用于拋光鐘表外部元件的拋光系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于拋光鐘表外部元件（3）的凹表面的拋光系統(tǒng)（21），該拋光系統(tǒng)（21）包括固定裝置（25）和磨削裝置（27），該固定裝置（25）包括承載所述元件的支承件（31），該磨削裝置（27）包括研磨機(jī)構(gòu)（33），該研磨機(jī)構(gòu)（33）圍繞第一軸線（A3）可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并用于沿第一曲率（C1）拋光所述元件。根據(jù)本發(fā)明，所述固定裝置（25）還包括用于移動(dòng)所述支承件（31）的移動(dòng)機(jī)構(gòu)（35），以便所述支承件（31）進(jìn)行圍繞第二軸線（A4）的往復(fù)運(yùn)動(dòng)（B），并且所述研磨機(jī)構(gòu)（33）的接觸表面是曲線形的，以便除了沿所述第一曲率之外還沿第二曲率（C2）拋光所述元件。本發(fā)明涉及鐘表表鏡領(lǐng)域。
【專利說(shuō)明】用于拋光鐘表外部元件的拋光系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于拋光鐘表外部元件且尤其是這種類型的元件的凹表面的拋光系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]形成具有高耐磨性的藍(lán)寶石表鏡是已知的。這種表鏡通常通過(guò)使轉(zhuǎn)動(dòng)的砂輪與承載多個(gè)表鏡的鼓形件的表面接觸來(lái)制造。產(chǎn)生的磨削操作使得能夠形成圓柱形或球形表鏡。然而，形成非對(duì)稱表鏡以裝配到例如相對(duì)于表殼偏心的鐘表顯示裝置上變得必要，這通過(guò)使用目前的一系列制造技術(shù)是不可能的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是，通過(guò)提供一種逐件拋光系統(tǒng)來(lái)克服全部或部分上述缺陷，該逐件拋光系統(tǒng)不會(huì)損壞坯件并允許以非常低的廢品率改進(jìn)復(fù)雜凹表面的拋光。
[0004]因此，本發(fā)明涉及一種用于拋光鐘表外部元件的凹表面的拋光系統(tǒng)，該拋光系統(tǒng)包括固定裝置和磨削裝置，該固定裝置包括承載所述元件的支承件，該磨削裝置包括研磨機(jī)構(gòu)，該研磨機(jī)構(gòu)圍繞第一軸線可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并用于沿第一曲率(courbure)拋光所述元件，其特征在于，所述固定裝置還包括用于移動(dòng)所述支承件的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，以便所述支承件提供圍繞第二軸線的往復(fù)運(yùn)動(dòng)，并且所述研磨機(jī)構(gòu)的接觸表面是曲線形的，以便除了沿所述第一曲率之外還沿第二曲率拋光所述元件。
[0005]因此，顯然，拋光是經(jīng)由元件接觸抵靠在研磨機(jī)構(gòu)上逐件進(jìn)行的。因此，支承件的往復(fù)運(yùn)動(dòng)迫使元件跟隨研磨機(jī)構(gòu)的曲線形接觸表面。因此，拋光是通過(guò)元件逐個(gè)抵靠在圍繞固定軸線可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝的研磨機(jī)構(gòu)上運(yùn)動(dòng)實(shí)施的，這通過(guò)在拋光之前避免損壞粗糙的凹表面提供了非常低的廢品率。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的其它有利特征:
[0007]-所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)由驅(qū)動(dòng)曲柄軸的轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器形成，該曲柄軸偏心地連接到與所述第二軸線一體的連桿上，以便產(chǎn)生所述往復(fù)運(yùn)動(dòng)；
[0008]-所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝在一組可選擇性移動(dòng)的支架上，以便迫使待拋光元件靠在所述研磨機(jī)構(gòu)施加力；
[0009]-所述第一軸線和所述第二軸線是基本上垂直的；
[0010]-所述研磨機(jī)構(gòu)由砂輪形成；
[0011]-所述元件由結(jié)晶氧化鋁形成。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]從下面參照附圖以非限制性方式給出的描述中，可以更清楚地發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)，其中:
[0013]-圖1是根據(jù)本發(fā)明的坯件加工系統(tǒng)的視圖；[0014]-圖2是根據(jù)本發(fā)明的拋光系統(tǒng)的示意圖；
