在透明部件中的以及與其相關(guān)的改進(jìn)的制作方法
【專利摘要】一種透明部件，包括具有一個(gè)界面表面的一個(gè)基片(1)，該基片帶有沉積在其界面表面上的導(dǎo)電銅的圖案(2)，其中該銅具有一個(gè)硫化銅表面涂層(3)。發(fā)現(xiàn)的是，帶有適當(dāng)?shù)乇〉牧蚧~涂覆層的該銅與未涂覆的銅相比已經(jīng)降低了可見(jiàn)度，這樣使得該金屬圖案對(duì)觀察者來(lái)說(shuō)是更少分散注意力的。發(fā)現(xiàn)該部件作為一個(gè)觸敏式顯示器的部分的應(yīng)用，其中該基片覆蓋或形成該顯示器的部分，該顯示器上的圖像通過(guò)該透明組件是對(duì)用戶可見(jiàn)的。
【專利說(shuō)明】在透明部件中的以及與其相關(guān)的改進(jìn)
發(fā)明領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及透明部件而且關(guān)注一種導(dǎo)電性透明部件，例如一種透明的觸敏部件，以及制作這種部件的一種方法。在本說(shuō)明書(shū)中，提及透明的意味著能夠透射至少部分可見(jiàn)光譜。
[0002]發(fā)明背景
[0003]觸敏部件如觸摸屏是光電子顯示器的日益普通的特征，例如在如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話、等物品中。這樣的顯示器在該顯示器的前表面上要求一個(gè)電極，為了不阻斷來(lái)自該顯示器的光透射，并且使該顯示器能夠執(zhí)行它的預(yù)期功能，該電極必需是實(shí)質(zhì)上透明的。一種普通途徑是使用一種透明導(dǎo)體，如銦錫氧化物(ITO)，作為這個(gè)電極。ITO遭受多個(gè)缺點(diǎn)。它是脆性的。由于銦的稀缺性它是相對(duì)貴的。它具有高電阻率(典型的層具有在每平方100-1000歐姆范圍內(nèi)的薄片電阻率)。該高電阻率意味著要求額外的加工步驟以制作對(duì)該柵極的連接。它難以蝕刻，這使得進(jìn)一步加工昂貴。
[0004]一種替代途徑是使用精細(xì)金屬線、金屬絲、或軌道的一種陣列或柵格，形成沉積在該顯示器的前表面上的一種導(dǎo)電性網(wǎng)微型圖案作為前電極。該金屬柵極可以用非常細(xì)的金屬絲(例如寬度小于10微米)，使用標(biāo)準(zhǔn)平版印刷處理來(lái)制作。只要在該柵極的精細(xì)金屬絲之間留有足夠大的間隙，該金屬絲非常少地阻斷來(lái)自該顯示器的光，并且該金屬絲對(duì)眼睛來(lái)說(shuō)不容易看到。
[0005]一種金屬柵極是可延展的，允許使用柔性基片。薄銅層典型地具有在每平方IOOmOhms范圍內(nèi)的薄片電阻率。該低電阻率意味著，對(duì)該柵極的主體金屬連接可以使用如該精細(xì)網(wǎng)的同一層制作，這減少加工步驟的數(shù)目(因此以及成本)。
[0006]使用金屬絲的一個(gè)缺點(diǎn)是，該金屬的反射性質(zhì)可能使得該網(wǎng)對(duì)用戶高度可見(jiàn)，而這是不被希望的。
[0007]3M公司的W02009 / 108758關(guān)注帶有這種傳導(dǎo)性微型圖案的觸摸屏傳感器，并且披露了減少金屬質(zhì)網(wǎng)的可見(jiàn)度的多個(gè)方法。
[0008]本發(fā)明關(guān)注一種替代途徑以減少一種銅網(wǎng)的可見(jiàn)度。
[0009]在對(duì)銅和銅合金的黑化處理上有大量現(xiàn)有技術(shù)。歷史上地，黃銅光學(xué)裝置(如望遠(yuǎn)鏡)通過(guò)使用啞光黑涂料、或者通過(guò)氧化處理以生產(chǎn)厚的不透明層而被黑化以減小內(nèi)部反射。近來(lái)，等離子體顯示板(PDPs)的制造已經(jīng)要求使用精細(xì)金屬柵極以減小電磁輻射。這些被黑化以減小對(duì)用戶的可見(jiàn)度。
