專利名稱：哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種霧化裝置，特別涉及用于金屬制粉的氣流霧化噴嘴的哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置。
背景技術(shù)：
真空霧化制粉是在真空條件下熔煉金屬或金屬合金，在氣體保護(hù)的條件下，金屬液體經(jīng)過(guò)保溫坩堝、導(dǎo)流嘴流出、通過(guò)噴嘴由高壓保護(hù)氣體流將金屬液體霧化破碎成大量細(xì)小的液滴，細(xì)細(xì)的液滴在飛行中凝固成球形或是亞球形顆粒，由于液滴細(xì)小和熱交換條件好，液滴的冷凝速度一般可達(dá)到100 ΙΟΟΟΟΚ/s，比鑄錠的冷卻高幾個(gè)數(shù)量級(jí)。因此合金的成分均勻，組織細(xì)小，用它制成的合金材料無(wú)宏觀偏析，性能優(yōu)異。真空霧化制粉可以制備大多數(shù)不能采用在空氣中和水霧化方法制造的金屬及其合金粉末，其次，由于凝固快克服了偏析現(xiàn)象，可以制取許多特殊合金的球形或亞球形粉末，最后，采用合適的工藝參數(shù)，可以使粉末粒度達(dá)到一個(gè)額定要求的范圍。幾乎所有可被熔化的金屬都可用霧化法生產(chǎn)，尤其適宜生產(chǎn)合金粉末，因此，真空霧化制粉法生產(chǎn)效率高，并易于擴(kuò)大工業(yè)規(guī)模而受到極其廣泛的工業(yè)應(yīng)用。真空霧化制粉法是一個(gè)眾多參數(shù)共同作用的復(fù)雜過(guò)程，真空霧化粉末的粒度、形狀和結(jié)晶組織和霧化工藝參數(shù)如熔體流直徑、噴嘴結(jié)構(gòu)、噴射介質(zhì)的壓力、流速等緊密相關(guān)。特別是真空霧化的氣流霧化噴嘴結(jié)構(gòu)是最關(guān)鍵的技術(shù)問(wèn)題之一。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，該氣流霧化噴嘴裝置能使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧化均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率高，是十分理想的金屬霧化制粉裝置。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下的技術(shù)方案一種哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，該哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置用在一種噴嘴中，該噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線重合。最好，所述噴嘴環(huán)包括多個(gè)均勻排列設(shè)置的噴嘴孔。最好，所述腔體為對(duì)稱的環(huán)形腔體。最好，所述環(huán)形腔體關(guān)于所述中軸線對(duì)稱。。

[0010]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖。附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)名稱分別為1高壓氬氣或氮?dú)鈿庠矗?高壓氣體駐室；3噴射氣流；4金屬液柱；5哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置；6輸液管；7主體。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型的噴嘴包括主體7，設(shè)置在所述主體中心的垂直通孔，安裝在該垂直通孔內(nèi)的輸液管6，環(huán)繞所述垂直通孔由內(nèi)向外一次設(shè)置在所述主體內(nèi)的哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置5和高壓氣體駐室2，所述高壓氣體駐室2 —端通過(guò)通孔以及連接管路與外置的高壓氬氣或者氮?dú)馄鹪碔相連，另一端通過(guò)連氣道與所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置5連通。如圖1所示，所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置5包括環(huán)形腔，和在該環(huán)形腔底部設(shè)置的噴嘴環(huán)，該噴嘴環(huán)包括多個(gè)均布排列的噴嘴孔，可以看到所述噴嘴孔的軸線與輸液管6的軸線斜交，所述噴嘴孔的軸線與所述環(huán)形腔橫截面的中軸線重合。如圖1所示，該環(huán)形腔的橫截面為沿所述噴嘴孔的軸線延伸的啞鈴形狀。從而有利地實(shí)現(xiàn)了哈特曼氣流。該氣流可以使金屬溶液的霧化更加合理，霧化均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率高。
權(quán)利要求1.一種哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，該哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置用在一種噴嘴中，該噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線重合。
2.如權(quán)利要求1所述的哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，其特征在于，所述噴嘴環(huán)包括多個(gè)均勻排列設(shè)置的噴嘴孔。
3.如權(quán)利要求2所述的哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，其特征在于，所述腔體為對(duì)稱的環(huán)形腔體。
4.如權(quán)利要求3所述的哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，其特征在于，所述環(huán)形腔體關(guān)于所述中軸線對(duì)稱。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置，該哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置用在一種噴嘴中，該噴嘴包括主體，在該主體中心設(shè)置的垂直通孔，設(shè)置在所述垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞所述垂直通孔并且在該主體內(nèi)設(shè)置的高壓氣體駐室，所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置環(huán)繞所述垂直通孔并且設(shè)置在高壓氣體駐室下方，在高壓氣體駐室底面設(shè)有氣道，所述氣道連接所述哈特曼氣流實(shí)現(xiàn)裝置的腔體，在所述腔體底面設(shè)置有斜向下延伸的噴嘴環(huán)，所述噴嘴環(huán)的軸線與輸液管的軸線傾斜相交，所述噴嘴孔的軸線與所述腔體橫截面的中軸線重合。
文檔編號(hào)B22F9/08GK202894340SQ201220599960
公開(kāi)日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月13日
發(fā)明者米國(guó)發(fā), 歷長(zhǎng)云, 王有超, 劉寶忠, 王狂飛, 胡玉昆 申請(qǐng)人:河南理工大學(xué)