噴丸處理方法
【專利摘要】首先，在判定步驟中，使用渦流傳感器(46)以判定部(48)判定模具(40)的水冷孔(42)的表面有無氮化層。接著，在噴丸步驟中，在判定步驟的判定結果為無氮化層的情況下，以根據模具(40)的母材所設定的噴丸條件對模具(40)的水冷孔(42)的表面實施噴珠處理，在判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，以維持有氮化層的狀態(tài)的噴丸條件對模具(40)的水冷孔(42)的表面實施噴珠處理。
【專利說明】噴丸處理方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明是關于一種噴丸處理方法。

【背景技術】
[0002]為了對模具的冷卻水通道(水冷孔)的表面賦與壓縮殘留應力，存在對冷卻水通道的表面進行噴珠的情況(例如，參照專利文獻I)。
[0003]專利文獻1:日本特開平7-290222號公報
[0004]但，關于專利文獻I揭示的方法，從對水冷孔的表面有效地賦與壓縮殘留應力的觀點而言存在改善的余地。另外，根據專利文獻I揭示的方法，存在在水冷孔的表面殘留物痕的情況。由于在物痕部分存在應力集中的情況，故有可能成為產生裂紋的原因。


【發(fā)明內容】

[0005]在本【技術領域】中，期望能夠對水冷孔的表面有效地賦與壓縮殘留應力的噴丸處理方法。另外，在本【技術領域】中，期望能夠防止或抑制在水冷孔的表面產生裂紋的噴丸處理方法。
[0006]本發(fā)明的一個方面的噴丸處理方法包含:判定步驟，判定模具的水冷孔的表面有無氮化層；及噴丸步驟，在上述判定步驟的判定結果為無氮化層的情況下，以根據上述模具的母材所設定的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴珠處理，在上述判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，以維持有氮化層的狀態(tài)的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴珠處理。
[0007]根據該噴丸處理方法，首先，在判定步驟中，判定模具的水冷孔的表面有無氮化層。然后，在噴丸步驟中，在判定步驟的判定結果為無氮化層的情況下，以根據模具的母材所設定的噴丸條件對模具的水冷孔的表面實施噴珠處理，在判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，以維持有氮化層的狀態(tài)的噴丸條件對模具的水冷孔的表面實施噴珠處理。如此，由于對模具的水冷孔的表面以根據氮化層的有無的噴丸條件進行噴珠處理，故能夠對水冷孔的表面有效地賦與壓縮殘留應力。
[0008]在一實施方式中，可行的是，在上述判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，在上述噴丸步驟中，對上述水冷孔的表面，賦與實施噴珠處理直到預測為可維持有氮化層的狀態(tài)的限度的狀態(tài)為止的情況的一半以下的壓縮殘留應力，且分別交替進行多次上述判定步驟與上述噴丸步驟。通過如此構成，能夠防止因過量的噴珠處理而去除氮化層的事態(tài)。
[0009]在一實施方式中，可行的是，上述判定步驟還判定在上述氮化層的一部分有無形成表面?zhèn)鹊幕衔飳?、及在上述氮化層的一部分有無形成母材側的擴散層，最初的上述判定步驟的判定結果為有化合物層且有擴散層的情況下，交替進行上述判定步驟與上述噴丸步驟，至少直到上述判定步驟的判定結果為無化合物層且有擴散層為止。通過如此構成，在判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，能夠一方面維持有氮化層的狀態(tài)，一方面實施有效的噴珠處理。
[0010]在一實施方式中，可行的是，在上述判定步驟中，使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器，判定上述水冷孔的表面有無氮化層。通過如此構成，可進行簡便的判定。
