一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜及其制作方法，該吸收導(dǎo)磁屏蔽膜具有層狀結(jié)構(gòu)，通過吸波層、導(dǎo)磁層和屏蔽層的合理疊加，對100MHz-10GHz的電磁波具有較好的屏蔽作用，屏蔽效能達(dá)到80DB以上；其制備方法采用常規(guī)涂覆和磁控濺射相結(jié)合的方式進(jìn)行，操作簡單，形成的膜層輕薄致密，適用于各種電子產(chǎn)品和通信設(shè)備。
【專利說明】一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于通信領(lǐng)域，特別涉及一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通訊領(lǐng)域的各種電子產(chǎn)品和設(shè)備在空間會形成許多電磁波相互干擾，不僅對自身和環(huán)境造成損害，也使實現(xiàn)高頻、高速的傳輸變得困難。電磁屏蔽膜可以限制電磁波在電子產(chǎn)品組件之間以及電子產(chǎn)品與環(huán)境之間的相互傳播，減少電磁干擾造成的破壞，在通訊領(lǐng)域的應(yīng)用日漸廣泛。
[0003]但是傳統(tǒng)的電磁屏蔽膜存在以下兩方面的缺陷:第一，在原材料方面，選擇屏蔽材料可以通過反射電磁波實現(xiàn)屏蔽作用，但是其反射的電磁波并沒有消失或衰減，因而可能造成二次電磁污染；而選擇吸波材料雖然能吸收和衰減電磁波，但通常只對某一較窄頻段具有較好的屏蔽作用。第二，在鍍膜方式方面，一般采用燒結(jié)方式實現(xiàn)鐵氧體鍍膜，得到的屏蔽膜厚度較大，不易彎折，因而在使用上具有局限性。
[0004]“薄、輕、寬、高”(厚度薄、質(zhì)量輕、頻段寬、強(qiáng)度高)已成為現(xiàn)代新型屏蔽工具的發(fā)展趨勢，傳統(tǒng)的電磁屏蔽膜顯然已經(jīng)無法滿足人們的需要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是克服以上現(xiàn)有技術(shù)的問題，提供一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜及其制作方法，通過吸波層、導(dǎo)磁層和屏蔽層的合理疊加，最大程度的拓寬了可屏蔽的頻率范圍，并吸收環(huán)境中和電子器件內(nèi)的電磁波，同時采用本發(fā)明的方法制作的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜簡捷輕薄，使用方便，可批量生產(chǎn)，適用于各種電子產(chǎn)品和通信設(shè)備。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明一方面提供一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，包括依次疊加的載體膜層、吸波層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層，其中在吸波層和導(dǎo)電膠層之間包括導(dǎo)磁層和屏蔽層。
[0007]優(yōu)選的，所述的導(dǎo)磁層和屏蔽層是在所述吸波層的表面按照導(dǎo)磁層、屏蔽層的順序置加。
[0008]更優(yōu)選的，所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，由依次疊加的載體膜層、吸波層、導(dǎo)磁層、屏蔽層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層組成。
[0009]其中，所述的導(dǎo)磁層和屏蔽層還可以在所述吸波層的表面按照屏蔽層、導(dǎo)磁層的順序疊加，優(yōu)選的，由依次疊加的載體膜層、吸波層、屏蔽層、導(dǎo)磁層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層組成。
[0010]其中，在吸波層和導(dǎo)電膠層之間還可以包括吸波層。優(yōu)選的，由依次疊加的載體膜層、吸波層、導(dǎo)磁層、屏蔽層、吸波層、導(dǎo)磁層、屏蔽層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層組成。
[0011]其中，所述的載體膜層包括經(jīng)電暈預(yù)處理的基底膜層和附著在其電暈預(yù)處理表面的接著層，其中接著層的厚度為0.1 μ m-5 μ m。
