一種透光隔熱膜及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種透光性能優(yōu)良、紅外和紫外反射率均較高、制造工藝簡(jiǎn)單，經(jīng)久耐用的可靜電粘附隔熱膜的制造方法，可靜電粘附隔熱膜的制造方法，通過(guò)在所提供的基材層上疊加各功能層實(shí)現(xiàn)。
【專利說(shuō)明】一種透光隔熱膜及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種透光隔熱膜及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隔熱膜的主要作用是在阻礙熱量的傳遞。隔熱膜不僅廣泛使用于各種交通工具 上，也大量使用在建筑物上。據(jù)統(tǒng)計(jì)，在一般的商業(yè)大樓中，和空調(diào)相關(guān)的用電量約占總用 電量的47%。所以，降低空調(diào)的用電需求，對(duì)于節(jié)省大樓運(yùn)作成本是一項(xiàng)很重要的課題。
[0003]太陽(yáng)光中的紅外線部分是自然界最主要的熱源。太陽(yáng)光(特別是其中的紅外線部 分)進(jìn)入商業(yè)大樓內(nèi)部后，會(huì)使得室內(nèi)溫度提高，為降低進(jìn)入建物內(nèi)的太陽(yáng)輻射，一般會(huì)在 商業(yè)大樓的窗戶貼上隔熱膜。然而，隔熱膜除了能夠阻擋太陽(yáng)光中的紅外線部分，也會(huì)阻擋 太陽(yáng)光中的可見(jiàn)光，而導(dǎo)致商業(yè)大樓內(nèi)部空間的亮度降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種透光性能優(yōu)良、紅外和紫外反射率均較高、制造工藝 簡(jiǎn)單，經(jīng)久耐用的透光隔熱膜及其制造方法。
[0005]本發(fā)明的目的通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0006]一種透光隔熱膜的制造方法，包括以下步驟:
[0007](I)提供基材；
[0008](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材上表面沉積鈦層，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積 表面施加一個(gè)方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒沉積方向一致；
[0009](3)在鈦層表面沉積氮化鈦層；
[0010](4)將步驟(3)制得的半成品烘干；
[0011](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積一層鍍膜層；
[0012](6)將步驟(5)制得的半成品烘干；
[0013](7)在鍍膜層表面涂布一層具有抗沖擊性的抗刮層；
[0014](8)基材下表面涂布黏膠層；
[0015](9)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0016](10)最后經(jīng)過(guò)干燥，一體成型得到所述的透光隔熱膜。
[0017]優(yōu)選的，基材為碳纖維膜；
[0018]優(yōu)選的，所施加的方向控制電場(chǎng)為豎直方向，使得鈦層晶粒呈豎條狀排列。
[0019]優(yōu)選的，在鈦層表面沉積氮化鈦層采用物理氣相沉積工藝。
[0020]優(yōu)選的，所述鍍膜層為氧化銀、氧化鋅或氧化鎳。
[0021]優(yōu)選的，所述抗刮層為PET保護(hù)膜。
[0022]優(yōu)選的，所述移除膜為PET保護(hù)膜。
[0023]優(yōu)選的，物理氣相沉積工藝(PVD)的沉積溫度為50_100°C，沉積時(shí)間為0.5_lh。
[0024]優(yōu)選的，所述烘干溫度為80_110°C，烘干時(shí)間為2_3h;所述干燥溫度為120-140°C，干燥時(shí)間為3-4h。
[0025]更優(yōu)選的，在鍍膜層與抗刮層之間還涂布有一電介質(zhì)層。
[0026]更優(yōu)選的，在步驟(6)和步驟(7)之間增加電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層與抗刮層之 間沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電 介質(zhì)層沉積，使得在沉積過(guò)程中，沉積速率隨時(shí)間不斷提高，該層的沉積品質(zhì)也顯著提高。
[0027]更優(yōu)選的，在PET保護(hù)膜表面再覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳素網(wǎng)；在絲 網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護(hù)膜。
[0028]更優(yōu)選的，在第二 PET保護(hù)膜上覆蓋耐磨層，耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成。
[0029]更優(yōu)選的，在第二 PET保護(hù)膜上覆蓋隔熱增強(qiáng)層和耐磨層之間增加隔熱增強(qiáng)層； 所述隔熱增強(qiáng)層的組份組成(Kg)如下:
[0030]
EVA90
聚異丁烯6
二氧化欽2
氧化鋅2
UV-5310.03
UV-3270.03
乙二醇單丁醚 0.45
羥基丙烯酸水溶性分散液0.8。
[0031]物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)工藝表示在真空條件下,采用 物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過(guò) 低壓氣體(或等離子體)過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，其中電離 為離子的情形即為離子化的物理氣相沉積(IPVD)。物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、 濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不 僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。
[0032]優(yōu)選地，物理氣相沉積為離子化的物理氣相沉積。
[0033]濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過(guò)粒子動(dòng)量傳遞打出 靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。在磁控濺射中，由于磁場(chǎng) 作用，等離子體區(qū)被強(qiáng)烈地束縛在距靶面附近大約60_的區(qū)域內(nèi)，被濺射出的靶材粒子若 直接沉積到基體表面，其速度較小，粒子能量較低，膜-基結(jié)合強(qiáng)度較差，且低能量的原子 沉積在基體表面遷移率低，易生成多孔粗糙的柱狀結(jié)構(gòu)薄膜。最直接的解決方案是給基體 施加一定的負(fù)偏壓。當(dāng)基體加負(fù)偏壓時(shí)，等離子體中的離子將受到負(fù)偏壓電場(chǎng)的作用而加 速飛向基體。到達(dá)基體表面時(shí)，離子轟擊基體，并將從電場(chǎng)中獲得的能量傳遞給基體，導(dǎo)致 基體溫度升高，因此要選擇適當(dāng)?shù)呢?fù)偏壓，并且水冷冷卻輥。
[0034]本發(fā)明還保護(hù)根據(jù)上述方法制造得到的透光隔熱膜。[0035]本發(fā)明可以達(dá)到的有益效果如下:
[0036](I)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，與傳統(tǒng)的工藝不同的是， 在鈦離子沉積到基材表面時(shí)，受到方向控制電場(chǎng)的影響，使得鈦層晶粒規(guī)則排布，鈦晶粒之 間的緊湊性和方向性都有了顯著的提高，膜的牢固性增強(qiáng)，透光性能良好。
[0037](2)鈦層與氮化鈦層結(jié)合的使用使得增透作用增強(qiáng)，隔熱膜的整體性能更佳。
[0038](3)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積鍍膜層，該方法利用電磁場(chǎng)的相關(guān) 原理進(jìn)行鍍膜，涂覆效果優(yōu)于普通的涂布技術(shù)和沉積技術(shù)，獲得的隔熱效果和透光率也更 佳。