[0010]US2, 460, 896披露了使用亞氯酸鈉和氫氧化鈉的一種混合物來(lái)黑化銅基光學(xué)部件的一種方法。該說(shuō)明書(shū)提到“迄今為止，已經(jīng)通過(guò)所謂的‘氧化加工’來(lái)黑化銅和銅合金表面，在其中該表面被清潔并且通過(guò)將該表面浸潰到硫化鈉、或硫化銨、或其他水溶性硫化物的溶液中以形成一種硫化銅薄膜。這在該表面上生產(chǎn)出棕色或黑色涂層?！薄?br> [0011]JP2005139546披露了，使用一種硫酸鈷電解液以在合適于PDP的銅箔及銅網(wǎng)上形成一種有回彈力的黑色表層。
[0012]其他近期的實(shí)例，例如JP2010010179、JP2009231426，使用一種黑色鎳-錫氧化物的電解沉積以實(shí)現(xiàn)同樣的結(jié)果。
[0013]JP2009218368使用來(lái)自氫氧化鈉、或氫氧化鉀溶液的氧化銅的電解沉積，以沉積厚度為0.6微米至3微米一個(gè)氧化銅層。這種表面處理特別被施用到印刷電路板。
[0014]EP0963416披露了一種透明構(gòu)件供用作一種對(duì)抗電磁波的屏蔽層，該透明構(gòu)件帶有一個(gè)具有棕色到黑色表面層(例如硫酸銅的)的銅層。該表面層的厚度沒(méi)有被披露并且該厚度的調(diào)整和控制問(wèn)題沒(méi)有被論述。
[0015]GB1012224披露了一種透明的導(dǎo)電性薄膜，其中250埃厚的硫化鎘層被轉(zhuǎn)化成硫化銅。
[0016]GB986697披露了透明的導(dǎo)電性硫化銅薄膜的制備，通過(guò)使銅薄膜和一種含硫氣氛接觸。
[0017]發(fā)明概述
[0018]在一個(gè)方面中，本發(fā)明提供了一種透明部件，該透明部件包括:具有一個(gè)界面表面的一個(gè)基片，沉積在該基片的界面表面上的導(dǎo)電性銅的圖案，其中該銅具有一個(gè)硫化銅表面涂層。
[0019]該術(shù)語(yǔ)“硫化銅”被用在這個(gè)說(shuō)明書(shū)中以指任何銅和硫的化合物，不限制于任何特定比率，并且包含非化學(xué)計(jì)量化合物。硫化銅化合物的實(shí)例包含但不限于Cu2S、CuS、以及CuS2。該術(shù)語(yǔ)“硫化銅”還覆蓋兩種或更多種這樣的化合物的混合物。
[0020]發(fā)現(xiàn)的是，帶有適當(dāng)?shù)乇〉牧蚧~涂覆層的銅與未涂覆的銅相比已經(jīng)減小了可見(jiàn)度，這樣使得該金屬圖案對(duì)觀察者來(lái)說(shuō)更少分散注意力。當(dāng)該硫化銅層是在可見(jiàn)光或更低的波長(zhǎng)量級(jí)時(shí)(典型的是低于約 750nm)，該硫化銅層的光學(xué)外觀被薄膜干涉效應(yīng)而不是染色作用支配，即，顯著部分的入射光沒(méi)有被該材料吸收。
[0021]尤其是，由于來(lái)自該硫化銅涂層的上和下表面的反射的干涉效應(yīng)使得該銅顯得更暗，具有深藍(lán)顏色，并且因此要更少可見(jiàn)。
[0022]一個(gè)金屬質(zhì)銅薄膜將吸收落在其上的藍(lán)色光，而反射在更長(zhǎng)波長(zhǎng)的光(因此有純銅的淡紅色外觀)。如果該硫化物表面層足夠薄(小于可見(jiàn)光波長(zhǎng)并且優(yōu)選約紅光波長(zhǎng)的四分之一)，那么由于來(lái)自該上和下表面界面的反射落在該表面的紅光將相消干涉。因此該薄膜將顯得變暗到深藍(lán)顏色并且更少可見(jiàn)。如果該硫化物層比該臨界厚度更厚，則該紅光將停止相消干涉并且然后恢復(fù)該薄膜的銅外觀。
[0023]對(duì)更厚的硫化銅層，厚于約750nm，該層的光學(xué)外觀被顯著的光學(xué)吸收支配并且這樣的層演化出一個(gè)暗且啞光的外觀。