[0012]特別是，所述的基底膜層為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亞胺(PI)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等聚酯薄膜，所述的接著層為丙烯酸、聚酯、聚氨酯、有機(jī)硅、有機(jī)氟等樹脂或其改性樹脂經(jīng)有機(jī)溶劑稀釋而成的涂料層，所述的有機(jī)溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMA)等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
[0013]附有接著層的載體膜層可以使吸波涂料更易于涂覆，從而與吸波層形成更為穩(wěn)定的結(jié)合。
[0014]其中，所述的吸波層為由吸波涂料制成的膜層，吸波層的厚度為2 μ m-50 μ m，所述的吸波涂料包括樹脂、鐵氧體、無機(jī)填料和有機(jī)溶劑，其中樹脂的含量為10wt%-40wt%，鐵氧體的含量為5wt%-40wt%，無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使吸波涂料的固含量為30%-60%。
[0015]尤其是，所述的樹脂為有機(jī)硅、有機(jī)氟、環(huán)氧樹脂、丙烯酸、聚氨酯、聚酯等樹脂或其改性樹脂，所述的鐵氧體為鐵及其氧化物或氮化物、鐵合金及其氧化物或氮化物，粒度在
0.1 μ m-2 μ m，所述的無機(jī)填料為硫酸鋇、碳酸鈣、滑石粉、云母、硅灰石、高嶺土、氫氧化鋁、氫氧化鎂中的一種或一種以上，所述的溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯或PMA等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
[0016]吸波層能有效的將外部電磁波導(dǎo)入至內(nèi)部鐵氧體層，起到吸收外部電磁波的作用。
[0017]其中，所述的導(dǎo)磁層是以鐵氧體為靶材，通過磁控濺射在所述吸波層上形成的膜層，導(dǎo)磁層的厚度為0.2 μ m-2 μ m。
[0018]特別是所述的鐵氧體為鐵及其氧化物或氮化物、鐵合金及其氧化物或氮化物。
[0019]鐵氧體在高頻時具有較高的磁導(dǎo)率，因而鐵氧體構(gòu)成的導(dǎo)磁膜層能引導(dǎo)高頻段的電磁波向屏蔽層傳播，同時由于鐵氧體具有較高的電阻率，使用時產(chǎn)生的渦流損耗也較小。
[0020]其中，所述的屏蔽層是以金屬或其合金為靶材，通過磁控濺射在所述導(dǎo)磁層上形成的膜層，屏蔽層的厚度為0.1 μ m-2 μ m。
[0021]特別是所述的金屬或其合金為金、銀、鎳、銅、鎘、鉻、鋅、鐵等或其合金。
[0022]在吸波層、導(dǎo)磁層傳導(dǎo)的電磁波部分轉(zhuǎn)換成熱能，部分被釋放，屏蔽層能夠有效地接收釋放的電磁波。
[0023]其中，所述的導(dǎo)電膠層為由導(dǎo)電膠涂料制成的膜層，導(dǎo)電膠層的厚度為5 μ m-50 μ m，可以為各向同性導(dǎo)電膠層或各向異性導(dǎo)電膠層，所述的導(dǎo)電膠涂料包括基體樹脂、導(dǎo)電粒子、無機(jī)填料、固化劑和有機(jī)溶劑，其中導(dǎo)電粒子可以是具有橫向或縱向取向的導(dǎo)電粒子，也可以是全方位導(dǎo)電粒子；其中，基體樹脂的含量為10wt%-40wt%，導(dǎo)電粒子的含量為10wt%-50wt%，無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，固化劑的含量為lwt%_5wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使導(dǎo)電膠涂料的固含量為25%-60%。
[0024]特別是，所述的基體樹脂為有機(jī)硅、有機(jī)氟、環(huán)氧樹脂、丙烯酸、聚氨酯、聚酯或其改性樹脂；所述的導(dǎo)電粒子為金、銀、鎳、銅、鎘、鉻、鋅、鐵等或其合金；所述的無機(jī)填料為硫酸鋇、碳酸鈣、滑石粉、云母、硅灰石、高嶺土、氫氧化鋁、氫氧化鎂中的一種或一種以上，優(yōu)選為硫酸鋇；所述的固化劑為異氰酸酯、酸酐、氨基樹脂中的一種或一種以上，所述的溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯或PMA等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