[0039](4)增加電介質(zhì)沉積層，并且采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層 沉積，使得在沉積過(guò)程中，沉積速率隨時(shí)間不斷提高，該層的沉積品質(zhì)也顯著提高，可見(jiàn)光 區(qū)透光率以及近紅外區(qū)光的屏蔽率更高，使用壽命更長(zhǎng)。
[0040](5)增加金屬絲網(wǎng)層，進(jìn)一步提高隔熱膜強(qiáng)度及使用壽命。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0041]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1的透光隔熱膜的結(jié)構(gòu)圖；
[0042]圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例2、3的含電介質(zhì)層的透光隔熱膜的結(jié)構(gòu)圖；
[0043]圖3為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例4的透光隔熱膜的結(jié)構(gòu)圖；
[0044]圖4根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例5的透光隔熱膜的結(jié)構(gòu)圖；
[0045]圖5為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例6的透光隔熱膜的結(jié)構(gòu)圖；
[0046]圖6為本發(fā)明的制造工藝圖；
[0047]圖中:1、移除膜；2、黏膠層；3、抗刮層(第一 PET保護(hù)膜)；4、鍍膜層；5、氮化鈦 層；6、鈦層；7、基材；8、電介質(zhì)層；9、絲網(wǎng)；10、第二 PET保護(hù)膜；11、耐磨層、12、隔熱增強(qiáng)層。
【具體實(shí)施方式】
[0048]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施據(jù)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0049]實(shí)施例1
[0050]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0051](I)提供基材，基材為碳纖維月旲;
[0052](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為80°C，沉積時(shí) 間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀排 列；
[0053](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0054](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為80°C，烘干時(shí)間為2_3h ；
[0055](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積氧化鎳鍍膜層；
[0056](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為2_3h ；
[0057](7)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0058](8)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0059](9)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；[0060](10)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為120°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0061]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.45mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.02mm、 氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.02mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為0.1Omm黏膠 層厚度為0.10mm，移除膜厚度為0.10mm。
[0062]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.30-0.80mm，其中碳纖維膜厚度為 0.06-0.10mm、鈦層厚度為0.01-0.05mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.05mm、氧化鎳鍍膜層厚度 為0.01-0.05mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為0.08-0.25mm黏膠層厚度為0.07-0.20mm,移除膜 厚度為 0.05-0.10mm。
[0063]實(shí)施例2
[0064]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0065](I)提供基材,基材為碳纖維膜；
[0066](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為80°C，沉積時(shí) 間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀排 列；
[0067](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0068](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為80°C，烘干時(shí)間為2_3h ；
[0069](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積氧化鎳鍍膜層；
[0070](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為2_3h ；
[0071](7)采用電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝 采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積；
[0072](8)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0073](9)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0074](10)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0075](11)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為120°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0076]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.50mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.03mm、 氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.03mm、二氧化娃電介質(zhì)層厚度為0.03mm、 第一 PET保護(hù)膜厚度為0.10mm、黏膠層厚度為0.10mm，移除膜厚度為0.10mm。
[0077]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.30-0.90mm，其中碳纖維膜厚度為 0.06-0.10mm、鈦層厚度為0.02-0.07mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.06mm、氧化鎳鍍膜層 厚度為0.01-0.06mm、二氧化硅電介質(zhì)層厚度為0.02-0.06mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為 0.06-0.25mm、黏膠層厚度為0.07-0.20mm，移除膜厚度為0.04-0.10mm。