[0024]厚于約750nm的硫化銅層的生產(chǎn)將要求消耗幾百納米(或更多)的下方的銅層。然而，當(dāng)該下方的銅層在亞微米范圍內(nèi)時(shí)，這樣的消耗將不利地影響該層的傳導(dǎo)性。因此更希望的是利用干涉色，這可以通過(guò)生產(chǎn)遠(yuǎn)更薄的硫化銅材料層而獲得。
[0025]由此優(yōu)選的是，該硫化銅涂層具有約四分之一紅光波長(zhǎng)的厚度，該紅光具有在500nm至700nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng),而優(yōu)選的厚度取決于該硫化銅的折射率。由此,希望的是該涂層具有< 200nm優(yōu)選≤50nm(即在50nm至200nm的范圍內(nèi))，合宜地< 150nm并且優(yōu)選≤IOOnm(即在IOOnm至150nm的范圍內(nèi))的厚度。對(duì)于具有1.4折射率的硫化銅，優(yōu)選地厚度是約lOOnm。
[0026]在這種情況下，要求密切控制該硫化物涂層的厚度，并且這在本發(fā)明得以解決。[0027]該硫化銅表面涂層可以由此減低該下方的銅對(duì)用戶的表觀可見(jiàn)度，而沒(méi)有不利地影響導(dǎo)電性，并且沒(méi)有不利地影響該部件的光透射性能。
[0028]該基片包括透明材料，并且可以是剛生的或柔性的。合適的基片包含玻璃和塑料材料，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、以及聚碳酸酯。為了容易加工，該基片合宜地是柔性塑料材料(例如PET或PEN的)，或者作為單獨(dú)的件或者以連續(xù)網(wǎng)狀物的形式，而在加工后單獨(dú)的部件被從該網(wǎng)狀物上分離。
[0029]該基片典型的是平面形式的，例如以薄片、薄膜、層或伸長(zhǎng)的網(wǎng)狀物的形式，在其一個(gè)面上帶有接觸界面表面。
[0030]該導(dǎo)電性銅圖案像是使得提供一種透明部件。由此，該銅典型的是處于精細(xì)金屬線、金屬絲、或軌道的一種陣列或柵格的形式，形成一種導(dǎo)電性網(wǎng)的微型圖案。該銅典型地是處于陣列或平行線形式，例如具有兩個(gè)在這些線之間定義正方形或矩形開(kāi)口柵極的橫向陣列(如正交陣列)。也可以采用六角形柵格和其他圖案。
[0031]該銅典型地是處于精細(xì)線、金屬絲、或軌道形式，各自具有最高達(dá)約ΙΟμπι的寬度，而將這些線等等以許多倍該寬度的距離，例如至少約10倍該寬度(即，在至少約100 μ m的間距下)合適地相距隔開(kāi)，或?qū)嵸|(zhì)上更寬地隔開(kāi)，例如約20倍該寬度(B卩，以至少約200 μ m的間距)。用這樣的布置，該銅僅覆蓋該基片表面非常小比例的表面積，并且所以沒(méi)有顯著減少該部件的光透明度。
[0032]該銅層的厚度對(duì)執(zhí)行本發(fā)明不是關(guān)鍵性的?？梢詫⒁粋€(gè)薄硫化銅層生長(zhǎng)在任何銅層上，只要它足夠厚以供給在生產(chǎn)該層時(shí)需要被消耗的所要求的材料。然而，當(dāng)該銅層相當(dāng)薄時(shí)，大多數(shù)黑化加工不出產(chǎn)希望的結(jié)果，因?yàn)樗鼈兿奶嚆~(在百分比方面)并且將導(dǎo)致傳導(dǎo)性的顯著損失。在這種情況下該黑化加工需要是，使得它是高度可控的并且能夠生產(chǎn)如此厚度的硫化物層，該厚度將黑化性能賦予給該表面而不以將防礙傳導(dǎo)性的方式消耗顯著量的銅。用本發(fā)明的方法實(shí)現(xiàn)了這種控制。
[0033]該部件和該基片都是透明的，即，能夠透過(guò)至少部分的可見(jiàn)光譜。對(duì)一個(gè)應(yīng)被認(rèn)為是透明的的物件，光透射水平不需要是100% ;實(shí)際上，該基片上銅/硫化銅圖案的存在意味著該部件必然不具有100%的光透射率。在本申請(qǐng)的上下文中該術(shù)語(yǔ)“透明的”指的是優(yōu)選大于50%、更優(yōu)選大于75%、并且還更優(yōu)選大于85%的光透射率。