[0025]導(dǎo)電膠層可以將各層吸收傳導(dǎo)的電磁波通過軟連接或熱固連接接地。
[0026]其中，所述的保護(hù)膜層可以為PET、PEN、P1、PE、PP等聚酯薄膜。
[0027]本發(fā)明另一方面提供了一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的制作方法，包括:在基底膜層經(jīng)電暈預(yù)處理的一側(cè)表面附著接著層，形成載體膜層，然后在所述接著層的表面依次疊加吸波層、功能層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層。
[0028]其中，所述的功能層包括導(dǎo)磁層和屏蔽層，可選的包括吸波層。
[0029]優(yōu)選的，所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的制作方法，包括以下步驟:
[0030]I)在基底膜層一側(cè)表面進(jìn)行電暈預(yù)處理，并在經(jīng)電暈預(yù)處理的一側(cè)表面附著接著層，形成載體膜層，其中接著層的厚度為0.1 μ m-5 μ m ；
[0031]2)在所述接著層的表面涂覆吸波涂料，形成吸波層，吸波層的厚度為2 μ m-50 μ m ；
[0032]3)在所述吸波層的表面，以鐵氧體為靶材，進(jìn)行磁控濺射鍍膜，形成導(dǎo)磁層，導(dǎo)磁層的厚度為0.1 μ m-2 μ m ；
[0033]4)在所述導(dǎo)磁層的表面，以金屬或其合金為靶材，進(jìn)行磁控濺射鍍膜，形成屏蔽層，屏蔽層的厚度為0.1 μ m_2 U m ；
[0034]5)在所述屏蔽層的表面涂覆導(dǎo)電膠涂料，形成導(dǎo)電膠層，導(dǎo)電膠層的厚度為5 μ m-50 μ m ；
[0035]6)在所述導(dǎo)電膠層的一側(cè)表面附上保護(hù)膜層。
[0036]按照上述方法制成的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜由依次疊加的載體膜層、吸波層、導(dǎo)磁層、屏蔽層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層組成。使用時，先將保護(hù)膜層撕下，將導(dǎo)電膠膜層面附上電路板熱壓或冷粘，然后去掉載體膜，使吸波層外露即可。
[0037]其中，步驟I)所述的基底膜層為PET、PEN、P1、PE、PP等聚酯薄膜。
[0038]其中，步驟I)所述的電暈預(yù)處理過程中電壓為5000-20000V，處理后的基底膜的表面張力達(dá)到35-60達(dá)因,可增強(qiáng)基底膜與接著層涂料的結(jié)合力。
[0039]其中，步驟I)所述的附著接著層是指采用普通網(wǎng)印技術(shù)或微凹版涂覆接著層涂料形成接著層，特別是，所述的接著層涂料包括樹脂和有機(jī)溶劑，尤其是，所述的樹脂為丙烯酸、聚酯、聚氨酯、有機(jī)硅、有機(jī)氟等樹脂或其改性樹脂，所述的有機(jī)溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯、PMA等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。其中，樹脂的含量為5wt%-40wt%。
[0040]其中，當(dāng)步驟2)所述的吸波層的厚度為2 μ m-10 μ m時，可選擇網(wǎng)輥、膠輥、微凹版等方式進(jìn)行涂覆；當(dāng)步驟2)所述的吸波層的厚度為10 μ m-50 μ m時，可選擇刮刀或狹縫擠出的方式進(jìn)行涂覆。
[0041]其中，步驟2)所述的吸波涂料包括樹脂、鐵氧體、無機(jī)填料和有機(jī)溶劑，其中樹脂的含量為10wt%_40wt%,鐵氧體的含量為5wt%_40wt%,無機(jī)填料的含量為4wt%_20wt%,添加有機(jī)溶劑，并控制吸波涂料的固含量為30-60%。
[0042]其中，步驟2)所述的樹脂為有機(jī)硅、有機(jī)氟、環(huán)氧樹脂、丙烯酸、聚氨酯、聚酯等樹脂或其改性樹脂，所述的鐵氧體為鐵及其氧化物或氮化物、鐵合金及其氧化物或氮化物，粒度在0.1 μ m-2 μ m，所述的無機(jī)填料為硫酸鋇、碳酸鈣、滑石粉、云母、硅灰石、高嶺土、氫氧化鋁、氫氧化鎂中的一種或一種以上，所述的溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯或PMA等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