[0011]在一實施方式中，可行的是，上述判定步驟使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器，判定在上述氮化層的一部分有無形成表面?zhèn)鹊幕衔飳印⒓霸谏鲜龅瘜拥囊徊糠钟袩o形成母材側的擴散層。通過如此構成，能夠進行簡便的判定。
[0012]在一實施方式中，可行的是，上述噴丸步驟通過使投射材料與壓縮空氣共同自插入于上述水冷孔的噴珠用的噴嘴噴射而對上述水冷孔的表面實施噴珠處理。通過如此構成，即使假設水冷孔細徑且較深，仍能夠使高速的投射材料碰到水冷孔的底部。因此，可對水冷孔的底部有效地賦與壓縮殘留應力。
[0013]本發(fā)明的另一方面的噴丸處理方法包含:判定步驟，判定模具的水冷孔的表面有無物痕；及噴丸步驟，在上述判定步驟的判定結果為有物痕的情況下，以去除上述水冷孔的表面的物痕的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴丸處理。
[0014]根據該噴丸處理方法，首先，在判定步驟中，判定模具的水冷孔的表面有無物痕。其次，在噴丸步驟中，判定步驟的判定結果為有物痕的情況下，以去除模具的水冷孔的表面的物痕的噴丸條件，對模具的水冷孔的表面實施噴丸處理。如此，由于能夠根據物痕的有無變更噴丸條件，而去除模具的水冷孔的表面的物痕，故能夠回避在物痕部分的應力集中。因此，能夠防止或抑制裂紋的產生。
[0015]在一實施方式中，可行的是，在上述判定步驟中，使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器，判定上述水冷孔的表面有無物痕。通過如此構成，能夠進行簡便的判定。
[0016]如以上說明，根據本發(fā)明的一方面及實施方式，能夠對水冷孔的表面有效地賦與壓縮殘留應力。另外，根據本發(fā)明的另一方面及實施方式，能夠防止或抑制在水冷孔的表面產生裂紋。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是顯示第一實施方式的噴丸處理方法所應用的噴丸處理裝置的模式圖。
[0018]圖2是第一實施方式的噴珠處理方法的流程圖。
[0019]圖3是用以說明第一實施方式的噴丸處理方法的剖面圖。圖3的㈧顯示判定步驟。圖3的(B)顯示噴丸步驟。
[0020]圖4是顯示最佳的噴珠處理、過量的噴珠處理、及未進行噴珠處理的各情況的壓縮殘留應力的分布的圖表。
[0021]圖5是第二實施方式的噴珠處理方法的流程圖。
[0022]圖6是用以說明第二實施方式的噴丸處理方法的剖面圖。圖6的㈧顯示判定步驟。圖6的(B)顯示噴丸步驟。

【具體實施方式】
[0023][第一實施方式]
[0024]針對第一實施方式的噴丸處理方法，使用圖1?圖4進行說明。
[0025](噴丸處理裝置及模具)
[0026]在圖1中，以模式圖顯示本實施方式的噴丸處理方法所應用的噴丸處理裝置10。首先，針對該噴丸處理裝置10及作為噴丸處理的對象的模具40進行說明。
[0027]如圖1所示般，噴丸處理裝置10具備投射單元12。投射單元12用以將投射材料14噴射(投射)于被處理對象物(在本實施方式中為模具40)，且具備用以供給投射材料14的貯箱16。另外，投射材料14 (亦稱為噴丸或噴丸材料)在本實施方式中應用金屬球，且其維克氏硬度設為與被處理對象相同程度或其以上。
[0028]在貯箱16的上部形成有空氣流入口 16A，在該空氣流入口 16A連接有連接配管18的一端部。連接配管18的另一端部連接于連接配管20的流道中間部，連接配管20的流道上游側(圖中右側)的一端部連接于壓縮空氣的供給用的壓縮機22(壓縮空氣供給裝置)。即，貯箱16經由連接配管18、20而連接于壓縮機22。另外，于連接配管18的流道中間部設有空氣流量控制閥24 (電氣比例閥)，通過該空氣流量控制閥24打開，將來自壓縮機22的壓縮空氣供給至貯箱16內。由此能夠使貯箱16內加壓。
