專利名稱：一種單嘴真空精煉裝置的制作方法
技術領域：
一種單嘴真空精煉裝置技術領域[0001]本實用新型技術涉及爐外精煉技術領域，具體是給出了一種新型單嘴真空精煉裝置。
背景技術：
[0002]近年來，隨著對市場對鋼鐵產品純凈度要求的提高及產品多樣化的需求，爐外精煉技術已經成為現代煉鋼技術中不可或缺的一個環(huán)節(jié)。真空提升脫氣法DH和真空循環(huán)脫氣法RH是應用較為廣泛的兩種爐外精煉技術。[0003]DH法依賴于壓力平衡的原理，真空室抽成真空狀態(tài)后，鋼液沿吸嘴上升進入到真空室脫氣，然后下降鋼包或者提升真空室，脫氣后的鋼液重新返回鋼包內。RH法在DH法的基礎上由單一浸入管發(fā)展為兩條浸入管，即一條上升管和一條下降管，通過在上升管下部吹氣實現鋼液的循環(huán)上升和下降，這樣大大簡化了 DH法中復雜的液壓升降機構。但其缺點為浸入管直徑小，循環(huán)流量低，精煉壓力大，且真空室內易粘結殘鋼和殘渣，這些都制約了爐外精煉技術的進一步發(fā)展。之后出現的單嘴精煉爐是在DH的基礎上，改為在鋼包底部偏心底吹氣體，實現鋼液在真空室和鋼包內的循環(huán)，但由于鋼包底吹造成的鋼液和渣的攪動，造成真空室耐火材料沖蝕和浸蝕現象嚴重，使用壽命始終是尚待解決的問題。[0004]本實用新型即是針對傳統(tǒng)單嘴真空精煉爐浸入管耐材使用壽命短及RH雙浸入管內徑小，循環(huán)流量低的缺點，取兩者之所長，使用帶有擋墻的直筒型單浸入管，同時將鋼包底吹氣改為在浸入管下部吹氣。如此既避免單嘴真空精煉爐嚴重的浸入管沖蝕現象，又擴大了浸入管內徑，提高精煉效率。實用新型內容[0005]本實用新型的目的是提供了一種新型單嘴真空精煉裝置，與傳統(tǒng)單嘴精煉爐相t匕，具有如下優(yōu)點:1、增加了浸入管的擋墻裝置，延長了鋼液在真空室的停留時間，提高脫氣效率。2、有效避免鋼液上升和下降過程中的返混和串流引起的混合不均，混勻時間過長以及減少流動死區(qū)。3、將吹氣口改在第一浸入管下部，側吹大大緩解底吹氣對浸入管耐材的沖蝕，延長耐材的使用壽命。[0006]本實用新型主要由真空室1、擋墻2、鋼包3及吹氣口 4組成，其中真空室下部設置有擋墻，擋墻高度H為真空室高度Htl的0.3^0.7，浸入管半徑R為真空室半徑Rtl的0.5^0.9。真空室下部插入鋼包中，吹氣口位于第一浸入管5的左下側，吹氣口 4距離浸入管底部的距離為擋墻高度的0.Γ0.5。鋼包3位于真空室I的下方。[0007]本實用新型中擋墻2將真空室I下部的浸入管分為第一浸入管5和第二浸入管6，相當于RH真空脫氣裝置中的上升管和下降管，通過位于第一浸入管5的吹氣口實現鋼液從鋼包3到真空室I的循環(huán) 。增加真空室I下部的擋墻2，延長了鋼液在真空室I的停留時間，增強脫氣效果，避免鋼液在上升和下降過程中的返混和串流，更大程度減小單嘴精煉爐的流動死區(qū)。[0008]本實用新型中位于第一浸入管5側面的吹氣口 4，由于是側吹，氣體不會直接沖蝕耐材，而是在流場的作用下沿著浸入管上升，極大的緩解了耐材的沖蝕嚴重現象，延長了裝置的使用壽命，節(jié)約了成本。


