專利名稱：晶圓加熱裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種晶圓加熱裝置，特別涉及一種能夠加熱晶圓，使其廣生沉積薄膜的加熱裝置。
背景技術：
在半導體制作過程中，要加熱一晶圓(Wafer)，其是利用一晶圓加熱裝置，以對晶圓進行加熱，而晶圓加熱的目的在于化學氣相沉積(Chemical vapor deposition, CVD),其是為了沉積(deposit) —些積體電路所需要的薄膜(oxide film),但為了使晶圓能達到均溫及減少熱應力，使晶圓能有較佳的均溫性，故晶圓加熱裝置具有相當?shù)挠绊懶浴?現(xiàn)有的晶圓加熱裝置，其具有一柱體，柱體的頂端耦接有一呈圓形的加熱座，加熱座設有至少一呈環(huán)形的加熱管，加熱管的一端延伸至柱體中，加熱座進一步具有至少四推桿，該四推桿為陶瓷所制，該四推桿能夠選擇性延伸至加熱座的外部，并且該四推桿設于加熱座的四位置能夠構成一矩形。如上所述，四推桿突伸至加熱座的外部，一機械手臂將一晶圓移至四推桿的頂端，而后機械手臂與晶圓相分離，柱體上升，以使加熱座與晶圓二者相互貼合，四推桿縮回加熱座中。另一實施例，則為四推桿縮回加熱座中，以使加熱座與晶圓二者相互貼合。加熱管對晶圓加熱，使晶圓達到一設定溫度，而沉積一具有一厚度的薄膜。綜合上述，現(xiàn)有的晶圓加熱裝置具有下述缺點I、當單一推桿，因某種原因，而產(chǎn)生斷裂時，其余三根推桿仍可撐住晶圓，而使工作人員無法立即察覺推桿斷裂的情況。2、推桿斷裂時所產(chǎn)生的陶瓷碎片會掉落至加熱座，該陶瓷碎片會使加熱座與晶圓二者無法緊密貼合，故晶圓無法達到設定溫度，或者受熱不均勻，導致所沉積的薄膜的厚度不對或不均勻，更有甚者，可能導致晶圓的產(chǎn)品合格率降低，或者報廢。3、承第I點所述，當工作人員發(fā)現(xiàn)問題時，往往已經(jīng)過一段時間，對晶圓制作過程來說，可能已有數(shù)百片或數(shù)千片晶圓已報廢，對廠商而言，可能造成相當程度的損失。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的即在提供一種當發(fā)生推桿斷裂問題時，工作人員能立即發(fā)現(xiàn)的晶圓加熱裝置，以避免上述缺點的產(chǎn)生。為達上述目的，本實用新型提出了一種晶圓加熱裝置，其包含有一加熱座；一立柱，其一端耦接所述加熱座的底端；一加熱管，設于所述加熱座中，所述加熱管的一端延伸至所述立柱中；以及三個推桿，其能夠選擇性由所述加熱座的頂端突伸至所述加熱座外部，并且以一縱向設于所述加熱座中。[0017]本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿的任二個推桿之間的距離為一設定距離。本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述設定距離為一等距。本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿的任二個推桿之間
具有一設定夾角。本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述設定夾角為一等角。本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿設于該加熱座的位置能夠構成一等角三角形。本實用新型提出的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述加熱管為一環(huán)形。 綜合上述，本實用新型的有益效果在于，通過本實用新型提出的晶圓加熱裝置，當任一推桿產(chǎn)生斷裂時，其余推桿無法支撐晶圓，晶圓會產(chǎn)生傾斜，所以輸送裝置，如機械手臂，會產(chǎn)生有碰撞，其有可能導致晶圓破裂，或輸送裝置發(fā)出故障警報，而使工作人員能立即發(fā)現(xiàn)異常狀態(tài)，所以至多一個晶圓的半成品會于該過程中產(chǎn)生報廢，從而能降低廠商的損失。

圖I為本實用新型的一種晶圓加熱器的立體示意圖。圖2為本實用新型的晶圓加熱器的剖面示意圖。附圖標記說明1_加熱座；2_立柱；3_加熱管；4_推桿。
具體實施方式