[0034]通過(guò)多種技術(shù)(例如，如在W02009 / 108758中20至24頁(yè)上討論的)，包含激光固化掩蔽、噴墨印刷、凹版印刷、微型復(fù)制、以及微型接觸印刷，可以在該基片上生產(chǎn)精細(xì)銅線。
[0035]一種可以被用于生產(chǎn)銅特征的方法是，通過(guò)無(wú)電沉積，這典型地生產(chǎn)具有在亞微米范圍內(nèi)的厚度的銅層。
[0036]在這個(gè)方法中，通過(guò)這些標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)中的一種將圖案化的催化層首先沉積在在該基片上。這可以包括圖案化沉積(例如，通過(guò)噴墨印刷、柔性版印刷、等等)或常規(guī)的平版印刷，如平版印刷術(shù)，其中一個(gè)連續(xù)層被沉積(通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂覆、凹版印刷涂覆、浸涂、等等)，并且之后圖案化(例如，通過(guò)平版印刷術(shù))。在顯影后，催化劑的一個(gè)圖案化層殘留在該基片表面上。之后將該基片浸潰到無(wú)電鍍?nèi)芤褐卸饘俪练e在該催化層的表面上。合適的技術(shù)和材料被披露在，例如W02005 / 056875中。尤其是，優(yōu)選在該基片上沉積一種可固化活化劑材料(例如，如在W02005 / 056875中披露的)的連續(xù)層，該連續(xù)層之后通過(guò)接觸式平版印刷術(shù)使用紫外光圖案化，以便用后續(xù)的顯影生產(chǎn)希望的微圖案，以生產(chǎn)活化劑材料的精細(xì)線的(例如高達(dá)IOmm寬的)所希望的微圖案。之后將該基片浸潰到無(wú)電鍍?nèi)芤褐幸栽谠搱D案化活化劑上沉積一層銅。這樣的技術(shù)非常適合于連續(xù)加工柔性基片的狹長(zhǎng)的網(wǎng)狀物。
[0037]通過(guò)使該銅表面與一種硫化物(例如,第I族金屬硫化物，如硫化鈉、硫化鉀、等等)溶液接觸，方便地生產(chǎn)該硫化銅涂層。該硫化物優(yōu)選在堿性溶液中，以減少硫化氫氣體的排放。該硫化物方便地是在一種氫氧化物溶液中，例如，在氫氧化鈉、氫氧化鉀、等等的溶液中。通過(guò)在該硫化物溶液中的浸潰方便地實(shí)現(xiàn)接觸。
[0038]當(dāng)暴露于該硫化物溶液時(shí)，一個(gè)硫化銅層形成在銅的表面上，而該硫化銅層的厚度隨時(shí)間增加。為了生產(chǎn)希望厚度的硫化銅層，應(yīng)該小心控制該暴露條件。用于生產(chǎn)一個(gè)希望厚度(例如IOOnm至150nm)的硫化銅層的恰當(dāng)?shù)姆磻?yīng)時(shí)間,將取決于反應(yīng)物濃度并且可以是定制的以適合環(huán)境。合適的反應(yīng)條件可以容易地由實(shí)驗(yàn)確定。
[0039]在希望的暴露時(shí)間后，通過(guò)在一種氧化試劑(合宜地，次氯酸鈉溶液)中漂洗，例如浸潰，來(lái)方便地停止該反應(yīng)。其他合適的氧化試劑包含過(guò)氧化氫、高錳酸鉀、以及臭氧。這種途徑提供了對(duì)該硫化物反應(yīng)因此以及硫化銅的厚度和顏色的優(yōu)良控制，并且一旦已經(jīng)生產(chǎn)出希望的顏色，就構(gòu)成一種簡(jiǎn)單有效的方式以阻止進(jìn)一步的顏色變化。使用氧化試劑非常迅速地停止該硫化物生成反應(yīng)，使得能夠以對(duì)于用水漂洗而言不可行的一種方式來(lái)密切控制該硫化物厚度，。接著這個(gè)步驟優(yōu)選是在去離子水中的最終漂洗。
