再生工藝而省略酸洗程序，進而達到減少使用化學(xué)藥劑的效果。
·[0027]當(dāng)然，以上所述僅是本實用新型的較佳實施方式，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，其特征在于所述研磨盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)弓I部包括有回流區(qū)及若干排放口。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于所述回流區(qū)包括有若干沿研磨盤徑向延伸的第一導(dǎo)流溝、若干第二導(dǎo)流溝，第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝相交地延伸于研磨盤上，各第一導(dǎo)流溝、第二導(dǎo)流溝連通研磨盤邊緣之處分別形成排放口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于各第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝垂直相交。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于所述回流區(qū)系包括有若干導(dǎo)流溝，各導(dǎo)流溝沿研磨盤圓周方向環(huán)繞延伸，其連通研磨盤邊緣處形成排放口。
5.平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨 液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，其特征在于所述承載盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)引部包括有回流區(qū)及若干排放口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于所述回流區(qū)包括有若干沿承載盤徑向延伸的第一導(dǎo)流溝、若干第二導(dǎo)流溝，第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝相交地延伸于承載盤上，各第一導(dǎo)流溝、第二導(dǎo)流溝連通承載盤邊緣之處分別形成排放口。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于各第二導(dǎo)流溝與第一導(dǎo)流溝垂直相交。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其特征在于所述回流區(qū)系包括有若干導(dǎo)流溝，各導(dǎo)流溝沿承載盤圓周方向環(huán)繞延伸，其連通承載盤邊緣處形成排放口。
專利摘要本實用新型涉及研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及平面顯示再生玻璃研磨設(shè)備，其包括有用于放置再生玻璃的承載盤、可受承載盤帶動而旋轉(zhuǎn)的研磨盤、為承載盤旋轉(zhuǎn)提供動力的運轉(zhuǎn)裝置、為研磨再生玻璃供應(yīng)研磨液的研磨液供應(yīng)裝置，研磨盤相對設(shè)置于承載盤一側(cè)，研磨盤表面設(shè)置有導(dǎo)引部，導(dǎo)引部包括有回流區(qū)及若干排放口，回流區(qū)及若干排放口可將研磨液均勻散布至承載盤、研磨盤與再生玻璃的接觸面，并增進研磨液的滯留時間，提升研磨效果，能夠運用于平面顯示玻璃的再生工藝中而省略酸洗程序，進而達到減少使用化學(xué)藥劑的效果。
文檔編號B24B7/24GK202498419SQ201220117408
公開日2012年10月24日 申請日期2012年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月23日
發(fā)明者崔波濤 申請人:宏達光電玻璃(東莞)有限公司