一種三維移動陰極磁控濺射靶的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種三維移動陰極磁控濺射靶，其主結(jié)構(gòu)包括支撐平臺、水平導(dǎo)軌、垂直導(dǎo)軌、垂直移動平臺、靶材支架。所述支撐平臺是用來承載所述垂直移動平臺和所述靶材支架并沿所述水平導(dǎo)軌運(yùn)動。所述支撐平臺底部左右兩端各有兩個輪子可以沿導(dǎo)軌滾動，右端通過螺紋孔與一根水平的螺桿相連，水平螺桿控制所述支撐平臺的水平移動。中間部位固定所述垂直導(dǎo)軌及其電動控制裝置。對于大面積的復(fù)合曲面基材，由于真空室空間的限制，移動基材是不現(xiàn)實(shí)的，只靠一維的平面運(yùn)動不能實(shí)現(xiàn)鍍膜的連續(xù)性和均勻性。三維移動的陰極磁控濺射靶材，能夠?qū)崿F(xiàn)快速、均勻的大面積鍍膜。
【專利說明】-種三維移動陰極磁控濺射靶

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種三維移動陰極磁控濺射靶，特別涉及用于真航空領(lǐng)域，對復(fù)合曲 面進(jìn)行大面積鍍膜的一種三維移動陰極磁控濺射靶。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備，基本都是靶材固定不動，靠移動基材來使鍍膜均勻。然而對 于大面積的基材，由于真空室空間的限制，移動基材是不現(xiàn)實(shí)的，為解決這個問題，就需要 改為移動靶材來完成鍍膜的工作。此外，如對于大面積且系復(fù)合曲面基材時，只靠水平的直 線運(yùn)動無法實(shí)現(xiàn)鍍膜的連續(xù)性和均勻性。因此復(fù)合曲面的大面積鍍膜，需要設(shè)計一種可以 三維移動的陰極磁控濺射靶材，才能夠?qū)崿F(xiàn)快速、均勻的大面積鍍膜。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在于提供一種三維移動陰極磁控濺射靶，在基材不移動的情況下， 靶材以三維方式移動來實(shí)現(xiàn)快速、均勻的大面積復(fù)合曲面鍍膜。
[0004] 為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明采用一下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：
[0005] -種三維移動陰極磁控濺射靶，其主結(jié)構(gòu)包括支撐平臺、水平導(dǎo)軌、垂直導(dǎo)軌、垂 直移動平臺、靶材支架。所述支撐平臺是用來承載所述垂直移動平臺和所述靶材支架并沿 所述水平導(dǎo)軌運(yùn)動。所述支撐平臺底部左右兩端各有兩個輪子可以沿導(dǎo)軌滾動，右端通過 螺紋孔與一根水平的螺桿相連，水平螺桿控制所述支撐平臺的水平移動。中間部位固定所 述垂直導(dǎo)軌及其電動控制裝置。
[0006] 優(yōu)選的，所述水平導(dǎo)軌安裝在真空室底部，由兩條導(dǎo)軌和一條螺桿組成。所述支撐 平臺通過兩端的四個輪子可以在導(dǎo)軌上作水平運(yùn)動，由螺桿傳動精確控制其水平位移。
[0007] 優(yōu)選的，所述垂直導(dǎo)軌由四根螺桿構(gòu)成，支撐著所述垂直移動平臺。螺桿與所述支 撐平臺連接處沒有螺紋，通過軸承固定在所述支撐平臺上。螺桿底部安裝鏈輪，四個鏈輪由 鏈條連接在一起并由電動控制裝置以達(dá)到運(yùn)動的一致性。鏈條、鏈輪以及電動控制裝置的 主動輪都在所述支撐平臺的下方。
[0008] 優(yōu)選的，所述垂直移動平臺用來承載所述靶材支架作垂直運(yùn)動。所述垂直移動平 臺四個角有螺紋孔與螺桿連接，中間部位用螺栓固定所述靶材支架。
[0009] 優(yōu)選的，所述靶材支架承載著靶材，其材料為不銹鋼。
[0010] 靶材的運(yùn)動均由預(yù)先編寫的電腦程式控制，使其軌跡與基材外部曲面對應(yīng)。