[0043]其中，步驟3)所述的鐵氧體為鐵及其氧化物或氮化物、鐵合金及其氧化物或氮化物。特別是，當(dāng)以鐵為靶材時可采用普通電源實現(xiàn)的磁控濺射，以鐵的氧化物或氮化物為靶材時需采用射頻電源實現(xiàn)的磁控濺射。[0044]其中，步驟4)所述的金屬可以是金、銀、鎳、銅、鎘、鉻、鋅、鐵等或其合金。特別是，所述的磁控濺射，可采用普通電源或射頻電源實現(xiàn)，優(yōu)選采用射頻電源。
[0045]其中，步驟5)所述的涂覆可采用刮刀涂布形或狹縫擠出等常規(guī)涂覆方式。
[0046]其中，步驟5)所述的導(dǎo)電膠涂料包括基體樹脂、導(dǎo)電粒子、無機(jī)填料、固化劑和有機(jī)溶劑，其中基體樹脂的含量為10wt%-40wt%，導(dǎo)電粒子的含量為10wt%-50wt%，無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，固化劑的含量為lwt%_5wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使導(dǎo)電膠涂料的固含量為25%-60%。
[0047]特別是，步驟5)所述的基體樹脂為有機(jī)硅、有機(jī)氟、環(huán)氧樹脂、丙烯酸、聚氨酯、聚酯或其改性樹脂；所述的導(dǎo)電粒子為金、銀、鎳、銅、鎘、鉻、鋅、鐵等或其合金；所述的無機(jī)填料為硫酸鋇、碳酸鈣、滑石粉、云母、硅灰石、高嶺土、氫氧化鋁、氫氧化鎂中的一種或一種以上；所述的固化劑為異氰酸酯、酸酐、氨基樹脂中的一種或一種以上，所述的溶劑為丁酮、丙酮、乙酯、丁酯或PMA等揮發(fā)性有機(jī)溶劑。根據(jù)需要，還可以添加勻染劑、消泡劑、分散劑等至導(dǎo)電膠。
[0048]其中，步驟6)所述的保護(hù)膜層可以為PET、PEN、P1、PE、PP等聚酯薄膜。
[0049]所述的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的制作方法還可以是:在載體膜層的表面依次疊加吸波層、屏蔽層、導(dǎo)磁層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層；或者是在載體膜層的表面依次疊加吸波層、屏蔽層、導(dǎo)磁層、吸波層、屏蔽層、導(dǎo)磁層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層。
[0050]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn)和效果:
[0051]1.本發(fā)明所制作的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，不僅對外界及電子元器件內(nèi)部產(chǎn)生的電磁干擾具有良好的屏蔽效果，還能吸收環(huán)境中的電磁波，阻止內(nèi)部電磁波外泄，減少電磁污染，利于環(huán)保。
[0052]2.本發(fā)明所制作的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的功能層，即吸波層、導(dǎo)磁層、屏蔽層、導(dǎo)電膠層，可以根據(jù)具體需要更換順序或反復(fù)疊加，適用范圍廣，多層實現(xiàn)可實現(xiàn)更好的屏蔽效能。尤其是，屏蔽層可選擇多種金屬反復(fù)鍍膜，以實現(xiàn)較寬頻率范圍內(nèi)良好的屏蔽效果。
[0053]3.本發(fā)明制作導(dǎo)磁膜層和屏蔽層時采用磁控濺射方式實現(xiàn)，操作簡單，安全便捷，適宜工業(yè)化推廣，所鍍膜層輕薄均勻致密，柔軟可彎折、抗拉性能優(yōu)異，可以黏貼在任何電子元器件表面，操作簡單，屏蔽效果好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0054]圖1為本發(fā)明實施例1和3的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0055]圖2為本發(fā)明實施例2的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0056]圖3為本發(fā)明實施例4的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0057]下面結(jié)合具體實施例和附圖進(jìn)一步描述本發(fā)明，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)將會隨著描述而更為清楚。