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共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔的制作方法

文檔序號:3274547閱讀:308來源:國知局
專利名稱:共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種真空裝載腔,通過該機構(gòu)可實現(xiàn)晶元從大氣環(huán)境下進入真空工作環(huán)境,而不必使真空腔室回填至大氣壓力。屬于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體的生產(chǎn)過程中,給晶圓鍍膜是前段工序中最重要和頻繁的工序之一。各種鍍膜工藝都是在不同程度的真空中進行的,而原料晶圓和成品晶圓總需要頻繁的從真空環(huán)境中進進出出。為了盡量避免外界顆粒對工藝的影響,增加真空工藝腔室的使用壽命和提高生產(chǎn)效率,就要避免真空工藝腔室在真空與大氣狀態(tài)下頻繁轉(zhuǎn)換,那么真空裝載腔就必不可少。真空裝載腔是一個過渡腔室,設(shè)置在晶圓盒與真空工藝腔室之間,盡量小的體積使它在真空和大氣狀態(tài)下轉(zhuǎn)換時使用更少的時間。當它處于大氣狀態(tài)時,與晶圓盒連通,通過機械手等機構(gòu)裝載晶圓;當它處于真空狀態(tài)時,與真空腔室或真空狀態(tài)下的晶圓傳輸系統(tǒng)連通,機械手等機構(gòu)將晶圓搬送到工藝腔室。上述過程就是大氣狀態(tài)下晶圓傳入真空腔室的過程,它的逆過程會將成品晶圓傳回晶圓盒。以目前主流的12英寸晶圓的生產(chǎn)為例,為了提高生產(chǎn)效率,很多設(shè)備將兩個真空腔室設(shè)計成一組,這樣在相同時間內(nèi)幾乎可以得到2倍的產(chǎn)能,相應(yīng)的,雙臂的機械手機構(gòu)、支持同時運送2片晶圓的晶圓傳輸系統(tǒng)和雙腔室的真空裝載腔也隨之產(chǎn)生。同類現(xiàn)有的產(chǎn)品一般采用兩個腔室獨立加工,然后再組裝到一起的結(jié)構(gòu)形式。這種分離腔室的設(shè)計,真空管路需要一分為二,對管路焊接要求較高,如不對稱的話會導(dǎo)致兩邊抽速不均勻。另外真空角閥與腔室之間有較長的管路連接,既增加了成本,又使腔體容積加大,增加泵組的負擔。而且需要兩個真空計,增加了不必要的成本。兩個腔體安裝在真空腔室上時需要保證各種幾 何精度,大大增加了裝調(diào)的難度?,F(xiàn)有產(chǎn)品中也有兩腔室一起加工的情況,但如果兩腔室在底部用管路相連的話,就面臨上面分離腔體同樣的問題。如果在上面連通的話,就需要整個裝載腔上表面整體密封,密封面積大幅增加,厚重的蓋板增加了成本,需要透明觀察窗的話又增加了兩個密封點,降低了真空系統(tǒng)的可靠性。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型以解決上述問題為目的,主要解決現(xiàn)有的真空工藝腔室的結(jié)構(gòu)復(fù)雜、裝調(diào)難度高和生產(chǎn)效率不高的技術(shù)問題。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用下述技術(shù)方案共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔,主要由腔體組件、晶圓支架組件、底部法蘭組件和透明蓋板構(gòu)成。上述晶圓支架組件,包括晶圓支架和晶圓支架托盤。晶圓支架具有與晶圓外徑相吻合的圓形弧面用來固定晶圓,兩層(或多層)晶圓支架用螺釘緊固于晶圓支架托盤上,晶圓支架托盤用螺釘緊固在腔室的底面。[0010]上述底部法蘭組件,包括底部法蘭、氣體擴散器、真空計、真空角閥及真空管路等部分。底部法蘭的一面為密封面,用O型圈密封于腔體底部的共用真空室的下方,使共用真空室密閉。底部法蘭的另一面開孔,用螺釘分別連接氣體擴散器、真空計、真空角閥、真空管路,同樣使用O型圈密封。真空角閥通過真空管路連接至泵組,為本實用新型提供真空和關(guān)斷真空管路。氣體擴散器連接氮氣管路,用于給真空裝載腔回填至大氣壓。真空計用來實時監(jiān)測本實用新型腔體內(nèi)的壓力。以上功能通過共用真空室使本實用新型的兩個腔體同時獲得。上述透明蓋板用螺釘緊固在腔室上,用O型圈密封。用于觀察其工作情況。上述腔體組件包括腔體、真空閘板閥和大氣閘板閥。腔體由一塊鋁材加工而成,從上向下加工兩個腔室,前后貫通加工出晶圓傳輸孔道,自下向上加工出共用真空室連通兩個腔室,共用真空室與腔室相貫形成連通孔道。真空閘板閥和大氣閘板閥分別安裝在晶圓傳輸孔道兩端,用O型圈密封。本實用新型的有益效果及特點本實用新型與現(xiàn)有的同類產(chǎn)品相比,解決了兩個腔室獨立加工,再組裝到一起的結(jié)構(gòu)形式所存在的對管路焊接要求較高,成本增加,裝調(diào)的難度大的問題。同時也解決了現(xiàn)有產(chǎn)品中兩腔室一起加工的結(jié)構(gòu)形式所存在的密封面積大,成本高,降低真空系統(tǒng)可靠性的問題。其加工和裝調(diào)方便,滿足了高可靠性的要求。本實用新型節(jié)約了一套系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)合理,機加工藝簡單,成本低廉,雙腔共用真空腔室,容積小,抽真空與回填大氣的時間和成本與同類產(chǎn)品相比大幅減小的特點。