[0040]在銅暴露于硫化物溶液時(shí)，初期的顏色變化是從單純銅顏色到深藍(lán)色外觀。更長(zhǎng)的浸潰引起樣品外觀變?yōu)殂y灰顏色，然后恢復(fù)到淡紅色銅外觀。
[0041]顏色變化，并且特別是隨著時(shí)間顏色恢復(fù)到一種金屬質(zhì)外觀，表明該硫化銅在該銅膜的頂部上的一個(gè)薄層中生長(zhǎng)。一個(gè)金屬質(zhì)銅薄膜將吸收落在其上的藍(lán)色光，而在更長(zhǎng)波長(zhǎng)的光被反射(因此有純銅的淡紅色外觀)。如果該表面硫化物層足夠薄，理想地約一個(gè)波長(zhǎng)的四分之一，那么由于來(lái)自該銅和較低的表面界面的反射，落在該表面上的紅色光將相消干涉。因此該薄膜將顯得變暗到深藍(lán)顏色并且更少可見(jiàn)。如果該硫化物層比該臨界厚度更厚，則該紅光將停止相消干涉并且然后恢復(fù)該薄膜的銅外觀。
[0042]我們的方法允許使用比使用硫化物處理來(lái)減小反射的先前方法實(shí)質(zhì)上更薄的膜。在這些處理中，在升高的溫度下用硫化物化合物處理厚的銅或銅合金層一段實(shí)質(zhì)上的時(shí)間。這引起厚的硫化銅層形成，這生產(chǎn)出不透明的黑顏色。
[0043]對(duì)于單獨(dú)的樣品，可以通過(guò)浸涂覆實(shí)現(xiàn)浸潰。對(duì)于柔性基片網(wǎng)狀物，通過(guò)傳送該網(wǎng)狀物通過(guò)合適溶液的槽可以方便地實(shí)現(xiàn)受控浸潰，使用流體軸承以從該軸承表面分離該網(wǎng)狀物，并且消除對(duì)該基片表面的可能性損害。
[0044]在該硫化銅涂層形成后，該銅保持導(dǎo)電性。
[0045]本發(fā)明的部件可能是一個(gè)觸敏部件，而該基片的界面表面是一個(gè)接觸界面表面。
[0046]該部件在顯示器(例如觸敏顯示器)中得到應(yīng)用，而該基片覆蓋在一個(gè)顯示器上或形成顯示器的部分，其中通過(guò)該透明部件該顯示器上的圖像對(duì)用戶是可見(jiàn)的。本發(fā)明由此在其范圍內(nèi)包含一個(gè)顯不器，例如一個(gè)觸敏顯不器，該顯不器包括根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)部件。
[0047]這樣的顯示器可能用于多種多樣的裝置，特別的是光電子裝置如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話、等等。[0048]本發(fā)明部件的其他應(yīng)用包含使用作為前電極(例如在一個(gè)LED平板中)，作為等離子或其他顯示器的一個(gè)屏蔽電極，作為加熱元件(例如在車輛擋風(fēng)玻璃、摩托車護(hù)目鏡、等等中)。
[0049]本發(fā)明在其范圍內(nèi)包含一種裝置，該裝置包括根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)部件或一個(gè)顯示器。
[0050]通過(guò)處理該暴露的銅表面以生產(chǎn)一個(gè)硫化銅表面涂層，本發(fā)明的途徑可以應(yīng)用于一個(gè)現(xiàn)有的透明部件，該部件具有在基片的界面表面上沉積的一個(gè)導(dǎo)電生銅的圖案。
[0051]本發(fā)明由此提供處理透明部件的一種方法，該部件包括一個(gè)基片，該基片具有一個(gè)界面表面，該界面表面帶有沉積在該界面表面上的一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案，該方法包括處理該銅的暴露表面以在該銅上生產(chǎn)一個(gè)硫化銅表面涂層。
