專利名稱：一種鍍膜用陰極磁棒裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到一種磁控濺射鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及到一種磁控濺射鍍膜用陰極磁棒裝置，更涉及到一種防水、磁極均勻分布的磁控濺射鍍膜用陰極磁棒裝置。
背景技術(shù)：
在大面積磁控濺射鍍膜設(shè)備中，最重要的部件是陰極濺射靶，它是濺射鍍膜設(shè)備的核心部件。陰極濺射靶內(nèi)的磁棒裝置的磁場穩(wěn)定性、磁場強度、磁場的分布直接影響濺射工藝的穩(wěn)定性、膜層的特性、靶材的利用率、鍍膜效果的優(yōu)劣等。另外，冷卻磁棒裝置所用冷卻水的潔凈度，也直接影響陰極靶的使用壽命，因此提高磁棒裝置的設(shè)計水平尤為重要；濺射靶磁場的設(shè)計目的在于得到比較高的靶材利用率、較高的濺射速率和功率效率。目前市場上的磁棒裝置中的磁場排布是平行的，磁場分布不均，不適合圓形陰極濺射，影響靶材利用率，陰極磁棒裝置也沒有做防水處理，污染冷卻用水，長期使用會降低磁場強度。中國專利公開號101812667A的發(fā)明專利披露了一種磁控濺射鍍膜陰極裝置，在該專利文獻的說明書第5段公開了一種包括靶筒和位于所述靶筒內(nèi)的磁棒管材，靶筒包括內(nèi)筒和固定在所述靶材內(nèi)筒外表面的濺射靶材，磁棒管材內(nèi)部安裝有提供濺射用磁場的磁鐵并設(shè)有冷卻水通道。在說明書的第6段公開了磁鐵安裝在磁鐵座上，其中磁鐵座底面連接有多個可伸縮的連接桿，連接桿的一端與磁鐵座連接，另一端通過固定塊固定在磁棒管材上。在說明書的第8 13段公開了磁棒管材內(nèi)設(shè)有三個永久磁鐵，三個永久磁鐵傾斜或水平安裝，位于中間的永久磁鐵與兩邊的永久磁鐵極性相反安裝，永久磁鐵為釹鐵硼材料或釤鈷鐵材料，靶材內(nèi)筒和磁棒管材為不銹鋼材料。但在現(xiàn)有的技術(shù)文獻中，沒有公開磁鋼裝置的角度設(shè)置，磁鋼的角度設(shè)置是影響鍍膜效果的關(guān)鍵參數(shù)，更沒有公開磁鋼裝置的表面處理方法，磁鋼裝置的表面處理直接影響濺射工藝的穩(wěn)定性、膜層的特性、靶材的利用率、鍍膜效果的優(yōu)劣等。
發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術(shù)中磁棒裝置的磁場分布不均勻，靶材的利用率不高，不適合圓形極靶鍍膜工藝的技術(shù)缺陷，以及減少水污染，影響鍍膜磁棒裝置的使用壽命，本發(fā)明提供一種鍍膜用陰極磁棒裝置。為了實現(xiàn)上述的技術(shù)目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是提供一種鍍膜用陰極磁棒裝置，包括磁芯軸裝置、設(shè)置在磁芯軸裝置圓周上的磁鋼座裝置、設(shè)置在磁鋼座裝置上的磁鋼裝置，連接磁芯軸裝置和磁鋼座裝置的抱箍裝置，安裝在磁鋼座裝置兩側(cè)的托輥裝置，其中，所述磁鋼裝置包含中磁鋼裝置，側(cè)中磁鋼裝置，端磁鋼裝置，中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的排布夾角范圍可選0°、0°的任一角度，中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的排布夾角范圍可選0°、0°的任一角度。[0010]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的排布夾角為50°，中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的排布夾角為50°。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述磁鋼裝置上設(shè)置有磁鋼防護罩裝置，用于保護磁鋼裝置，其中，所述磁鋼防護罩裝置的材質(zhì)為不銹鋼。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述磁鋼座裝置與磁鋼裝置接觸的表面采用發(fā)
