專利名稱：一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶。
背景技術(shù)：
隨后出現(xiàn)有物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，主要是在真空環(huán)境下進(jìn)行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜，近十年來發(fā)展相當(dāng)快，已經(jīng)成為當(dāng)今最先進(jìn)的表面處理方式之一。真空鍍膜生產(chǎn)是實(shí)現(xiàn)膜層附著在工件表面，以獲得需要的工件表面特性。真空濺射鍍膜是利用靶材發(fā)生濺射，使濺射物附著在工件表 面形成膜層，即達(dá)到鍍膜；磁控濺射鍍膜機(jī)是常見的真空濺射鍍膜設(shè)備，然而，由于其上設(shè)置的磁控濺射靶中，靶材和靶芯相對(duì)不動(dòng)，而靶芯上的磁塊分布難于相對(duì)均勻，且難以保證不同磁塊的磁性一致，使得生產(chǎn)中磁場(chǎng)強(qiáng)度有差異，濺射不均勻，影響鍍膜質(zhì)量，因而優(yōu)待改進(jìn)。再著，由于磁控濺射過程中會(huì)產(chǎn)生高溫，而現(xiàn)有技術(shù)沒能有效給予降溫，導(dǎo)致磁控效果降低，不利于生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，科學(xué)合理，可使濺射均勻，且可有效給靶降溫，提升鍍膜效果的磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，包括有靶頭和靶材，靶頭具有可轉(zhuǎn)動(dòng)的中空筒狀的外殼及靶芯，靶芯一端固定，另一端穿過外殼并伸出穿入靶材內(nèi)中部，并于靶芯之穿入革G材的部分外周分布有磁塊；外殼由電機(jī)驅(qū)動(dòng)；所述祀材的一端通過法蘭與祀頭的外殼軸向銜接在一起。所述靶材與靶頭的外殼銜接后恰使靶材內(nèi)腔與靶頭的外殼內(nèi)腔形成連通的密封腔，靶芯位于密封腔中；所述靶芯的內(nèi)部還設(shè)有冷卻通道，冷卻通道的入口外接冷卻液；而冷卻通道的出口位于靶芯之穿入靶材的一端端頭，冷卻通道的出口連通密封腔，密封腔設(shè)有出口。所述密封腔的出口設(shè)置在靶芯之固定座上，固定座設(shè)有端口軸向?qū)油鈿さ囊欢恕酢Ｋ霭行局┤氚胁牡牟糠滞庵苓€套設(shè)有輔助環(huán)，輔助環(huán)的外徑小于處于靶材內(nèi)的密封腔之內(nèi)徑。所述磁塊按祀芯外周的半圓周均勻分布。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)靶頭的外殼旋轉(zhuǎn)并帶動(dòng)靶材旋轉(zhuǎn)，且設(shè)有冷卻降溫結(jié)構(gòu)，從而使濺射更均勻，及時(shí)給靶降溫，提升鍍膜效果，獲得更優(yōu)產(chǎn)品。本實(shí)用新型再一優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，科學(xué)合理，投資成本低，維護(hù)檢修十分方便，安裝、使用方便，大大提高了設(shè)備的運(yùn)行率和可操作性。


[0013]附圖I為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為圖I之實(shí)施例結(jié)構(gòu)靶材部分?jǐn)嗝娼Y(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明參閱圖1、2所示，本實(shí)用新型所述的一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，包括有靶頭I和靶材2，靶頭I具有可轉(zhuǎn)動(dòng)的中空筒狀的外殼11及靶芯12，靶芯12 —端固定在固定座7上，另一端穿過外殼11并伸出穿入靶材2內(nèi)中部，并于靶芯12之穿入靶材2的部分·外周分布有磁塊3 ;靶芯12之穿入靶材2的部分的端頭定位在靶材2端部的絕緣座上；夕卜殼11由電機(jī)6驅(qū)動(dòng)；所述靶材2的一端通過法蘭4與靶頭的外殼11軸向銜接在一起。所述靶材2與靶頭的外殼11銜接后恰使靶材2內(nèi)腔與靶頭的外殼11內(nèi)腔形成連通的密封腔5，靶芯12位于密封腔5中；所述靶芯12的內(nèi)部還設(shè)有冷卻通道121，冷卻通道121的入口1211外接冷卻液；而冷卻通道121的出口 1212位于靶芯12之穿入靶材2的一端端頭，冷卻通道121的出口 1212連通密封腔5，密封腔5設(shè)有出口 51 ;密封腔的出口 51設(shè)置在靶芯12之固定座7上，固定座7設(shè)有端口軸向?qū)油鈿?1的一端口。實(shí)施時(shí)，通過電機(jī)6驅(qū)動(dòng)靶頭I的外殼11旋轉(zhuǎn)，可通過齒輪傳動(dòng)實(shí)現(xiàn)，外殼11旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)靶材2，使圍繞靶芯12上的磁塊3，由此使濺射鍍膜更均勻。