但實施例僅是范例性的，并不對本發(fā)明的范圍構(gòu)成任何限制。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍下可以對本發(fā)明技術(shù)方案的細(xì)節(jié)和形式進(jìn)行修改或替換，但這些修改和替換均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0058]實施例1[0059]如圖1所示，本發(fā)明的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜從內(nèi)到外依次包括載體膜層1、吸波層2、導(dǎo)磁層3、屏蔽層4、導(dǎo)電膠層5和保護(hù)膜層6。
[0060]1.制作載體膜層:
[0061]1)選擇厚度為50 μ m,寬度600mm的PET聚酯薄膜作為基底膜層，對該膜層的一側(cè)表面進(jìn)行電暈預(yù)處理，其中，預(yù)處理過程中電壓為20000V，其表面張力達(dá)到60達(dá)因；然后在經(jīng)電暈預(yù)處理的一側(cè)表面采用普通網(wǎng)印技術(shù)涂覆接著層，涂覆后烘干形成載體膜層，烘干溫度為150°C,干燥時間為50秒。
[0062]其中，所述的形成接著層的涂料選擇環(huán)氧樹脂和乙酯按照40:60的重量比配置而成，接著層的厚度為2.5μπι。
[0063]2.疊加吸波層:
[0064]在所述接著層的表面采用狹縫擠出方式涂覆吸波涂料，涂覆后烘干形成吸波層，吸波層的厚度為25 μ m，烘干時間為2分鐘，烘干溫度為160°C。
[0065]其中，所述的吸波涂料的組分及含量為:
[0066]有機(jī)硅樹脂10%
[0067]氧化鐵40%
[0068]硫酸鋇 4%
[0069]乙酯46%
[0070]其中，涂料中固體物質(zhì)均為粉末狀，平均粒度低于10 μ m，其含量為44%。按照上述比例配置涂料后勻速攪拌即得。
[0071]3.疊加導(dǎo)磁層:
[0072]對所述吸波層的表面進(jìn)行磁控濺射，控制磁控濺射設(shè)備的真空腔的溫度為-250°C，在高純氬氣環(huán)境下采用射頻電源支持的磁控濺射方式采用氧化鐵(純度大于99%)靶，控制靶室溫度在100°C以下，在所述吸波層的表面沉積鍍膜，形成導(dǎo)磁層，導(dǎo)磁層的厚度為I μ m。
[0073]其中，磁控濺射的工作條件如下:
[0074]工作氣體:高純氬氣(99.99%)
[0075]工作氣壓:20X 1-3mMPb
[0076]濺射電流:1A
[0077]電源功率:600KW
[0078]派射速度:5m/min
[0079]其中，工作氣體除了氬氣之外,其他氣體如氦氣、氮?dú)獾染m用于本發(fā)明。
[0080]4.疊加屏蔽層:
[0081]對所述導(dǎo)磁層的表面進(jìn)行磁控濺射，采用與步驟3相同的工藝條件，以銅鎳合金(57:43)為靶材，在所述導(dǎo)磁層表面沉積鍍膜，形成屏蔽層，屏蔽層的厚度為Ιμπι。
[0082]5.疊加導(dǎo)電膠層:
[0083]在所述屏蔽層的表面采用狹縫擠出方式涂覆導(dǎo)電膠涂料，形成導(dǎo)電膠層，導(dǎo)電膠層的厚度為50 μ m。
[0084]其中，所述的導(dǎo)電膠涂料的組成及含量為:
[0085]
【權(quán)利要求】
1.一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，包括依次疊加的載體膜層、吸波層、導(dǎo)電膠層和保護(hù)膜層，其中在吸波層和導(dǎo)電膠層之間包括導(dǎo)磁層和屏蔽層。
2.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的導(dǎo)磁層和屏蔽層是在所述吸波層的表面按照導(dǎo)磁層、屏蔽層的順序疊加。
3.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的載體膜層包括經(jīng)電暈預(yù)處理的基底膜層和附著在其電暈預(yù)處理表面的接著層，其中接著層的厚度為0.1 μ m_5 μ m。