[0052]如以上陳述地方便地實(shí)施該處理，例如通過(guò)與一種硫化物(優(yōu)選一種第I族金屬硫化物)溶液接觸(例如浸潰在其中)，優(yōu)選在堿性溶液中(例如在氫氧化物溶液中)，在合適的條件(例如濃度、時(shí)間、以及溫度)下，來(lái)生產(chǎn)希望厚度的硫化銅涂層。通過(guò)除去該硫化物溶液并且與一種氧化試劑(如次氯酸鈉溶液、過(guò)氧化氫、高錳酸鉀、或臭氧)接觸(例如浸潰在其中)來(lái)方便地停止該反應(yīng)，使得能夠精確控制反應(yīng)時(shí)間并且因此涂層厚度。接著這個(gè)步驟優(yōu)選是在去離子水中的最終漂洗。
[0053]本發(fā)明還提供處理透明部件的一種方法，該部件包括一個(gè)基片，該基片具有一個(gè)界面表面的，該界面表面帶有沉積在該界面表面上的一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案，該方法包括用一種硫化物溶液處理該銅的表面，該溶液反應(yīng)以在該銅上生產(chǎn)一個(gè)硫化銅表面涂層，以及通過(guò)與一種氧化性試劑接觸停止該反應(yīng)。
[0054]本發(fā)明的該途徑也可以應(yīng)用于一種透明部件的生產(chǎn)。
[0055]由此，在另一方面中，本發(fā)明還提供了制造透明部件的一種方法，該方法包括在一個(gè)基片的一個(gè)表面上生產(chǎn)一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案，并且處理該銅的暴露的表面以在該銅上生產(chǎn)一個(gè)硫化銅表面涂層。
[0056]本發(fā)明還提供一種制作透明組件的方法，該方法包括:在一個(gè)基片的一個(gè)表面上生產(chǎn)一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案；用一種硫化物溶液處理該銅的表面，該溶液反應(yīng)以在該銅上生產(chǎn)一個(gè)硫化銅的表面涂層；以及通過(guò)與一種氧化性試劑接觸停止該反應(yīng)。
[0057]該導(dǎo)電性銅圖案，典型地是如以上討論的微型圖案，可以用多種方式生產(chǎn)，例如，如以上陳述的。例如，一種可固化活化劑材料的一個(gè)連續(xù)層(例如，如在W02005 / 056875中披露的)沉積在該基片上，而通過(guò)接觸式平版印刷術(shù)生產(chǎn)該希望的微型圖案。這個(gè)之后是銅的無(wú)電沉積，例如，如在W02005 / 056875中披露的。以在該銅上生產(chǎn)一種硫化銅表面涂層的后續(xù)加工，方便地是如上陳述的。
[0058]將在以下實(shí)例中通過(guò)例證的方式以及和參考附圖進(jìn)行進(jìn)一步描述本發(fā)明，在附圖中:
[0059]圖1示意性說(shuō)明一個(gè)載有銅金屬絲的基片；
[0060]圖2是一個(gè)與圖1相似的圖，其中該銅金屬絲具有一個(gè)硫化銅表面涂層；并且
[0061]圖3是顏色強(qiáng)度比率(藍(lán)色平面/紅色平面)對(duì)硫化物浴浸潰時(shí)間(以秒計(jì))的一個(gè)圖。
[0062]附圖詳細(xì)說(shuō)明[0063]圖1示意性地并且不是按比例地示出一個(gè)透明部件的一部分，該部件包括載有一個(gè)導(dǎo)電性銅圖案(如由銅金屬網(wǎng)2表示)的一個(gè)透明基片I部分。
[0064]圖2示出圖1的部件，在經(jīng)過(guò)本發(fā)明的方法處理后，導(dǎo)致在該銅金屬網(wǎng)2表面上硫化銅層3的形成。
[0065]實(shí)例I
[0066]—種精細(xì)銅金屬網(wǎng)形成在一個(gè)基片上,該基片包括處于PMX726PET薄膜形式的一個(gè)透明PET薄膜,50微米厚,可購(gòu)自HiFi薄膜公司。將可固化催化劑材料的一個(gè)連續(xù)層沉積在該薄膜的一個(gè)表面上，通過(guò)使用以下的光敏催化劑配方:
[0067]