黑處理。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述磁鋼裝置的材質(zhì)為釤鈷鐵材料，所述磁鋼裝置表面采用鍍鎳處理。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述托輥裝置包括托輥軸和托輥套，所述托輥軸套接在托輥套里面。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述磁芯軸裝置的材質(zhì)為不銹鋼厚壁管。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述抱箍裝置的下部為扇形，其上部圓弧形，在圓弧形內(nèi)部設(shè)置有磁芯軸裝置，在圓弧形兩側(cè)的頂端連接有磁鋼座裝置，所述抱箍裝置的材質(zhì)為不銹鋼。本發(fā)明的另一種優(yōu)先實施方案是，所述中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的磁極相反排布，所述中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的磁極相反排布。本發(fā)明的技術(shù)效果是:由于中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的優(yōu)選排布夾角為50°，中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的優(yōu)先排布夾角為50°，使得磁棒裝置內(nèi)部的磁場分布均勻，提高了鍍膜陰極靶的濺射速率，沉積速率和靶材利用率。由于磁鋼裝置設(shè)置有磁鋼防護罩裝置，以及磁鋼裝置與磁鋼座裝置接觸的表面采用發(fā)黑處理，磁鋼裝置表面鍍鎳處理，使得磁棒不容易被腐蝕，并具有防水的功效，從而提高了磁棒裝置的使用壽命。

圖1-本發(fā)明的橫截面剖視圖。1-磁鋼座裝置；2_磁鋼防護罩裝置；3_磁鋼裝置；30_中磁鋼裝置；3(T-側(cè)中磁鋼裝置；3(T、端磁鋼裝置；4_托輥裝置；40_托輥軸；4(T-托輥套；5_抱箍裝置；6_磁芯軸裝置；10_磁棒裝置。
具體實施方式
為了更清楚的說明本發(fā)明的技術(shù)方案，
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步的說明。如圖所示,本發(fā)明包含有磁鋼座裝置I,設(shè)置在磁鋼座裝置I上的磁鋼裝置3,磁鋼裝置包括中磁鋼裝置30、側(cè)磁鋼裝置3(T、端側(cè)鋼裝置3(T r，中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的夾角范圍可選0°、0°的任一夾角值，其最佳的夾角為50°，中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的夾角范圍可選0°、0°的任一夾角值，其最佳的夾角為50°。中磁鋼裝置30與側(cè)中磁鋼裝置3(T的磁極相反排布，所述中磁鋼裝置30與端磁鋼裝置30"的磁極相反排布。上述的設(shè)置方法使得磁棒裝置內(nèi)部的磁場分布均勻，從而提高了鍍膜陰極靶的濺射速率，沉積速率和靶材利用率。[0024]在磁鋼裝置3的外表面還采用鍍鎳處理，在磁鋼裝置3的外表面上設(shè)有磁鋼保護罩裝置2，磁鋼裝置3與磁鋼座裝置I的接觸表面采用發(fā)黑處理，磁鋼座裝置I采用碳鋼材料，磁鋼防護罩裝置2采用不銹鋼，目的是防止磁鋼座裝置2，以及磁鋼裝置3長期在水里工作被腐蝕，生銹，使得降低了磁場強度。磁鋼裝置3的材質(zhì)為釤鈷鐵。磁鋼座裝置I設(shè)置在磁芯軸裝置6的圓周上表面上，磁芯軸裝置6是通過不銹鋼
厚壁管加工而成。磁芯軸裝置6與磁鋼座裝置I通過抱箍裝置5連接，所述抱箍裝置5的下部為扇形，其上部圓弧形，在圓弧形內(nèi)部設(shè)置有磁芯軸裝置6，在圓弧形兩側(cè)的頂端連接有磁鋼座裝置1，所述抱箍裝置的材質(zhì)為不銹鋼。所述抱箍裝置5還取到配重作用。托輥裝置4包含托輥軸40和托輥套4(T，設(shè)置在磁鋼座裝置I的兩側(cè)，并安裝在磁鋼座裝置I上，防止磁棒裝置與靶材內(nèi)壁接觸，支撐整個裝置。以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的實施方式，其描述較為詳細，只要本領(lǐng)域的技術(shù)人員在查看到本發(fā)明的實施例后，不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，所做的改變都屬于本發(fā)明的保護范圍。但本文所述的實施例不能理解為對本發(fā)明的保護范圍限制。
