專(zhuān)利名稱(chēng)：一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，屬于工業(yè)自動(dòng)化領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
離子濺射機(jī)是工業(yè)生產(chǎn)中重要的機(jī)器之一，特別是在信息化的今天，平面型玻璃表面蒸鍍光學(xué)薄膜離不開(kāi)離子濺射機(jī)。然而圓柱狀光纖側(cè)面也需要像平面型玻璃表面一樣蒸鍍光學(xué)薄膜從而應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置將適用于光纖側(cè)面鍍膜，為光纖鍍膜和生產(chǎn)創(chuàng)造了前所未有的便捷。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，光纖側(cè)面如圓 柱狀光纖側(cè)面可以通過(guò)真空離子濺射裝置蒸鍍光學(xué)薄膜。真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置具有自動(dòng)、快捷、方便和均勻等特點(diǎn)。本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于由固定套管(I)、泵(2)、閥門(mén)
(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪
(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于固定套管(I)的長(zhǎng)度變化范圍為10-50cm ;電機(jī)轉(zhuǎn)速為0-60rpm可調(diào)。所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于被鈀合金鍍膜光纖的種類(lèi)為單模光纖或者多模光纖或者光子晶體光纖。所述的的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于光纖被鍍膜的長(zhǎng)度范圍根據(jù)固定套管(I)的長(zhǎng)度范圍可調(diào)，鍍膜長(zhǎng)度范圍為10cm-200cm。本實(shí)用新型的原理為在真空條件下，由固定套管⑴、泵(2)、閥門(mén)(3)、真空室
(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。本實(shí)用新型的有益效果是光纖側(cè)面可以通過(guò)離子濺射鍍膜蒸鍍光學(xué)薄膜，具有精密、自動(dòng)、均勻、快捷和方便等特點(diǎn)。

[0011]圖I為一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征是由固定套管(I)、泵
(2)、閥門(mén)(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管
(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管
(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀
(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈕合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上,在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。光纖(7)從一固定套管(I)穿入進(jìn)入一不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿 出的光纖(7)纏繞在電機(jī)軸(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，轉(zhuǎn)輪(9)帶動(dòng)光纖(7)與電機(jī)軸緊密配合且一起運(yùn)轉(zhuǎn)。電機(jī)轉(zhuǎn)速為40rpm可調(diào)，同時(shí)可耐300°C高溫，固定套管(I) 口徑為5cm，固定套管(I)的長(zhǎng)度為30cm，鍍膜長(zhǎng)度為100cm。在真空室(4)中，利用氣體放電使鈀合金靶(5)蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，同時(shí)利用離子引出器(6)將多余的離子排除容器外。
權(quán)利要求1.一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于由固定套管(I)、泵(2)、閥門(mén)(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于固定套管(I)的長(zhǎng)度變化范圍為10-50cm;電機(jī)轉(zhuǎn)速為0-60rpm可調(diào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于被鈀合金鍍膜光纖的種類(lèi)為單模光纖或者多模光纖或者光子晶體光纖。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于光纖被鍍膜的長(zhǎng)度范圍根據(jù)固定套管(I)的長(zhǎng)度范圍可調(diào)，鍍膜長(zhǎng)度范圍為10cm-200cm。
專(zhuān)利摘要一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征為由固定套管(1)、泵(2)、閥門(mén)(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(1)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。該裝置能自動(dòng)、快速、直接和精確地在光纖側(cè)面蒸鍍均勻薄膜，具有廣闊的市場(chǎng)前景。
文檔編號(hào)C23C14/34GK202576550SQ20122022061
公開(kāi)日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月11日
發(fā)明者劉洋, 沈常宇, 馬啟飛, 蔣婷婷, 鐘川, 褚金雷, 鄒新, 牟晟, 董新永, 李萍 申請(qǐng)人:中國(guó)計(jì)量學(xué)院