4.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的吸波層為由吸波涂料制成的膜層，吸波層的厚度為2 μ m-50 μ m,所述的吸波涂料包括樹脂、鐵氧體、無機(jī)填料和有機(jī)溶劑，其中樹脂的含量為10wt%-40wt%，鐵氧體的含量為5wt%-40wt%，無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使吸波涂料的固含量為30%-60%。
5.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的導(dǎo)磁層是以鐵氧體為靶材，通過磁控濺射在所述吸波層上形成的膜層，導(dǎo)磁層的厚度為0.2 μ m-2 μ m。
6.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的屏蔽層是以金屬或其合金為靶材，通過磁控濺射在所述導(dǎo)磁層上形成的膜層，屏蔽層的厚度為0.1 μ m-2 μ m。
7.如權(quán)利要求1所述的一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜，其特征在于，所述的導(dǎo)電膠層為由導(dǎo)電膠涂料制成的膜層，導(dǎo)電膠層的厚度為5 μ m-50 μ m，所述的導(dǎo)電膠涂料包括基體樹脂、導(dǎo)電粒子、無機(jī)填料、固化劑和有機(jī)溶劑，其中基體樹脂的含量為20wt%-50wt%，導(dǎo)電粒子的含量為10wt%-50wt%，無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，固化劑的含量為0.3wt%_5wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使導(dǎo)電膠涂料的固含量為25%-60%。
8.一種吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的方法，其特征在于，包括以下制作步驟: 1)在基底膜層一側(cè)表面進(jìn)行電暈預(yù)處理，并在經(jīng)電暈預(yù)處理的一側(cè)表面附著接著層，形成載體膜層，其中接著層的厚度為0.1 μ m-5 μ m ； 2)在所述接著層的表面涂覆吸波涂料，形成吸波層，吸波層的厚度為2μ m-50 μ m ； 3)在所述吸波層的表面，以鐵氧體為靶材，進(jìn)行磁控濺射鍍膜，形成導(dǎo)磁層，導(dǎo)磁層的厚度為 0.1 μ m-2 μ m ； 4)在所述導(dǎo)磁層的表面，以金屬或其合金為靶材，進(jìn)行磁控濺射鍍膜，形成屏蔽層，屏蔽層的厚度為0.1 μ m-2 μ m ； 5)在所述屏蔽層的表面涂覆導(dǎo)電膠涂料，形成導(dǎo)電膠層，導(dǎo)電膠層的厚度為5 μ m-50 μ m ； 6)在所述導(dǎo)電膠層的一側(cè)表面附上保護(hù)膜層。
9.如權(quán)利要求7所述的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述的吸波涂料包括樹脂、鐵氧體、無機(jī)填料和有機(jī)溶劑，其中樹脂的含量為10wt%-40wt%，鐵氧體的含量為5wt%-40wt%,無機(jī)填料的含量為4wt%-20wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使吸波涂料的固含量為30-60%ο
10.如權(quán)利要求7所述的吸波導(dǎo)磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述的導(dǎo)電膠涂料包括基體樹脂、導(dǎo)電粒子、無機(jī)填料、固化劑和有機(jī)溶劑，其中基體樹脂的含量為10wt%_40wt%,導(dǎo)電粒子的含量為10wt%_50wt%,無機(jī)填料的含量為4wt%_20wt%,固化劑的含量為lwt%-5wt%，調(diào)整有機(jī)溶劑的用量使導(dǎo)電膠涂料的固含量為25%-60%。
【文檔編號】C23C14/35GK104039121SQ201310075143
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2013年3月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月8日
【發(fā)明者】祝瓊 申請人:祝瓊