[0015]-圖3和圖4是坯件在兩個(gè)不同的制造階段的視圖；
[0016]-圖5是根據(jù)本發(fā)明的固定裝置的移動(dòng)機(jī)構(gòu)的示意圖；
[0017]-圖6至圖8是固定裝置的移動(dòng)機(jī)構(gòu)在各運(yùn)動(dòng)階段的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]本發(fā)明涉及一種鐘表外部元件，例如由結(jié)晶氧化鋁基材料一例如藍(lán)寶石、剛玉或紅寶石——制成的表鏡、表殼或表盤。本發(fā)明涉及用于生產(chǎn)坯件并然后對(duì)復(fù)雜形狀的元件進(jìn)行拋光的新型制造系統(tǒng)。當(dāng)然，雖然本發(fā)明是對(duì)鐘表學(xué)領(lǐng)域研發(fā)的，但是并不限于此。也可以設(shè)想其它應(yīng)用，例如光學(xué)器件、餐具或電子器件。
[0019]如圖1所示，已研發(fā)出制造系統(tǒng)1，以便生產(chǎn)包括曲率Cp C2是凹的表面的外部元件3。制造系統(tǒng)I包括固定裝置5和加工裝置7。
[0020]固定裝置5包括鼓形件11，該鼓形件11圍繞第一軸線A1可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并承載至少一個(gè)將來(lái)元件3的坯件3'。優(yōu)選地，如圖1所示，鼓形件11是環(huán)，該環(huán)包括帶切面的內(nèi)壁，即，設(shè)置有連續(xù)的平面Px。如圖1所示，每個(gè)連續(xù)的平面Px均接納坯件3'，該坯件3'可以例如通過(guò)粘結(jié)固定。
[0021]加工裝置7包括研磨機(jī)構(gòu)13，該研磨機(jī)構(gòu)13圍繞第二軸線A2可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并且用于加工每個(gè)坯件3'。優(yōu)選地，研磨機(jī)構(gòu)13在環(huán)狀鼓形件11的中空部中運(yùn)動(dòng)。在圖1中示出的研磨機(jī)構(gòu)13由傳統(tǒng)的砂輪形成，即，其接觸區(qū)域不具有任何特定的形狀。當(dāng)然，研磨機(jī)構(gòu)13可以是不同的，并例如采用曲線形的或圓錐形的襯套(sabot)的形式。
[0022]有利地，根據(jù)本發(fā)明，加工裝置7包括第二軸線A2的移動(dòng)機(jī)構(gòu)15，以便所述加工裝置圍繞曲線形準(zhǔn)線可動(dòng)地安裝，`以在每個(gè)坯件3'中選擇性地形成第二曲率C2。因此，顯然，制造系統(tǒng)I可形成第一和第二凹曲率Q、C2。
[0023]根據(jù)本發(fā)明，移動(dòng)機(jī)構(gòu)15可以以非限制的方式由抵靠著與第二曲率C2相對(duì)應(yīng)的固定凸輪的輪廓往復(fù)運(yùn)動(dòng)的致動(dòng)器形成，或者例如由被編程以沿所述第二曲率運(yùn)動(dòng)的自動(dòng)裝置形成。
[0024]因此,垂直于軸線A1的第一曲率C1由在軸線AJP位于研磨機(jī)構(gòu)13和每個(gè)坯件3'之間的接觸區(qū)域之間延伸的半徑產(chǎn)生。由于鼓形件11圍繞軸線仏轉(zhuǎn)動(dòng)，所以每個(gè)坯件3'沿形成第一凹曲率C1的單個(gè)半徑被橫向挖出凹陷(creus6e)。
[0025]此外，第二曲率C2通過(guò)選擇性地移動(dòng)第二軸線A2直接獲得。因此，當(dāng)?shù)谝磺蔆1正在產(chǎn)生時(shí)，在研磨機(jī)構(gòu)13和每個(gè)坯件3'之間的接觸區(qū)域相對(duì)于環(huán)狀鼓形件11的厚度逐漸移動(dòng)。因此，每個(gè)坯件3'沿形成第二凹曲率C2的曲線形準(zhǔn)線被縱向挖出凹陷。
[0026]因此，非常顯然，移動(dòng)機(jī)構(gòu)15的曲線形準(zhǔn)線可以是或可以不是對(duì)稱的，以便在一個(gè)或多個(gè)半徑上形成第二曲率C2。通過(guò)示例，可以從在圖3中示出的包括上表面12和下表面14的坯件3"開(kāi)始。在通過(guò)制造系統(tǒng)I進(jìn)行修飾之后，所產(chǎn)生的坯件3'從而可包括具有包括曲率C1的橫向凹表面和包括曲率C2的縱向凹表面的這些面12、14中的其中一個(gè)。
[0027]最后，優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明，第一軸線A1和第二軸線A2是垂直的，以便加工線相交。有利地，該特征有利于外部元件3的后續(xù)拋光。
[0028]已嘗試?yán)门c制造系統(tǒng)I的系統(tǒng)類似的工具一即，主要通過(guò)更換研磨機(jī)構(gòu)的類型一拋光像由曲率C1和C2形成的表面一樣的凹表面。然而，這種嘗試不令人滿意，因?yàn)檫@種類型的拋光導(dǎo)致曲率Cp C2變形，尤其是在待拋光坯件3'的邊緣上，并因此導(dǎo)致廢品率太高。