以下結合附圖，對本實用新型上述的和另外的技術特征和優(yōu)點作更詳細的說明。請配合參考圖I與圖2所示，本實用新型的一種晶圓加熱裝置，其包含有一加熱座I、一立柱2、一加熱管3與三個推桿4。立柱2的一端耦接加熱座I的底端。加熱管3設于加熱座I中，加熱管I的一端延伸至立柱2中，并且該端能夠選擇性延伸至立柱2的外部，加熱管3為一環(huán)形。推桿4能夠選擇性由加熱座I的頂端突伸至加熱座I外部，并且以一縱向設于加熱座I中，而三個推桿于加熱座I的位置分布，舉例而言，三個推桿的任二個推桿之間的距離為一設定距離，該設定距離為一等距；或者，三個推桿的任二個推桿之間具有一設定夾角，設定夾角為一等角；又或者，三個推桿設于加熱座I的位置能夠構成一等角三角形。推桿4突伸至加熱座I外部，一輸送裝置將一晶圓移至推桿4的頂端，輸送裝置與晶圓相分離，立柱2上升，以使加熱座I與晶圓二者相互貼合，推桿4縮回加熱座I中；或者，推桿4縮回加熱座I中，以使加熱座I與晶圓二者相互貼合。加熱管3對晶圓加熱，以使晶圓均勻受熱，進而使晶圓產(chǎn)生一沉積的薄膜，該薄膜
具有一厚度。如上所述，本實用新型使用的三個推桿4，構成一足以承載晶圓的平面，若其一推桿產(chǎn)生斷裂時，前述的平面則不復存在，故其余的推桿不能支撐晶圓，而使晶圓產(chǎn)生傾斜的情況，工作人員可立即判斷出推桿產(chǎn)生斷裂。[0035]或者，輸送裝置會因斷裂的推桿，而產(chǎn)生有碰撞的情況，其有可能導致晶圓破裂，輸送裝置發(fā)出故障警報，以立即通知工作人員生產(chǎn)線具有異常狀態(tài)。如上所述，于該過程中，僅至多一個晶圓的半成品會于該過程中產(chǎn)生報廢，工作人員已立即發(fā)現(xiàn)異常狀況，故能降低廠商的損失。因工作人員能夠立即發(fā)現(xiàn)斷裂的推桿，所以晶圓于尚未加熱前，就已被發(fā)現(xiàn)有異 常狀態(tài)，故晶圓不可能產(chǎn)生有受熱未均勻或達到設定溫度，而導致所沉積的薄膜的厚度不對或不均勻問題，或者使晶圓的產(chǎn)品合格率降低或報廢的問題亦不可能產(chǎn)生。以上說明對本實用新型而言只是說明性的，而非限制性的，本領域普通技術人員理解，在不脫離以下所附權利要求所限定的精神和范圍的情況下，可做出許多修改，變化，或等效，但都將落入本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權利要求1.一種晶圓加熱裝置，其特征在于，包含有 一加熱座； 一立柱，其一端耦接所述加熱座的底端； 一加熱管，其設于所述加熱座中，所述加熱管的一端延伸至所述立柱中；以及三個推桿，其能夠選擇性由所述加熱座的頂端突伸至所述加熱座外部，并且以一縱向設于所述加熱座中。
2.根據(jù)權利要求I所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿的任二個推桿之間的距離為一設定距離。
3.根據(jù)權利要求2所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述設定距離為一等距。
4.根據(jù)權利要求I所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿的任二個推桿之間具有一設定夾角。
5.根據(jù)權利要求4所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述設定夾角為一等角。
6.根據(jù)權利要求I所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述三個推桿設于該加熱座的位置能夠構成一等角三角形。
7.根據(jù)權利要求I所述的晶圓加熱裝置，其特征在于，所述加熱管為一環(huán)形。
專利摘要一種晶圓加熱裝置，其具有一加熱座，該加熱座的底端耦接有一立柱，該加熱座中設有一加熱管與三個推桿，該三個推桿能夠選擇性延伸至加熱座外部，以支撐移動中的晶圓；當三個推桿中的任一推桿斷裂損壞時，其余的二個推桿將無法支撐移動中的晶圓，使工作人員能立即發(fā)現(xiàn)推桿斷裂的問題，而立即停工檢修，故能避免后續(xù)將要加熱的晶圓繼續(xù)進行加熱，免除將要加熱的晶圓因推桿斷裂而損壞。
文檔編號C23C16/46GK202519328SQ201220146298
公開日2012年11月7日 申請日期2012年4月9日 優(yōu)先權日2012年4月9日
發(fā)明者彭康琪 申請人:煜詮科技有限公司