而冷卻通道121的入口 1211通過接頭接冷卻水，使冷卻水進(jìn)入靶芯12內(nèi)部流動(dòng)，再從冷卻通道121的出口 1212流向密封腔5，再從密封腔的出口 51輸出循環(huán)，由此實(shí)現(xiàn)冷卻水及時(shí)把磁控濺射過程中會(huì)產(chǎn)生的熱量帶走，達(dá)到給靶降溫，提升鍍膜效果，獲得更優(yōu)產(chǎn)品。本實(shí)施例中，靶芯12之穿入靶材2的部分外周還套設(shè)有輔助環(huán)8，輔助環(huán)8的外徑小于處于靶材2內(nèi)的密封腔5之內(nèi)徑，輔助環(huán)8具有輔助定位，防止靶材2旋轉(zhuǎn)晃動(dòng)，確保磁塊3與靶材2之間的間距，獲得穩(wěn)定的磁控效果。本實(shí)用新型的靶材2通過法蘭4與靶頭的外殼11軸向銜接在一起，具有拆換性，可方便的更換靶材料，滿足生產(chǎn)需要；結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，科學(xué)合理，投資成本低，維護(hù)檢修十分方便，安裝、使用方便，大大提高了設(shè)備的運(yùn)行率和可操作性。圖2所示，本實(shí)施例中，磁塊3按靶芯12外周的半圓周均勻分布，且可采用高磁和低磁相互間隔的分布，成本低。該結(jié)構(gòu)可使本實(shí)用新型適合安裝在靠近真空室壁的位置，因只有半圓周設(shè)置磁塊3，所以安裝的時(shí)候?qū)]有磁塊的一邊向著真空室壁，而有磁塊的一邊向著工作區(qū)即可，極大的節(jié)約成本，滿足生產(chǎn)需要。當(dāng)然，以上圖示僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非以此限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍，故，凡是依照本實(shí)用新型之原理做等效變化或修飾，均應(yīng)涵蓋于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，包括有靶頭(I)和靶材(2)，其特征在于靶頭(1)具有可轉(zhuǎn)動(dòng)的中空筒狀的外殼(11)及祀芯(12),祀芯(12)—端固定，另一端穿過外殼(11)并伸出穿入靶材(2)內(nèi)中部，并于靶芯(12)之穿入靶材(2)的部分外周分布有磁塊(3 );外殼(11)由電機(jī)(6 )驅(qū)動(dòng)；所述靶材(2 )的一端通過法蘭(4 )與靶頭的外殼(11)軸向銜接在一起。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，其特征在于所述靶材(2)與靶頭的外殼(11)銜接后恰使靶材(2)內(nèi)腔與靶頭的外殼(11)內(nèi)腔形成連通的密封腔(5)，靶芯(12)位于密封腔(5)中；所述靶芯(12)的內(nèi)部還設(shè)有冷卻通道(121)，冷卻通道(121)的入口(1211)外接冷卻液；而冷卻通道(121)的出口(1212)位于靶芯(12)之穿入靶材(2 )的一端端頭，冷卻通道(121)的出口(1212)連通密封腔(5 )，密封腔(5 )設(shè)有出口(51)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，其特征在于所述密封腔(5)的出口(51)設(shè)置在靶芯(12)之固定座(7)上，固定座(7)設(shè)有端口軸向?qū)油鈿?11)的一端口。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，其特征在于靶芯(12)之穿入靶材(2)的部分外周還套設(shè)有輔助環(huán)(8)，輔助環(huán)(8)的外徑小于處于靶材(2)內(nèi)的密封腔(5)之內(nèi)徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，其特征在于所述磁塊(3)按靶芯(12)外周的半圓周均勻分布。
專利摘要本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶，包括有靶頭和靶材，靶頭具有可轉(zhuǎn)動(dòng)的中空筒狀的外殼及靶芯，靶芯一端固定，另一端穿過外殼并伸出穿入靶材內(nèi)中部，并于靶芯之穿入靶材的部分外周分布有磁塊；靶材的一端通過法蘭與靶頭的外殼軸向銜接在一起；銜接后恰使靶材內(nèi)腔與外殼內(nèi)腔形成連通的密封腔；靶芯的內(nèi)部還設(shè)有冷卻通道，冷卻通道的入口外接冷卻液；而冷卻通道的出口位于靶芯之穿入靶材的一端端頭，冷卻通道的出口連通密封腔，密封腔設(shè)有出口。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)外殼旋轉(zhuǎn)并帶動(dòng)靶材旋轉(zhuǎn)，且設(shè)有冷卻降溫結(jié)構(gòu)，從而使濺射更均勻，及時(shí)給靶降溫，提升鍍膜效果，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，科學(xué)合理，投資成本低。
文檔編號(hào)C23C14/35GK202658221SQ20122023642
公開日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2012年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月24日
發(fā)明者趙銘 申請(qǐng)人:廣東友通工業(yè)有限公司