權(quán)利要求1.一種鍍膜用陰極磁棒裝置，包括磁芯軸裝置(6)、設(shè)置在磁芯軸裝置圓周上的磁鋼座裝置(I)、設(shè)置在磁鋼座裝置(I)上的磁鋼裝置(3)，連接磁芯軸裝置(6)和磁鋼座裝置(I)的抱箍裝置(5)，設(shè)置在磁鋼座裝置(I)兩側(cè)的托輥裝置(4)，其特征在于，所述磁鋼裝置⑶包含中磁鋼裝置(30)，側(cè)中磁鋼(3(0，端磁鋼裝置(30”)，所述中磁鋼裝置(30)與側(cè)中磁鋼裝置(3(T)排布夾角范圍可選0°、0°之間的任一角度，所述中磁鋼裝置(30)與端磁鋼裝置(30")排布夾角范圍可選0°、0°之間的任一角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述中磁鋼裝置(30)與側(cè)中磁鋼裝置(3(T )優(yōu)先的排布夾角為50°，所述中磁鋼裝置(30)與端磁鋼裝置(3(T ')優(yōu)先排布夾角為50°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述磁鋼裝置(3)上設(shè)置有磁鋼防護罩裝置(2)，用于保護磁鋼裝置(3)，其中，所述磁鋼防護罩裝置(2)的材質(zhì)為不銹鋼。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述磁鋼座裝置(I)與磁鋼裝置(3)接觸的表面采用發(fā)黑處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述磁鋼裝置(3)的材質(zhì)為釤鈷鐵。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述磁鋼裝置(3)的外表面進行鍍鎳處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述托輥裝置(4)包括托輥軸(40)和托輥套(4(T )，所述托輥軸(40)套接在托輥套(4(T )里面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述磁芯軸裝置(6)為不銹鋼厚壁管。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述抱箍裝置(5)下部為扇形，材質(zhì)為不銹鋼。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁棒裝置，其特征在于，所述中磁鋼裝置(30)與側(cè)中磁鋼裝置(3(T)的磁極相反排布，所述中磁鋼裝置(30)與端磁鋼裝置(30")的磁極相反排布。
專利摘要本實用新型涉及到一種磁控鍍膜裝置，尤其涉及到一種磁控濺射鍍膜陰極磁棒裝置，更涉及到一種防水、磁極均勻分布的磁控濺射鍍膜陰極磁棒裝置，本實用新型采用的技術(shù)方案是包括磁芯軸裝置、以及設(shè)置在磁芯軸裝置圓周上的磁鋼座裝置、設(shè)置在磁鋼座裝置上的磁鋼裝置，連接磁芯軸裝置和磁鋼座裝置的抱箍裝置，以及設(shè)置在磁鋼座裝置兩側(cè)的托輥裝置，其中，所述磁鋼裝置包含中磁鋼裝置，側(cè)中磁鋼裝置，端磁鋼裝置，所述中磁鋼裝置與側(cè)中磁鋼裝置的排布夾角最佳為50°，所述中磁鋼裝置與端磁鋼裝置的排布夾角最佳為50°，本實用新型提高了鍍膜陰極靶的濺射速率，沉積速率和靶材利用率。
文檔編號C23C14/35GK203021644SQ20122074512
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月31日
發(fā)明者張俊峰 申請人:上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司