[0029]因此，為如圖4所示的類型的元件3，—S卩，包括曲率Cp C2是凹的表面的元件——研發(fā)了制造系統(tǒng)21。如圖2所示，制造系統(tǒng)21包括固定裝置25和磨削裝置27。
[0030]磨削裝置27包括研磨機(jī)構(gòu)33，該研磨機(jī)構(gòu)33圍繞軸線A3可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并設(shè)計(jì)成沿第一曲率C1拋光每個(gè)元件3'。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明，研磨機(jī)構(gòu)33的接觸表面包括用于除了沿所述第一曲率C1之外還沿第二曲率C2拋光元件3'的曲線形表面。在圖2中示出的研磨機(jī)構(gòu)33優(yōu)選由盤形成，該盤的磨削表面包括例如由金屬制成的凸表面，該凸表面定期地涂覆有拋光液體。
[0031]固定裝置25包括承載待拋光元件3'的支承件31。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明，固定裝置25還包括支承件31的移動(dòng)機(jī)構(gòu)35，以提供圍繞軸線A4的往復(fù)運(yùn)動(dòng)。應(yīng)當(dāng)指出，在圖2中，軸線A4相對(duì)于研磨機(jī)構(gòu)33的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線A3是基本上垂直的。
[0032]因此，移動(dòng)機(jī)構(gòu)35使得元件3的坯件3'能夠被按壓并移動(dòng)，以便迫使研磨機(jī)構(gòu)33靠在每個(gè)坯件3'上摩擦，以便選擇性地沿第二曲率C2拋光所述元件。因此，顯然，拋光系統(tǒng)21可以拋光第一和第二凹曲率Cp C2。
[0033]根據(jù)本發(fā)明，移動(dòng)機(jī)構(gòu)35使得元件3的坯件3'能夠被按壓并相對(duì)于研磨機(jī)構(gòu)33移動(dòng)。參考圖5至圖8將能更好地理解移動(dòng)機(jī)構(gòu)35。
[0034]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明，移動(dòng)機(jī)構(gòu)35由轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器32形成，該轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器32驅(qū)動(dòng)基本上平圓形的曲柄軸34，該曲柄軸34偏心地連接到與軸線A4成一體的連桿36上，以便形成所希望的往復(fù)運(yùn)動(dòng)B。
[0035]在圖5至圖8示出的示例中的連桿36包括兩個(gè)軸(arbres)37和38。因此，軸37將相對(duì)于致動(dòng)器32的軸線偏心的曲柄軸34的短柱39連接到軸38上。圍繞軸線A4樞轉(zhuǎn)地安裝的軸38將軸37和支承件31連接。在圖6至圖8中示出運(yùn)動(dòng)B的圖解。
[0036]圖6示出移動(dòng)機(jī)構(gòu)35在運(yùn)動(dòng)B的其中一個(gè)極限位置處。在該第一極限位置，連桿36的兩個(gè)軸37、38相對(duì)于彼此形成銳角。因此，顯然，當(dāng)曲柄軸34提供往后轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，如圖6所示，這導(dǎo)致臂38以及附帶地支承件31相對(duì)于軸線A4進(jìn)行三角轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0037]圖7示出移動(dòng)機(jī)構(gòu)35在運(yùn)動(dòng)B的基本上中央位置處。在該位置，連桿36的兩個(gè)軸37、38相對(duì)于彼此形成基本上直角。因此，顯然，如果曲柄軸34繼續(xù)其向后轉(zhuǎn)動(dòng)，如圖7所示，這再次導(dǎo)致臂38以及附帶地支承件31相對(duì)于軸線A4進(jìn)行三角轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0038]圖8示出移動(dòng)機(jī)構(gòu)35在運(yùn)動(dòng)B的第二極限位置處。在該第二極限位置，連桿36的兩個(gè)軸37、38相對(duì)于彼此形成鈍角。因此，顯然，當(dāng)曲柄軸34提供向后轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，如圖8所示，這導(dǎo)致臂38以及附帶地支承件31相對(duì)于軸線A4往后轉(zhuǎn)動(dòng)，直到穿過(guò)同一基本上中央位置返回到第一極限位置。
[0039]因此，致動(dòng)器32的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)由曲柄軸34-連桿36組件轉(zhuǎn)換成支承件31的往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