【權(quán)利要求】
1.一種處理透明部件的方法，該部件包括一個(gè)基片，該基片具有一個(gè)界面表面，該界面表面帶有沉積在該界面表面上的一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案，該方法包括用一種硫化物溶液處理該銅的表面，該溶液反應(yīng)以在該銅上生產(chǎn)一個(gè)硫化銅的表面涂層，并且通過(guò)與一種氧化性試劑接觸來(lái)停止該反應(yīng)。
2.一種制作透明部件的方法，包括:在一個(gè)基片的一個(gè)表面上生產(chǎn)一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案；用一種硫化物溶液處理該銅的表面，該溶液反應(yīng)以生產(chǎn)在該銅上的一個(gè)硫化銅的表面涂層；并且通過(guò)與一種氧化性試劑接觸來(lái)停止該反應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中生產(chǎn)該導(dǎo)電性銅的圖案是通過(guò)在該基片上沉積一種可固化的活化劑材料的一個(gè)連續(xù)層，接著通過(guò)接觸平版印刷術(shù)以生產(chǎn)該圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中通過(guò)無(wú)電沉積將銅沉積到該活化劑圖案上。
5.根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中該硫化銅涂層具有在約50nm至200nm的范圍內(nèi)的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中該硫化銅涂層具有小于約150nm的厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中該硫化銅涂層具有約IOOnm的厚度。
8.根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中該基片包括柔性塑料材料。
9.根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中該銅是處于精細(xì)線、金屬絲、或軌道形式的，具有最高達(dá)約IOym的寬度。
10.根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中該部件是觸敏的。
11.一種根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法生產(chǎn)的透明部件。
12.—種透明部件，包括一個(gè)具有一個(gè)界面表面的基片，沉積在該基片的界面表面上的一個(gè)導(dǎo)電性銅的圖案，其中該銅具有一個(gè)硫化銅表面涂層，該涂層具有在約50nm至200nm范圍內(nèi)的厚度。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的部件，其中該硫化銅涂層具有小于約150nm的厚度。
14.一種顯示器，包括根據(jù)權(quán)利要求11、12或13所述的部件。
15.一種裝置，包括根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的部件或顯示器。
【文檔編號(hào)】C23C22/63GK103503586SQ201280014349
【公開(kāi)日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2012年4月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月14日
【發(fā)明者】P.G.本特利 申請(qǐng)人:傳導(dǎo)噴墨技術(shù)有限公司