[0029]另外，在貯箱16的下部，形成有設有切割口(圖示省略)的噴丸流出口 16B，在該噴丸流出口 16B連接有連接配管26的一端部。連接配管26的另一端部連接于連接配管20的流道中間部，在連接配管26的流道中間部設有噴丸流量控制閥28。作為噴丸流量控制閥28，例如應用麥格納閥(7f ^寸)或混合閥等。連接配管20的與連接配管26的合流部作為混合部20A。在連接配管20，在較混合部20A更靠向流道上游側(圖中右側)且較與連接配管18的連接部更靠向流道下游側(圖中左側)，設有空氣流量控制閥30 (電氣比例閥)。
[0030]S卩，在貯箱16內已加壓的狀態(tài)下上述切割口及噴丸流量控制閥28打開且空氣流量控制閥30打開的情況下，自貯箱16所供給的投射材料14與自壓縮機22所供給的壓縮空氣在混合部20A混合，而流動至連接配管20的流道下游側(圖中左側)。
[0031]在連接配管20的流道下游側的端部，連接有噴射用(噴珠用)的噴嘴32。由此，在混合部20A流動的投射材料14在與壓縮空氣混合的狀態(tài)下自噴嘴32之前端部噴射。噴嘴32應用形成為筒狀且具有能插入于模具40的水冷孔42的直徑的噴嘴。
[0032]另外，噴丸處理裝置10可設為包含握持噴嘴32的機械臂(圖示省略)的構成，亦可設為上述機械臂使噴嘴32相對水冷孔42進退移動(往返移動)的構成。
[0033]噴丸處理裝置10具備操作單元34。操作單元34構成為能夠輸入實施噴珠處理時的處理條件(例如，包含由壓縮機22供給的壓縮空氣的壓力、噴射的投射材料14的量的噴丸條件的一部分)，且構成為向控制單元36輸出與輸入操作對應的信號?？刂茊卧?6構成為具有存儲裝置或運算處理裝置等，且構成為基于自操作單元34所輸出的信號，控制壓縮機22、空氣流量控制閥24、30、噴丸流量控制閥28、及上述的切割口(圖示省略)等。S卩，在控制單元36預先存儲有用于以與操作單元34所輸出的信號對應的噴丸條件實施噴珠處理的程序。
[0034]另一方面，模具40以成型用的形狀形成有構成配合面?zhèn)鹊脑O計面40A。與此相對，在模具40的背面40B (與設計面40A相反側的面)形成有多個(圖示省略)細徑且有底的水冷孔42。
[0035]本實施方式的模具40是形成為氮化處理后的合金(在本實施方式中作為一例為SKD61的軟氮化材料)制的金屬壓鑄用的模具。另外，金屬壓鑄是模具鑄造法的一種，是通過向模具40中壓入已熔融的金屬而能夠在短時間內大量地生產高尺寸精度的鑄件的鑄造方式。如此的模具40在熔液壓入時被加熱至高溫且在使用水冷孔42的水冷時被冷卻。并且，為快速冷卻模具40，較短地設定水冷孔42的底部42A與設計面40A的距離d。
[0036]另外，所謂對模具40所實施的氮化處理，是指例如將含有Al、Cr、Mo、Ti及V中任一種以上的合金鋼，在NH3氣體中以大約500°C左右的低溫加熱，由此于其表面獲得極硬的氮化層的熱處理。基本而言，氮化層包含形成母材的合金鋼側的擴散層、及形成表面?zhèn)鹊幕衔飳印U散層是于合金鋼中氮擴散所得的層。另外，化合物層是以氮化物、碳化物、碳氮化等為主體的層，具有非常硬且脆的特征。另外，氮化層亦有自最初作為僅擴散層的健全層存在的情況。此處，本實施方式的所謂“健全層”是指以能辨識為處于正常的層狀態(tài)的程度的厚度而形成的層。
[0037]對此，噴丸處理裝置10具備用以判定有無氮化層等的判定單元38。另外，根據本實施方式，判定單元38雖作為噴丸處理裝置10的一部分而設置，但判定單元38亦可與噴丸處理裝置10分別獨立設置。
[0038]判定單元38具備渦流傳感器46、及連接于該渦流傳感器46的判定部48。渦流傳感器46將分別與模具40的水冷孔42的表面(內面)有無氮化層、有無化合物層、及有無擴散層對應的測定信號輸出至判定部48。判定部48基于來自潤流傳感器46的測定信號而判定有無氮化層、有無化合物層、及有無擴散層，例如，通過具有CPU等的電子電路而構成。
[0039]另外，亦能夠設為判定部48與控制單元36連接(參照圖中的雙點劃線50)而將判定部48中的判定結果輸出至控制單元36的裝置構成。另外，可行的是，判定部48構成為能夠操作上述的機械臂，且通過由判定部48所操作的機械臂進行渦流傳感器46的設置。