[0040]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明，移動(dòng)機(jī)構(gòu)35也安裝在一組41可選擇性縱向C、橫向D和豎向E移動(dòng)的支架。這不但使得支承件31能夠相對(duì)于研磨機(jī)構(gòu)33準(zhǔn)確地定位，而且還提供了所希望的按壓動(dòng)作。實(shí)際上，為了經(jīng)由支承件31迫使待拋光元件靠在研磨機(jī)構(gòu)33上施加力，縱向支架被控制而進(jìn)行大于在待拋光元件3的坯件3'和研磨機(jī)構(gòu)33之間的空間的運(yùn)動(dòng)C。
[0041]因此，顯然，通過(guò)將坯件Y按壓靠在研磨機(jī)構(gòu)33上來(lái)逐件實(shí)施拋光，支承件31的往復(fù)運(yùn)動(dòng)迫使坯件3'跟隨研磨機(jī)構(gòu)33的曲線形接觸表面。因此，通過(guò)逐件靠在圍繞固定軸線A3轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝的研磨機(jī)構(gòu)33上移動(dòng)坯件3'來(lái)實(shí)施拋光，這提供了非常低的廢品率。
[0042]因此，通過(guò)拋光系統(tǒng)21對(duì)坯件3'進(jìn)行修飾之后獲得的元件3因此包括具有被極好地拋光的包括曲率C1的橫向凹表面和包括曲率C2的縱向凹表面的上述面12、14中的其中一個(gè)。元件3還可以進(jìn)行最終的化學(xué)表層拋光步驟，以進(jìn)一步改善它們的外觀。
[0043]當(dāng)然，本發(fā)明并不限于示出的示例，本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員可以進(jìn)行各種變型和改變。尤其是，研磨機(jī)構(gòu)33可以是不同的，并且例如采用曲線形或圓錐形的襯套。
[0044]還應(yīng)當(dāng)理解，移動(dòng)機(jī)構(gòu)35可以具有不同的性質(zhì)，以獲得相同類型的按壓動(dòng)作和往復(fù)運(yùn)動(dòng)B。
【權(quán)利要求】
1.一種用于拋光鐘表外部元件(3)的凹表面的系統(tǒng)(21)，該系統(tǒng)(21)包括固定裝置(25)和磨削裝置(27)，該固定裝置(25)包括承載所述元件的支承件(31)，該磨削裝置(27)包括研磨機(jī)構(gòu)(33)，該研磨機(jī)構(gòu)(33)圍繞第一軸線(A3)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝并用于沿第一曲率(C1)拋光所述元件，其特征在于，所述固定裝置(25)還包括用于移動(dòng)所述支承件(31)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)(35)，以便所述支承件(31)進(jìn)行圍繞第二軸線(A4)的往復(fù)運(yùn)動(dòng)(B)，并且所述研磨機(jī)構(gòu)(33)的接觸表面是曲線形的，以便除了沿所述第一曲率之外還沿第二曲率(C2)拋光所述元件。
2.根據(jù)前述權(quán)利要求所述的系統(tǒng)(21)，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)(35)由驅(qū)動(dòng)曲柄軸(34)的轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器(32)形成，該曲柄軸(34)偏心地連接到與所述第二軸線一體的連桿(36)上，以便產(chǎn)生所述往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)(21)，其特征在于，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)(35)安裝在一組(41)可選擇性移動(dòng)的支架(C，D，E)上，以便迫使待拋光元件(3)靠在所述研磨機(jī)構(gòu)施加力(C)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(21)，其特征在于，所述第一軸線(A3)和所述第二軸線(A4)是基本上垂直的。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(21)，其特征在于，所述研磨機(jī)構(gòu)(33)由砂輪形成。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(21)，其特征在于，所述元件(3)由結(jié)晶氧化鋁形成。
【文檔編號(hào)】B24B29/00GK103442847SQ201280013601
【公開(kāi)日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2012年2月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年3月16日
【發(fā)明者】J-P·塔瑟蒂, G·德里耶, P·杜蒙特 申請(qǐng)人:柯馬杜股份有限公司