專利名稱：一種拋光機(jī)的打磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及拋光機(jī)領(lǐng)域，具體涉及一種拋光機(jī)的打磨裝置。
背景技術(shù)：
由于瓷片的磚坯表面有大量針孔狀的凹坑，通過拋光機(jī)對瓷片磚坯進(jìn)行拋光磨肖IJ，可在瓷片磚坯淋釉加工后提高其釉面質(zhì)量和光亮度，同時，還可降低釉料的填充損耗成本，從而提高產(chǎn)品的市場競爭力?，F(xiàn)有的拋光機(jī)的打磨裝置一般包括安裝在拋光機(jī)橫梁上的支承架、固定在支承架上的驅(qū)動電機(jī)、設(shè)置在拋光機(jī)橫梁上并與驅(qū)動電機(jī)輸出軸聯(lián)接的轉(zhuǎn)盤、安裝在轉(zhuǎn)盤上的磨盤電機(jī)、與磨盤電機(jī)輸出軸聯(lián)接的磨盤；所述磨盤電機(jī)輸出軸與驅(qū)動電機(jī)輸出軸相互錯開。工作時，通過利用驅(qū)動電機(jī)帶動轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，從而帶動磨盤進(jìn)刀，并利用磨盤電機(jī)帶動磨盤自轉(zhuǎn)。但利用驅(qū)動電機(jī)帶動磨盤進(jìn)刀，容易出現(xiàn)晃動、振動現(xiàn)象，導(dǎo)致瓷片磚坯拋削不平整，甚至出現(xiàn)漏拋現(xiàn)象，嚴(yán)重影響其拋削效果。

實(shí)用新型內(nèi)容針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的旨在于提供一種拋光機(jī)的打磨裝置，其在工作過程中能有效避免晃動、振動現(xiàn)象的出現(xiàn)，從而減少瓷片磚坯拋削不平整及漏拋現(xiàn)象，提高其拋削效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案—種拋光機(jī)的打磨裝置，包括固定在拋光機(jī)橫梁上的氣缸、第一電機(jī)、與第一電機(jī)輸出軸聯(lián)接的磨盤、與第一電機(jī)固定連接的升降橫桿；所述氣缸的活塞桿與升降橫桿固定連接。該拋光機(jī)的打磨裝置包括兩個氣缸，所述兩個氣缸的活塞桿分別連接在升降橫桿的左右兩端。所述拋光機(jī)橫梁上固定有支承架，該支承架上固定有第二電機(jī)，第二電機(jī)的輸出軸上連接有一絲桿，所述支承架上設(shè)有可沿其高度方向移動的限位螺母，該限位螺母與絲桿螺紋連接；所述升降橫桿位于限位螺母的上方，且其上設(shè)有供絲桿穿設(shè)的穿孔；該穿孔在限位螺母上表面的投影落在限位螺母上表面邊緣所圍成的區(qū)域內(nèi)。升降橫桿上連接有吊軸，該吊軸的下端固定連接有升降架，所述第一電機(jī)機(jī)體固定在升降架上。本實(shí)用新型的有益效果在于1、通過利用氣缸帶動磨盤進(jìn)刀，可起到緩沖避震、快速進(jìn)退刀的作用，在工作過程中能有效避免晃動、振動現(xiàn)象的出現(xiàn)，從而減少瓷片磚坯拋削不平整及漏拋現(xiàn)象，提高其拋削效果；2、通過采用第二電機(jī)、絲桿和限位螺母的設(shè)計(jì)，可便于調(diào)節(jié)磨盤的進(jìn)刀量，使其適用于不同厚度的瓷片磚坯。
圖1為本實(shí)用新型的拋光機(jī)的打磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型的局部示意圖，其描述升降架與吊軸的連接；圖3為本實(shí)用新型的拋光機(jī)的打磨裝置的運(yùn)用示意圖；其中，11、升降橫桿；12、第二電機(jī)；13、絲桿；14、限位螺母；21、氣缸；22、第一電機(jī)；23、磨盤；24、吊軸；25、升降架；3、橫梁。
具體實(shí)施方式
下面，結(jié)合附圖以及具體實(shí)施方式
，對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述，以便于更清楚的理解本實(shí)用新型所要求保護(hù)的技術(shù)思路。如圖1、2所示，為本實(shí)用新型一種拋光機(jī)的打磨裝置，包括固定在拋光機(jī)橫梁3上的氣缸21、第一電機(jī)22、與第一電機(jī)22輸出軸聯(lián)接的磨盤23、與第一電機(jī)22固定連接的升降橫桿11 ;所述氣缸21的活塞桿與升降橫桿11固定連接。工作時，通過啟動氣缸21，可利用氣缸21的活塞桿帶動升降橫桿11向上、或者向下運(yùn)動，從而帶動磨盤23退刀或者進(jìn)刀。通過利用氣缸21帶動磨盤23進(jìn)刀，可起到緩沖避震、快速進(jìn)退刀的作用，在工作過程中能有效避免晃動、振動現(xiàn)象的出現(xiàn)，從而減少瓷片磚坯拋削不平整及漏拋現(xiàn)象，提高其拋削效果。而通過第一電機(jī)22，可便于帶動磨盤23自轉(zhuǎn)。