[0040](噴丸處理方法)
[0041 ] 接著，一方面針對噴丸處理方法進行說明，一方面針對其作用及效果進行說明。圖2是第一實施方式的噴丸處理方法的流程圖。在圖3中顯示有用以說明本實施方式的噴丸處理方法的剖面圖。
[0042]如圖2所示，首先，判定部48進行傳感器測定信號的判定步驟(SlO)。根據SlO的步驟，如圖3的(A)所示，例如機械臂將渦流傳感器46插入于水冷孔42。接著，判定部48(廣義而言以使用電磁學技術的非破壞檢查)判定模具40的水冷孔42的表面(內面)有無氮化層(判定步驟)。另外，根據本實施方式，判定部48使用渦流傳感器46判定在氮化層的一部分有無形成表面?zhèn)鹊幕衔飳?、及在氮化層的一部分有無形成母材側的擴散層。
[0043]另外，所謂本實施方式的氮化層的有無，即是否存在形成健全層的氮化層，存在形成健全層的氮化層的情況為有氮化層，此外為無氮化層。另外，所謂本實施方式的化合物層的有無，即是否存在形成健全層的化合物層，存在形成健全層的化合物層的情況為有化合物層，此外為無化合物層。再者，所謂本實施方式的擴散層的有無，即是否存在形成健全層的擴散層，存在形成健全層的擴散層的情況為有擴散層，此外為無擴散層。
[0044]對渦流傳感器46應用周知的渦流傳感器。針對渦流傳感器46簡單地說明，渦流傳感器46在傳感器頭內部具備線圈(圖示省略)，通過在該線圈中流通高頻率電流而產生高頻率磁場。然后，若在渦流傳感器46產生的高頻率磁場內有導體(模具40)，則會受磁場變化誘導而在導體(模具40)中產生螺旋狀的渦流。根據伴隨該渦流的磁通，渦流傳感器46的線圈的電阻會變化。另一方面，由于根據判定對象的導體(模具40)的化學成份或結晶構造等，上述渦流的通道及上述磁通的通道亦不同，故渦流傳感器46的線圈的電阻亦不同。
[0045]渦流傳感器46利用如此的現(xiàn)象，將分別與有無氮化層、有無化合物層、及有無擴散層對應的測定信號輸出至判定部48。判定部48基于來自渦流傳感器46的測定信號，判定有無氮化層(有無化合物層及有無擴散層)。如此，通過使用渦流傳感器46，可簡便地判定有無氮化層(有無化合物層及有無擴散層)。
[0046]接著，例如機械臂將渦流傳感器46拔出，使渦流傳感器46向水冷孔42的外撤離。其后，例如機械臂將圖3的(B)所示的噴嘴32插入至水冷孔42。接著，基于判定結果，控制單元36使投射材料與壓縮空氣共同自噴嘴32之前端向水冷孔42的底部42A等噴射(S12、S14)。此處，SlO的判定步驟的判定結果為無氮化層的情況下，控制單元36以根據模具40的母材所設定的第二噴丸條件，對模具40的水冷孔42的表面實施噴珠處理(S14:第二噴丸步驟)。另一方面，SlO的判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，控制單元36以維持有氮化層的狀態(tài)的第一噴丸條件，對模具40的水冷孔42的表面實施噴珠處理(S12:第一噴丸步驟)。另外，所謂根據模具40的母材所設定的第二噴丸條件，意為考慮到母材的機械性質的最佳加工條件(為獲得所需的壓縮殘留應力的最佳條件)。
[0047]如此，通過以根據有無氮化層的噴丸條件對模具40的水冷孔42的表面進行噴珠處理,而對水冷孔42的表面有效地賦與壓縮殘留應力。
[0048]另外，SlO的判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，在S12的第一噴丸步驟中，控制單元36對模具40的水冷孔42的表面，以一次噴珠處理，賦與進行噴珠處理直到預測為能維持有氮化層的狀態(tài)的限度的狀態(tài)為止的情況的一半以下的壓縮殘留應力。由此，可防止因過量的噴珠處理而導致氮化層被去除(過分削減)的情況。
[0049]另外，在S12及S14的噴丸步驟中，例如機械臂使噴嘴32沿著水冷孔42移動，由此亦對水冷孔42的底部42A以外的部位進行噴珠處理。在S12及S14的噴丸步驟之后，例如機械臂將噴嘴32拔出，使噴嘴32向水冷孔42的外撤離。
