專利名稱：真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及真空鍍膜用的エ件清洗結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
隨后出現(xiàn)有物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，主要是在真空環(huán)境下進行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜，近十年來發(fā)展相當(dāng)快，已經(jīng)成為當(dāng)今最先進的表面處理方式之一。真空鍍膜生產(chǎn)是實現(xiàn)膜層附著在エ件表面，以獲得需要的エ件表面特性，然而，在實際生產(chǎn)時，エ件表面都或多或少積累有污垢，這些污垢如不能有效除去，則會極大的影響膜層附著力，導(dǎo)致產(chǎn)品品質(zhì)下降。因而需要進行清潔，但傳統(tǒng)的方式是采用人工擦洗，這不僅増加了勞動量和生產(chǎn)成本，且生產(chǎn)率低，存在清潔不 徹底的缺陷。為此，本申請人迎合市場發(fā)展的需求，秉持著研究創(chuàng)新、精益求精之精神，利用其專業(yè)眼光和專業(yè)知識，研究出ー種適于產(chǎn)業(yè)利用，有助于生產(chǎn)連續(xù)性的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供ー種真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡單，成本低，清潔方便、快捷。為達到上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其包括有轟擊棒，轟擊棒后端與電極連接，電極與電纜電性連接，電極通過絕緣套固定安裝在相應(yīng)的載體。所述轟擊棒與電極同軸設(shè)置，轟擊棒與電極之間通過螺紋連接。電極與電纜連接的一端設(shè)有螺紋段，螺紋段連接的螺母固定電纜與電極的連接。上述方案進ー步改進是在轟擊棒與電極螺紋連接的部位設(shè)有U型護套。本實用新型設(shè)計的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)轟擊棒通電配合氬氣產(chǎn)生放電獲得等離子，并以等離子撞擊エ件表面，使エ件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，結(jié)構(gòu)簡單，科學(xué)合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，大大提升エ件表面清潔的效率和質(zhì)量，從而提升真空鍍膜的功效和品質(zhì)。
附圖I為本實用新型的較佳實施例結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型進ー步說明參閱圖I所示，本實用新型所述的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其包括有轟擊棒1，轟擊棒I為ー招棒；轟擊棒I后端與電極2連接，電極2與電纜電性連接，電極2通過絕緣套4固定安裝在相應(yīng)的載體3。本實施例中，電極2為柱狀，轟擊棒I與電極2同軸設(shè)置，轟擊棒I與電極2之間通過螺紋連接，結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便。電極2與電纜連接的一端設(shè)有螺紋段21，螺紋段21連接的螺母5固定電纜與電極2的連接。在轟擊棒I與電極2螺紋連接的部位設(shè)有U型護套6，U型護套6有效阻隔等離子，保護轟擊棒I的連接部位及電極2，延長使用壽命。本實用新型是為了在真空鍍膜中清洗エ件表面，増加膜層的附著力而設(shè)計。工作吋，將本實用新型安裝于真空室，當(dāng)真空室的真空度達到O. 05Pa的時候，再向真空室內(nèi)充氬氣到IPa，這時打開電源，把5KV的直流電壓通過螺母5所固定的電纜加載在電極2上，在氬氣的作用下，轟擊棒I產(chǎn)生輝光放電而產(chǎn)生等離子，高能的等離子則會撞擊エ件表面，使エ件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，結(jié)構(gòu)簡単，科學(xué)合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，大大提升エ件表面清潔的效率和質(zhì)量，從而提升真空鍍膜的功效和品質(zhì)。當(dāng)然，以上圖示僅為本實用新型的較佳實施例，并非以此限定本實用新型的實施范圍，故，凡是依照本實用新型之原理做等效變化或修飾，均應(yīng)涵蓋于本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其特征在于包括有轟擊棒(I)，轟擊棒(I)后端與電極(2)連接，電極(2)與電纜電性連接，電極(2)通過絕緣套(4)固定安裝在相應(yīng)的載體(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其特征在于轟擊棒(I)與電極(2)同軸設(shè)置，轟擊棒(I)與電極(2)之間通過螺紋連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其特征在于電極(2)與電纜連接的一端設(shè)有螺紋段(21)，螺紋段(21)連接的螺母(5)固定電纜與電極(2)的連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其特征在于在轟擊棒(I)與電極(2)螺紋連接的部位設(shè)有U型護套(6)。
專利摘要本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，其包括有轟擊棒，轟擊棒后端與電極連接，電極與電纜電性連接，電極通過絕緣套固定安裝在相應(yīng)的載體；所述轟擊棒與電極同軸設(shè)置，轟擊棒與電極之間通過螺紋連接。電極與電纜連接的一端設(shè)有螺紋段，螺紋段連接的螺母固定電纜與電極的連接。本實用新型設(shè)計的真空鍍膜用的離子轟擊結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)轟擊棒通電配合氬氣產(chǎn)生放電獲得等離子，并以等離子撞擊工件表面，使工件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，結(jié)構(gòu)簡單，科學(xué)合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，大大提升工件表面清潔的效率和質(zhì)量，從而提升真空鍍膜的功效和品質(zhì)。
文檔編號C23C14/32GK202595253SQ20122013024
公開日2012年12月12日 申請日期2012年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月31日
發(fā)明者趙銘 申請人:廣東友通工業(yè)有限公司