專利名稱：酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種廢液凈化循環(huán)再生系統(tǒng)，具體是指一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)。
技術背景隨著電子行業(yè)的回暖，中國線路板行業(yè)發(fā)展隨之也普遍回升，據(jù)《2009-2012年中國印刷電路板行業(yè)發(fā)展與前景預測分析報告》指出，中國將在近年成為世界最大的PCB產業(yè)基地，目前占全球市場的30%左右。同時，四川遂寧目前已經(jīng)是國家審批的“西南電路板(PCB)產業(yè)制造基地”，川渝兩地方正電子、富士康電子等PCB產業(yè)巨頭的入駐，沿海大量的線路板廠內遷，PCB行業(yè)將迎來巨大的商機。但是，在電路板的制作過程中，比如印制電路板、電鍍等工序，在工作中都會產生大量的銅粉、銅粒和銅離子，這些銅粉、銅粒和銅離子都需要大量的清潔水進行清潔，而清潔后的含銅廢水內含有大量的銅離子，不能夠再次使用，同時含銅廢水進入污水處理廠后處理也極為不便，因此，我們需要設計一種廢水處理系統(tǒng)，以解決含銅廢水處理復雜、不能循環(huán)使用的問題。

實用新型內容本實用新型所要解決的問題是提供一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，解決了酸性蝕刻廢液處理復雜、成本高、有廢物排放的問題。本實用新型提供的技術方案是酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，包括依次連接的蝕刻生產線用水設備、中轉母液罐、母液罐、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組、再生子液罐、配液罐、過濾器、子液罐，所述相鄰的兩個部件之間還連接有高壓泵。所述酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組包括三通電子閥門和兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備，所述三通電子閥門的兩個出口端分別連接兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備。酸性蝕刻液循環(huán)再生設備的作用主要是利用電解原理，通過酸性蝕刻液循環(huán)再生設備內部的陽極電解系統(tǒng)對其中的母液進行電解，母液內的一價銅離子被氧化成二價銅離子后進入再生子液罐，而陰極板內的母液含有的一價銅離子被還原成銅后進入到銅粉回收系統(tǒng)，從而達到蝕刻液再生和銅的回收利用。所述酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組還連接有銅粉回收離心機。酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組內的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備完成電解后，其陰極內的含銅溶液通入到銅粉回收離心機內，通過銅粉回收離心機的離心作用將溶液內的銅粉離心過濾即得到了電解銅。所述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)全部采用封閉式循環(huán)結構。所述封閉式循環(huán)結構指整個系統(tǒng)的各個系統(tǒng)、部件和管道均處于密封的封閉結構內，外界的雜質不易進入系統(tǒng)內部，能夠保證系統(tǒng)的安全性和穩(wěn)定性。本實用新型的優(yōu)點在于本實用新型設計的這種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，效率高，成本低，占地面積少，無任何排放。
圖I為本實用新型的結構示意圖。圖中的標號分別表示為1、蝕刻生產線用水設備；2、中轉母液罐；3、母液罐；4、三通電子閥門；5、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備；6、銅粉回收離心機；7、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組；8、再生子液罐；9、配液罐；10、過濾器；11、子液罐。
具體實施方式
實施例I參見圖1，本實用新型提供的技術方案是酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，包括依次連接的蝕刻生產線用水設備I、中轉母液罐2、母液罐3、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7、再生子 液罐8、配液罐9、過濾器10、子液罐11，所述相鄰的兩個部件間還連接有高壓泵。上述酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7包括三通電子閥門4和兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5，所述三通電子閥門4的兩個出口端分別連接兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5。上述酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7還連接有銅粉回收離心機6。上述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)全部采用封閉式循環(huán)結構。在使用過程中，蝕刻生產線用水設備I使用過的酸性蝕刻廢液(即母液)通過中轉母液罐2和母液罐3進入到酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7，通過酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5的陽極電解將母液內的一價銅離子氧化成二價銅離子，并通過銅粉回收離心機6將酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5陰極電解得到的銅粉分離得到銅粉，電解后的蝕刻廢液即為再生子液，再生子液依次輸入再生子液罐8、配液罐9、過濾器10和子液罐11，子液罐11內的子液再進入蝕刻生產線用水設備I內形成蝕刻液循環(huán)使用，不僅回收了銅而且還得到了新生的蝕刻液，成本降低，同時，在整個系統(tǒng)的運行過程中，不會產生任何有害物質，環(huán)保實用。中轉母液罐2和母液罐3用于暫時儲存母液，再生子液罐8用于存放酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7生成的再生子液，配液罐9用于添加再生子液內損耗的氯化銨和氨水，過濾器10用于過濾再生子液內的雜質和配液時所帶雜質，子液罐11用于將子液存儲起來備用。當母液進入到酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組7后與三通電子閥門4入口端連通，三通電子閥門4的兩個出口端分別與兩個并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5連接，當三通電子閥門4的兩個出口端均處于打開狀態(tài)時，兩個酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5同時處于工作狀態(tài)，此時工作量增大，使得整個系統(tǒng)的效率提高，當兩個酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5某一個出現(xiàn)故障或者是需要清洗時，只需關閉相應的三通電子閥門4出口即可讓其獨立出去，此時即可對其進行排故或者清洗工作，而另一個酸性蝕刻液循環(huán)再生設備5仍然處于工作狀態(tài)，無須停止整個系統(tǒng)，此結構不僅保護了系統(tǒng)，增大了整個系統(tǒng)的靈活性和安全性。如上所述即可很好的實現(xiàn)本實用新型。
權利要求1.酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其特征在于包括依次連接的蝕刻生產線用水設備(I)、中轉母液罐(2)、母液罐(3)、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組(7)、再生子液罐(8)、配液罐(9)、過濾器(10 )、子液罐(11)，所述相鄰的兩個部件之間還連接有高壓泵。
2.根據(jù)權利要求I所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其特征在于所述酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組(7)包括三通電子閥門(4)和兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備(5)，所述三通電子閥門(4)的兩個出口端分別連接兩個彼此并聯(lián)的酸性蝕刻液循環(huán)再生設備(5)。
3.根據(jù)權利要求I所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其特征在于所述酸性蝕刻液循 環(huán)再生設備組(7 )還連接有銅粉回收離心機(6 )。
4.根據(jù)權利要求I所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，其特征在于所述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)全部采用封閉式循環(huán)結構。
專利摘要本實用新型公開了一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，包括依次連接的蝕刻生產線用水設備(1)、中轉母液罐(2)、母液罐(3)、酸性蝕刻液循環(huán)再生設備組(7)、再生子液罐(8)、配液罐(9)、過濾器(10)、子液罐(11)，所述相鄰的兩個部件之間還連接有高壓泵。本實用新型的優(yōu)點在于本實用新型設計的這種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)，效率高，成本低，占地面積少，無任何排放。
文檔編號C23F1/46GK202717848SQ201220423840
公開日2013年2月6日 申請日期2012年8月24日 優(yōu)先權日2012年8月24日
發(fā)明者韋建敏, 趙興文, 張小波, 張曉蓓, 吳圣杰 申請人:成都虹華環(huán)保科技有限公司