[0050]此處，最初的判定步驟(SlO)的判定結果為有化合物層且有擴散層的情況下，判定部48及控制單元36交替進行S16的判定步驟與S12的第一噴丸步驟，至少直到下次以后的判定步驟(S16)的判定結果為無化合物層且有擴散層為止。即，該反復處理的結束條件是下次以后的判定步驟的判定結果為無化合物層且有擴散層的情況。S16的判定步驟與S12的第一噴丸步驟是分別進行多次直到滿足結束條件。由此，SlO的判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，一方面維持有氮化層的狀態(tài)，一方面進行有效的噴珠處理。
[0051]如以上說明，根據本實施方式的噴丸處理方法，可對水冷孔42的表面有效地賦與壓縮殘留應力。作為其結果，可防止或有效地抑制在模具40的水冷孔42的附近的應力腐蝕裂紋(SCC)。
[0052]此處，針對應力腐蝕裂紋進行補充說明。模具40于熔液壓入時將設計面40A被暴露于高溫下，其后，在使冷卻水流入水冷孔42的水冷時被冷卻。若連續(xù)反復該循環(huán)，則有可能產生熱龜裂或熱裂紋，從而可能成為模具破壞的原因。另一方面，近年來，為謀求縮短制造金屬壓鑄制品時的每一循環(huán)的時間(進而謀求減少成本)，或者，為對應金屬壓鑄制品的大型化，有必要快速地冷卻模具。因此，進行增加形成于模具40上的水冷孔42的數(shù)或使水冷孔42與設計面40A靠近的應對。但，若水冷孔42與設計面40A的距離較近則熱梯度(熱應力梯度)較小，故作為結果，水冷孔42的表面受到的熱應力(拉伸應力f)較大,從而應力腐蝕裂紋的可能性亦變大。
[0053]作為產生該應力腐蝕裂紋的主要原因，一般可舉出材料原因、環(huán)境原因、拉伸應力f三個，在該三個條件重迭的情況下會產生應力腐蝕裂紋。對此，在本實施方式中，通過以噴珠賦與壓縮殘留應力，而抑制產生應力腐蝕裂紋的主要原因之一即拉伸應力f的影響，進而抑制應力腐蝕裂紋的產生。
[0054]然而，對細徑且較深的盲孔的水冷孔42 (細深孔)進行噴珠處理的情況下，自噴嘴32向水冷孔42的內部所噴射的壓縮空氣的排放較差。而且，若因該原因，而與壓縮空氣混合的投射材料14的速度未達到所需的速度，則亦可考慮到無法在水冷孔42的底部42A (末端部)上充分獲得噴珠處理的效果的可能性。對此，在本實施方式中，由于是通過使投射材料14與壓縮空氣共同自插入于水冷孔42的噴嘴32噴射而對水冷孔42的表面實施噴珠處理，故即使盲孔的水冷孔42為細徑且較深者，仍能夠使高速的投射材料14碰到水冷孔42的底部42A。由此，對水冷孔42的底部42A有效地賦與壓縮殘留應力。
[0055]另一方面，根據水冷孔42的內面有無氮化層，亦考慮無法有效賦與壓縮殘留應力的可能性。此處，在圖4中，顯示有測定最佳噴珠處理、過量的噴珠處理、及未進行噴珠處理的各情況的壓縮殘留應力的分布的結果。橫軸是表示距水冷孔42的表面的距離(相對于表面為模具40的母材側且垂直的方向的深度)。針對進行噴珠處理之前已處于有氮化層的狀態(tài)的部位，若進行過量的噴珠處理而導致成為無氮化層的狀態(tài)，則無法有效地于對象部位賦與壓縮殘留應力。針對該點，在本實施方式中，以根據圖3所示的水冷孔42的表面有無氮化層的最佳噴丸條件(加工條件)，對模具40的水冷孔42的表面進行噴珠處理，故能夠對水冷孔42的表面有效地賦與壓縮殘留應力。
[0056]另外，根據本實施方式，可行的是，在圖3的(A)所示的判定步驟之前，進行判定模具40的背面40B有無氮化層的預先判定步驟，在預先判定步驟之后且判定步驟之前，進行對模具40的背面40B實施噴珠處理的預先噴丸步驟。而且，最初的預先判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，交替進行預先判定步驟與預先噴丸步驟，直到預先判定步驟的判定結果為無氮化層為止，且基于其間的噴丸條件，設定SlO的判定步驟的判定結果為有氮化層的情況的第一噴丸條件。即，通過交替地進行預先判定步驟與預先噴丸步驟，預測水冷孔42上能維持有氮化層的狀態(tài)的限度的第一噴丸條件。