[0009]圖1為本實用新型實施例一的結構示意圖；[0010]圖2為圖1在A-A’處的斷面圖；[0011]圖3為圖1在B-B’處的斷面圖；[0012]圖4為本實用新型實施例二的結構示意圖；[0013]圖5為圖4在A-A’處的斷面圖；[0014]圖6為圖4在B-B’處的斷面圖；[0015]圖7為圖3的詳細圖。[0016]圖中I為真空室，2為擋墻,3為鋼包,4為吹氣口，5為第一浸入管,6為第二浸入管。
具體實施方式
[0017]圖1、2、3、4、5、6為本實用新型的兩個具體實施例。[0018]在這兩個實施例中，本實用新型的裝置主要由真空室1、擋墻2、鋼包3及吹氣口 4組成，擋墻2設置在真空室的下部將其分為第一浸入管5和第二的浸入管6，浸入管的橫截面呈半圓形(實施例1)或橢圓形(實施例2)。在精煉過程中，將兩個浸入管浸入到鋼液中一定深度，并在第一浸入管下部的吹氣口輸入驅動氣體。由于真空室內外壓差的存在和驅動氣體由于受熱膨脹以及壓降引起的等溫膨脹使得上升段內鋼液與氣體混合物的密度降低等原因，鋼液由第一浸入管進入到真空室1，之后鋼液由另一浸入管回到鋼包3中。在這種單嘴雙浸入管的作用下，鋼包內鋼液的流動將比傳統(tǒng)的單嘴單浸入管和傳統(tǒng)RH裝置相比，可以有效避免鋼液上升和下降過程中的返混引起的混合不均，混勻時間過長，減輕吹氣對浸入管耐材的沖蝕，從而延長裝置使用壽命，提高精煉效率。[0019]在實施例一中，如圖1、2、3所示，擋墻2設置在真空室的下部將其分為第一浸入管5和第二的浸入管6，兩個浸入管的橫截面面積相等，其形狀為半圓形。[0020]在實施例二中，如圖4、5、6所示，擋墻2設置在真空室的下部將其分為第一侵入管5和第二的浸入管6，兩個浸入管的橫截面面積之相等，其形狀為橢圓形。
權利要求1.一種單嘴真空精煉裝置，其特征在于:該裝置由真空室(I)、擋墻(2)、鋼包(3)和吹氣口(4)組成，擋墻(2)設置在真空室(I)的下部將單浸入管隔斷成第一浸入管(5)和第二浸入管(6)，吹氣口(4)位于第一浸入管(5)的下部，鋼包(3)位于真空室(I)的下方。
2.如權利要求1所述的真空精煉裝置，其特征在于:所述的第一浸入管(5)為上升管，第二浸入管(6)為下降管。
3.如權利要求1所述的真空精煉裝置，其特征在于:所述的擋墻(2)高度H為真空室(I)高度H。的0.3-0.7，浸入管半徑R為真空室(I)半徑Rtl的0.5-0.9。
4.如權利要求1所述的真空精煉裝置，其特征在于:吹氣口(4)位于第一浸入管(5)下部，距離浸入管底部的高度為擋墻高度的0.1-0.5。
專利摘要一種單嘴真空精煉裝置，屬于鋼鐵冶金爐外精煉技術領域。該裝置主要由真空室、擋墻、鋼包及吹氣口組成。擋墻設置在真空室的下部將單浸入管隔斷成第一浸入管和第二浸入管，吹氣口位于第一浸入管的下方，距底部的距離為擋墻高度的0.1~0.5；雙浸入管橫截面為半圓形、橢圓形或其他形狀；擋墻高度H約為真空室高度H0的0.3~0.7，浸入管半徑R為真空室半徑R0的0.5~1.0。本裝置能夠有效避免鋼液上升和下降過程中的返混引起的混合不均，縮短混勻時間以及最大限度減少鋼包內鋼液流動死區(qū)，延長鋼液在真空室的停留時間，從而提高精煉效率。
文檔編號C21C7/10GK202968622SQ20122071319
公開日2013年6月5日 申請日期2012年12月20日 優(yōu)先權日2012年12月20日
發(fā)明者張立峰, 李菲, 王升千 申請人:北京科技大學