[0011] 以上說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】并配合附圖對本專利進(jìn)行 說明。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] 圖1是本發(fā)明三維移動陰極磁控濺射靶結(jié)構(gòu)三視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0013] 如圖1所示，本發(fā)明三維移動陰極磁控濺射靶，其主結(jié)構(gòu)包括支撐平臺1、水平導(dǎo) 軌3、垂直導(dǎo)軌5、垂直移動平臺6、靶材支架7。
[0014] 支撐平臺1是用來承載垂直移動平臺6和靶材支架7并沿水平導(dǎo)軌3運(yùn)動。支撐 平臺1底部左右兩端各有兩個輪子4可以沿導(dǎo)軌3滾動。右端通過螺紋孔與一根水平螺桿 2相連，水平螺桿2控制支撐平臺1的水平移動。中間部位固定垂直導(dǎo)軌5及其電動控制裝 置。
[0015] 水平導(dǎo)軌3安裝在真空室底部，由兩條導(dǎo)軌3和一條螺桿2組成。支撐平臺1通 過兩端的四個輪子4可以在水平導(dǎo)軌3上作水平運(yùn)動，由水平螺桿2傳動精確控制其水平 位移。
[0016] 垂直導(dǎo)軌5由四根螺桿構(gòu)成，支撐著垂直移動平臺6。螺桿與支撐平臺1連接處沒 有螺紋，通過軸承8固定在支撐平臺上。螺桿底部安裝鏈輪9,四個鏈輪由鏈條連接在一起 并由電動控制裝置以達(dá)到運(yùn)動的一致性。鏈條、鏈輪9以及電動控制裝置的主動輪都在支 撐平臺1的下方。
[0017] 垂直移動平臺6用來承載靶材支架7作垂直運(yùn)動。平臺四個角有螺紋孔與螺桿連 接，中間部位用螺栓固定靶材支架7。
[0018] 靶材支架7承載著靶材，其材料為不銹鋼。
[0019] 上述實(shí)例可在不脫離本發(fā)明的范圍下加以若干變化，故以上的說明及附圖中所示 的結(jié)構(gòu)應(yīng)視為示例性，而非用以限制本發(fā)明的申請專利范圍。凡根據(jù)本發(fā)明做出的等效變 化或修飾，都涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 三維移動陰極磁控濺射靶，其特征在于：包括支撐平臺、縱向?qū)к?、垂直?dǎo)軌、垂直 移動平臺、靶材支架，所述支撐平臺左右兩端各有兩個輪子可以沿水平導(dǎo)軌滾動，承載著垂 直移動平臺和靶材支架，所述支撐平臺右端通過螺紋孔與一根水平的螺桿相連，水平螺桿 控制所述支撐平臺的水平移動，中間部位固定所述垂直導(dǎo)軌及其電動控制裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維移動陰極磁控濺射靶，其特征在于：水平導(dǎo)軌由兩條導(dǎo) 軌和一條螺桿組成，螺桿傳動可以精確控制支撐平臺的水平位移。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維移動陰極磁控濺射靶，其特征在于：垂直導(dǎo)軌由四根螺 桿組成，螺桿傳動精確控制垂直移動平臺的垂直位移。螺桿底部四個鏈輪由主動輪帶動，保 證其運(yùn)動一致性。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維移動陰極磁控濺射靶，其特征在于：垂直移動平臺承載 靶材支架作垂直運(yùn)動，平臺四個角有螺紋孔與螺桿相連以達(dá)到運(yùn)動的目的。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維移動陰極磁控濺射靶，其特征在于：靶材的運(yùn)動均由預(yù) 先編寫的電腦程式控制，使其軌跡與基材外部曲面對應(yīng)。
【文檔編號】C23C14/35GK104099574SQ201310125541
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年4月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月12日
【發(fā)明者】韓裕鯤 申請人:昆山艾諾美航天材料有限公司