[0057][第二實施方式]
[0058]接著，針對第二實施方式的噴丸處理方法，使用圖5及圖6進行說明。圖5是第二實施方式的噴丸處理方法的的流程圖。在圖6中顯示有用以說明第二實施方式的噴丸處理方法的剖面圖。另外，應用于該噴丸處理方法的噴丸處理裝置的基本構造與第一實施方式的構成相同。因此，針對與第一實施方式相同的構成部，標注同一符號而省略說明。
[0059]如圖5所示，首先，判定部48進行傳感器測定信號的判定步驟(S20)。在S20的步驟中，如圖6的(A)所示，例如機械臂將渦流傳感器46插入于水冷孔42。接著，判定部48使用渦流傳感器46 (廣義上以使用電磁學技術的非破壞檢查)判定模具40的水冷孔42的表面(內面)有無物痕44 (判定步驟)。
[0060]若進行補充，則雖會因渦流傳感器46產生的高頻率磁場而在模具40的水冷孔42的表面產生渦流，但在有物痕44的情況與無物痕的情況下，上述渦流的通道不同，從而伴隨上述渦流的磁通的通道亦不同。其結果，由于渦流傳感器46的線圈的電阻亦不同，故，渦流傳感器46將與有無物痕44對應的測定信號輸出至判定部48。判定部48基于來自渦流傳感器46的測定信號，判定有無物痕44。如此，通過使用渦流傳感器46，能夠簡便地判定有無物痕44。
[0061]另外，水冷孔42的表面的物痕44 (凹凸)是以鉆孔加工或放電加工等形成水冷孔42的時所形成的瑕疵部分。
[0062]接著，例如機械臂將渦流傳感器46拔出，而使其向水冷孔42的外撤離。S20的判定步驟的判定結果為有物痕的情況下，例如機械臂將圖3的(B)所示的噴嘴32插入于水冷孔42。然后，控制單元36使投射材料與壓縮空氣共同自噴嘴32的前端向模具40的水冷孔42的表面的物痕44噴射(噴丸處理)。該噴丸處理是以除去模具40的水冷孔42的表面的物痕44的第三噴丸條件而進行(S22、第三噴丸步驟)。
[0063]另外，在噴嘴32的前端部可以安裝有反射構件(未圖示的夾具)，該反射構件以使投射材料的噴射方向成為相對噴嘴32的軸向交叉的方向的方式使投射材料反射。通過安裝如此的反射構件，水冷孔42的側面的加工較容易。
[0064]S22的第三噴丸步驟與S20的判定步驟交替進行直到S20的判定步驟的判定結果為無物痕。如此，通過進行噴丸處理(噴砂)直到無物痕為止，而去除物痕44，從而可防止向物痕44的應力集中。
[0065]若進行補充說明，模具40是如上述那樣由于反復加熱與冷卻，故因其時的溫度梯度而反復受到熱應力(拉伸應力f)，因此在物痕44存在于表面的情況下，該部分成為應力集中部。但，在本實施方式中，通過去除物痕44，可消除如此的應力集中部。
[0066]如以上說明般，根據本實施方式的噴丸處理方法，能夠防止或抑制在水冷孔42的表面上產生裂紋(龜裂)。
[0067][實施方式的補充說明]
[0068]另外，根據上述實施方式，雖交替進行判定步驟與噴丸步驟，但亦能設為各進行一次判定步驟與噴丸步驟的噴丸處理方法。
[0069]另外，作為上述第一實施方式的變化例，可設為如下的噴丸處理方法，例如，判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，在最初的噴丸步驟中，對水冷孔的表面，賦與進行噴珠處理直到預測為可維持有氮化層的狀態(tài)的限度的狀態(tài)為止的情況的一半以上的壓縮殘留應力，在第二次以下的噴丸步驟中，對水冷孔的表面，賦與進行噴珠處理直到預測為可維持有氮化層的狀態(tài)的限度的狀態(tài)為止的情況的一半以下的壓縮殘留應力。
[0070]另外，作為上述第一實施方式的變化例，亦能夠在最初的判定步驟的判定結果為有化合物層且有擴散層的情況下，交替進行判定步驟與噴丸步驟，直到判定步驟的判定結果為無化合物層且有擴散層的預測階段之前為止。
[0071]另外，根據上述第一實施方式，雖使用插入于水冷孔42的渦流傳感器46判定圖3的(A)所示的水冷孔42的表面有無氮化層、有無化合物層、及有無擴散層，但亦能夠使用例如插入于水冷孔的超音波傳感器或瑞利波傳感器等其它傳感器判定水冷孔42的表面有無氮化層、有無化合物層、及有無擴散層。另外，亦能夠為不針對水冷孔42的表面有無化合物層、及有無擴散層進行判定的噴丸處理方法。
