專利名稱：鉭粉鎂還原降氧裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及本實(shí)用新型涉及一種鉭粉鎂還原降氧裝置。
背景技術(shù)：
鉭金屬是一種稀貴金屬，它的一項(xiàng)重要用途是制作電解電容器。作為電容器用的鉭粉要求有很高的純度。生產(chǎn)電容器級鉭粉通常是在有稀釋劑鹽(如NaCl、KCl和KF等)存在下用金屬鈉(Na)還原氟鉭酸鉀(K2TaF7)得到的包含鉭粉、堿金屬和多元鹽的產(chǎn)物，將其水洗回收得到鉭粉，接著進(jìn)行酸洗水洗，水洗后的鉭粉要進(jìn)行真空熱處理，才能達(dá)到用于制作電解電容器的要求。然而，由于鉭金屬對氧有很大的親和力，經(jīng)過上述工序制得的鉭粉往往含有過高的氧，這對于制作電解電容器是很不利的，會造成電容器漏電流高，耐電壓性差，所以必須要進(jìn)行降氧處理。另外，在用鉭粉燒結(jié)成的電容器坯有的也要進(jìn)行降氧處理。鉭粉的降氧處理一般采用鎂還原降氧處理。用鎂還原鉭粉中的氧化鉭(Ta205+5Mg — 5Mg0+2Ta)吉布斯自由能的變化如表I所示:表權(quán)利要求1.鉭粉鎂還原降氧裝置，包括電加熱井式爐和至于該井式爐中的圓筒式反應(yīng)容器，所述的反應(yīng)容器主要包括有惰性氣體進(jìn)入管、氣體排出管、熱偶管以及裝有鉭粉的坩堝，該坩堝部位的反應(yīng)容器外設(shè)有加熱器，其特征在于:所述坩堝置于反應(yīng)容器下部，在鉭粉坩堝的上方設(shè)有集鎂器，集鎂器和鉭粉坩堝之間設(shè)有下隔熱屏，集鎂器的上方有上隔熱屏，在上隔熱屏部位的反應(yīng)容器外部設(shè)有冷卻裝置，所述惰性氣體進(jìn)入管伸入到反應(yīng)容器底部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉭粉鎂還原降氧裝置，其特征在于，所述集鎂器是由至少一個(gè)包括底盤和側(cè)壁的上開口的容器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉭粉鎂還原降氧裝置，其特征在于，所述集鎂器是用不銹鋼板制造的圓盤，所述集鎂器的直徑小于所述反應(yīng)容器內(nèi)徑約SlOcmcm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉭粉鎂還原降氧裝置，其特征在于，所述集鎂器下方的下隔熱屏是由一層或多層不銹鋼圓板組成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的鉭粉鎂還原降氧裝置，其特征在于在集鎂器外側(cè)和反應(yīng)容器內(nèi)壁之間至少有一個(gè)測溫裝置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種鉭粉鎂還原降氧裝置，包括電加熱井式爐和至于該井式爐中的圓筒式反應(yīng)容器，所述的反應(yīng)容器主要包括有惰性氣體進(jìn)入管、氣體排出管、熱偶管以及裝有鉭粉的坩堝，該坩堝部位的反應(yīng)容器外設(shè)有加熱器，所述坩堝置于反應(yīng)容器下部，在鉭粉坩堝的上方設(shè)有集鎂器，集鎂器和鉭粉坩堝之間設(shè)有下隔熱屏，集鎂器的上方有上隔熱，在上隔熱屏部位的反應(yīng)容器外部設(shè)有冷卻裝置，所述惰性氣體進(jìn)入管伸入到反應(yīng)容器底部。使用本實(shí)用新型的裝置進(jìn)行鉭粉鎂還原降氧，鉭粉損失少，鉭粉氧含量低，回收的金屬鎂可以再利用，減少對環(huán)境的污染。
文檔編號C22B34/24GK202954080SQ201220665129
公開日2013年5月29日 申請日期2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月5日
發(fā)明者朱德忠, 鄭浩宇, 楊進(jìn) 申請人:江門富祥電子材料有限公司