為了提高其結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，該該拋光機(jī)的打磨裝置包括兩個氣缸21，所述兩個氣缸21的活塞桿分別連接在升降橫桿11的左右兩端。當(dāng)然，所述氣缸21的數(shù)量并不僅限于兩個，還可以依據(jù)實(shí)際需求設(shè)置多于兩個或少于兩個，但將氣缸21的數(shù)量限定于兩個，為本實(shí)用新型的最優(yōu)方案，其可便于提高結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，同時還有利于降低制作成本。優(yōu)選的，升降橫桿11上連接有吊軸24，該吊軸24的下端固定連接有升降架25，所述第一電機(jī)22機(jī)體固定在升降架25上。通過采用上述結(jié)構(gòu)，可便于安裝連接，從而降低制作成本。所述拋光機(jī)橫梁3上固定有支承架，該支承架上固定有第二電機(jī)12，第二電機(jī)12的輸出軸上連接有一絲桿13，所述支承架上設(shè)有可沿其高度方向移動的限位螺母14，該限位螺母14與絲桿13螺紋連接，所述升降橫桿11位于限位螺母14的上方，且升降橫桿11上設(shè)有供絲桿13穿設(shè)的穿孔，該穿孔在限位螺母14上表面的投影落在限位螺母14上表面邊緣所圍成的區(qū)域內(nèi)。所述支承架可一體成型設(shè)置為η形，當(dāng)然，所述支承架也可依據(jù)實(shí)際需求分體設(shè)置，如包括供限位螺母14安裝的第一安裝部，和供第二電機(jī)12安裝的第二安裝部。當(dāng)氣缸21帶動升降橫桿11向下運(yùn)動時，通過限位螺母14，可便于限制升降橫桿11的移動位置，從而限制磨盤23的進(jìn)刀量。而通過啟動第二電機(jī)12，可利用第二電機(jī)12帶動絲桿13轉(zhuǎn)動，從而調(diào)整限位螺母14的高度方向的位置，進(jìn)而調(diào)節(jié)磨盤23的進(jìn)刀量，使其適用于不同厚度的瓷片磚坯。實(shí)際應(yīng)用時，可如圖3所示，將打磨裝置安裝在橫梁3上。而拋光機(jī)上的打磨裝置的數(shù)量可依據(jù)實(shí)際需求，設(shè)置為一組、或者兩組、或者兩組以上。對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思，做出其它各種相應(yīng)的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種拋光機(jī)的打磨裝置，其特征在于:包括固定在拋光機(jī)橫梁上的氣缸、第一電機(jī)、與第一電機(jī)輸出軸聯(lián)接的磨盤、與第一電機(jī)固定連接的升降橫桿；所述氣缸的活塞桿與升降橫桿固定連接。
2.如權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的打磨裝置，其特征在于:該拋光機(jī)的打磨裝置包括兩個氣缸，所述兩個氣缸的活塞桿分別連接在升降橫桿的左右兩端。
3.如權(quán)利要求1或2所述的拋光機(jī)的打磨裝置，其特征在于:所述拋光機(jī)橫梁上固定有支承架，該支承架上固定有第二電機(jī)，第二電機(jī)的輸出軸上連接有一絲桿，所述支承架上設(shè)有可沿其高度方向移動的限位螺母，該限位螺母與絲桿螺紋連接；所述升降橫桿位于限位螺母的上方，且其上設(shè)有供絲桿穿設(shè)的穿孔；該穿孔在限位螺母上表面的投影落在限位螺母上表面邊緣所圍成的區(qū)域內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1或2所述的拋光機(jī)的打磨裝置，其特征在于:升降橫桿上連接有吊軸，該吊軸的下端固定連接有升降架，所述第一電機(jī)機(jī)體固定在升降架上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種拋光機(jī)的打磨裝置，包括固定在拋光機(jī)橫梁上的氣缸、第一電機(jī)、與第一電機(jī)輸出軸聯(lián)接的磨盤、與第一電機(jī)固定連接的升降橫桿；所述氣缸的活塞桿與升降橫桿固定連接。通過利用氣缸帶動磨盤進(jìn)刀，可起到緩沖避震、快速進(jìn)退刀的作用，在工作過程中能有效避免晃動、振動現(xiàn)象的出現(xiàn)，從而減少瓷片磚坯拋削不平整及漏拋現(xiàn)象，提高其拋削效果；通過采用第二電機(jī)、絲桿和限位螺母的設(shè)計(jì)，可便于調(diào)節(jié)磨盤的進(jìn)刀量，使其適用于不同厚度的瓷片磚坯。
文檔編號B24B47/20GK202910688SQ201220553300
公開日2013年5月1日 申請日期2012年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月25日
發(fā)明者黃惠廷 申請人:黃惠廷