[0072]另外，作為上述實施方式的變化例，可行的是，例如，在對粗徑且較淺的水冷孔等實施噴珠處理的情況等時，以不將噴嘴插入于水冷孔的狀態(tài)進行噴丸步驟。
[0073]另外，作為第二實施方式的變化例，可行的是，在判定步驟中，使用內視鏡判定圖6所示的模具40的水冷孔42的表面有無物痕44。
[0074]另外，上述實施方式及上述的多個變化例能夠進行適當組合而實施。
[0075]圖中標號說明:
[0076]14…投射材料；32…噴嘴；40…模具；42…水冷孔；44…物痕；46…渦流傳感器。
【權利要求】
1.一種噴丸處理方法，其包含: 判定步驟，判定模具的水冷孔的表面有無氮化層 '及 噴丸步驟，在上述判定步驟的判定結果為無氮化層的情況下，以根據上述模具的母材所設定的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴珠處理，在上述判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，以維持有氮化層的狀態(tài)的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴珠處理。
2.如權利要求1所述的噴丸處理方法，其中， 在上述判定步驟的判定結果為有氮化層的情況下，在上述噴丸步驟中，對上述水冷孔的表面賦與實施噴珠處理直到預測為可維持有氮化層的狀態(tài)的限度的狀態(tài)為止的情況的一半以下的壓縮殘留應力，且分別交替進行多次上述判定步驟與上述噴丸步驟。
3.如權利要求1或權利要求2所述的噴丸處理方法，其中， 上述判定步驟還判定在上述氮化層的一部分有無形成表面?zhèn)鹊幕衔飳?、及在上述氮化層的一部分有無形成母材側的擴散層，且 在最初的上述判定步驟的判定結果為有化合物層且有擴散層的情況下，交替進行上述判定步驟與上述噴丸步驟，至少直到上述判定步驟的判定結果為無化合物層且有擴散層為止。
4.如權利要求1或權利要求2所述的噴丸處理方法，其中， 在上述判定步驟中，使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器判定上述水冷孔的表面有無氮化層。
5.如權利要求3所述的噴丸處理方法，其中， 在上述判定步驟中，使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器判定上述水冷孔的表面有無氮化層。
6.如權利要求3所述的噴丸處理方法，其中， 上述判定步驟使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器判定在上述氮化層的一部分有無形成表面?zhèn)鹊幕衔飳印⒓霸谏鲜龅瘜拥囊徊糠钟袩o形成母材側的擴散層。
7.如權利要求1或權利要求2所述的噴丸處理方法，其中， 上述噴丸步驟通過使投射材料與壓縮空氣共同自插入于上述水冷孔的噴珠用的噴嘴噴射而對上述水冷孔的表面實施噴珠處理。
8.如權利要求3所述的噴丸處理方法，其中， 上述噴丸步驟通過使投射材料與壓縮空氣共同自插入于上述水冷孔的噴珠用的噴嘴噴射而對上述水冷孔的表面實施噴珠處理。
9.一種噴丸處理方法，其包含: 判定步驟，判定模具的水冷孔的表面有無物痕 '及 噴丸步驟，在上述判定步驟的判定結果為有物痕的情況下，以去除上述水冷孔的表面的物痕的噴丸條件對上述水冷孔的表面實施噴丸處理。
10.如權利要求7所述的噴丸處理方法，其中， 在上述判定步驟中，使用插入于上述水冷孔的渦流傳感器判定上述水冷孔的表面有無物痕。
【文檔編號】B22D17/22GK104169047SQ201280071535
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2012年11月21日 優(yōu)先權日:2012年5月24日
【發(fā)明者】小林祐次, 松井彰則 申請人:新東工業(yè)株式會社