圖1是本實用新型中真空裝載腔的示意圖,顯示了雙腔的位置,包含腔體和位于腔體兩側(cè)晶圓傳輸方向上的真空閘板閥和大氣閘板閥,為便于表不內(nèi)部晶圓支架的結(jié)構(gòu),去掉了一側(cè)透明蓋板。圖2是本實用新型底部的示意圖,顯示了底部法蘭,和裝配在底部法蘭上的氣體擴散器、真空計、真空角閥以及真空管路。圖3是本實用新型主體部件腔體和底部法蘭的安裝位置示意圖,顯示了雙腔共用的真空腔室的加工方式,和底部法蘭的安裝位置。圖4是本實用新型主體部件腔體頂部的示意圖,顯示了聯(lián)通孔道的位置和形狀。
具體實施方式
實施例參照圖1-圖4,共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔,主要由腔體組件、晶圓支架組件、底部法蘭組件和透明蓋板組成。上述晶圓支架組件包括晶圓支架2和晶圓支架托盤3。晶圓支架2每層四只且制成與晶圓外徑相吻合的圓形弧面用來固定晶圓,兩層(或多層)晶圓支架2用螺釘緊固于晶圓支架托盤3上,晶圓支架托盤3用螺釘緊固在腔室15底面,晶圓支架2間隔的距離使連通孔道8剛好露出。上述底部法蘭組件包括底部法蘭7、氣體擴散器12、真空計11、真空角閥10及真空管路9等部分。底部法蘭7 —面為密封面,用O型圈密封于腔體I底部的共用真空室13的下方,使共用真空室密閉。底部法蘭7的另一面至少開有3個孔用螺釘分別連接氣體擴散器12、真空計11、真空角閥10、真空管路9,同樣使用O型圈密封。真空角閥10通過真空管路9連接至泵組,為本實用新型提供真空和關(guān)斷真空管路。氣體擴散器12連接氮氣管路,用于給真空裝載腔回填至大氣壓。真空計11用來實時監(jiān)測本實用新型腔體I內(nèi)的壓力。以上功能通過共用真空室13使本實用新型的兩個腔體同時獲得。上述透明蓋板5用螺釘緊固在腔室15上,O型圈密封。用于觀察其工作情況。上述腔體組件包括腔體1、真空閘板閥6和大氣閘板閥4。腔體I由一塊鋁材加工而成,從上向下加工兩個腔室15,前后貫通加工出晶圓傳輸孔道14,自下向上加工出共用真空室13連通兩個腔室15,共用真空室13與腔室15相貫形成連通孔道8。真空閘板閥6和大氣閘板閥4分別安裝 在晶圓傳輸孔道兩端,用O型圈密封。
權(quán)利要求1.共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔,主要由腔體組件、晶圓支架組件、底部法蘭組件及透明蓋板構(gòu)成,上述晶圓支架組件,包括晶圓支架和晶圓支架托盤,晶圓支架具有與晶圓外徑相吻合的圓形弧面用來固定晶圓,兩層或多層晶圓支架用螺釘緊固于晶圓支架托盤上,晶圓支架托盤用螺釘緊固在腔室的底面;上述透明蓋板用螺釘緊固在腔室上,用O型圈密封,其特征在于上述腔體組件包括腔體、真空閘板閥和大氣閘板閥,腔體由一塊鋁材加工而成,從上向下加工兩個腔室,前后貫通加工出晶圓傳輸孔道,自下向上加工出共用真空室連通兩個腔室,共用真空室與腔室相貫形成連通孔道,真空閘板閥和大氣閘板閥分別安裝在晶圓傳輸孔道兩端,用O型圈密封;上述底部法蘭組件,包括底部法蘭、氣體擴散器、真空計、真空角閥及真空管路,底部法蘭的一面為密封面,用O型圈密封于腔體底部的共用真空室的下方,底部法蘭的另一面開孔用螺釘分別連接氣體擴散器、真空計、真空角閥、真空管路,同樣使用O型圈密封,真空角閥通過真空管路連接至泵組,氣體擴散器連接氮氣管路,形成共用真空室。
2.如權(quán)利要求1所述的共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔,其特征在于所述底部法蘭的另一面至少開有3個孔。
專利摘要共用真空系統(tǒng)的雙腔真空裝載腔,主要解決現(xiàn)有的真空工藝腔室的結(jié)構(gòu)復(fù)雜、裝調(diào)難度高和生產(chǎn)效率不高的技術(shù)問題。它主要由腔體組件、晶圓支架組件、底部法蘭組件及透明蓋板構(gòu)成。上述底部法蘭組件,包括底部法蘭、氣體擴散器、真空計、真空角閥及真空管路,底部法蘭的一面為密封面,用O型圈密封于腔體底部的共用真空室的下方,底部法蘭的另一面開孔用螺釘分別連接氣體擴散器、真空計、真空角閥、真空管路,同樣使用O型圈密封,真空角閥通過真空管路連接至泵組,氣體擴散器連接氮氣管路,形成共用真空室。本實用新型具有結(jié)構(gòu)合理,機加工藝簡單,成本低廉,雙腔共用真空腔室,容積小,抽真空與回填大氣的時間和成本與同類產(chǎn)品相比大幅減小的特點。
文檔編號C23C16/44GK202898520SQ201220510999
公開日2013年4月24日 申請日期2012年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月29日
發(fā)明者姜崴 申請人:沈陽拓荊科技有限公司
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