[0078]實(shí)施例3
[0079]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0080](I)提供基材，基材為碳纖維月旲;
[0081](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為100°C，沉積 時(shí)間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀 排列；[0082](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0083](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0084](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積氧化鎳鍍膜層；
[0085](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0086](7)采用電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝 采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積；
[0087](8)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0088](9)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0089](10)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0090](11)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為140°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0091]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.50mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.03mm、 氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.03mm、二氧化娃電介質(zhì)層厚度為0.03mm、 第一 PET保護(hù)膜厚度為0.10臟、黏膠層厚度為0.10mm，移除膜厚度為0.10mm。
[0092]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.36-0.90mm，其中碳纖維膜厚度為 0.06-0.10mm、鈦層厚度為0.02-0.07mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.06mm、氧化鎳鍍膜層 厚度為0.02-0.06mm、二氧化硅電介質(zhì)層厚度為0.02-0.06mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為 0.08-0.25mm、黏膠層厚度為0.08-0.20mm，移除膜厚度為0.06-0.10mm。
[0093]實(shí)施例4
[0094]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0095](I)提供基材，基材為碳纖維月旲;
[0096](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為100°C，沉積 時(shí)間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀 排列；
[0097](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0098](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0099](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積鍍膜層。其中的鍍膜層選自氧化銀、 氧化鋅或氧化鎳中的一種；
[0100](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0101](7)采用電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝 采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積；
[0102](8)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0103](9)在第一 PET保護(hù)膜表面覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳纖維絲網(wǎng)；
[0104](10)在絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護(hù)膜；
[0105](11)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0106](12)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0107](13)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為140°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0108]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.55mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.03mm、氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.03mm、二氧化娃電介質(zhì)層厚度為0.03mm、 第一 PET保護(hù)膜厚度為0.05mm、絲網(wǎng)厚度為0.05mm、第二 PET膜厚度為0.05mm、黏膠層厚度 為0.1Omm,移除膜厚度為0.10mm。
[0109]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.38-0.95mm，其中碳纖維膜厚度為 0.05-0.10mm、鈦層厚度為0.02-0.08mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.08mm、氧化鎳鍍膜層 厚度為0.02-0.08mm、二氧化硅電介質(zhì)層厚度為0.02-0.08mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為 0.03-0.08mm、絲網(wǎng)厚度為0.03-0.08mm、第二 PET膜厚度為0.03-0.08mm、黏膠層厚度為 0.08-0.17mm，移除膜厚度為 0.08-0.12mm。
[0110]實(shí)施例5
[0111]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0112](I)提供基材，基材為碳纖維月旲;
[0113](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為100°C，沉積 時(shí)間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀 排列；
[0114](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0115](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0116](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積鍍膜層。其中的鍍膜層選自氧化銀、 氧化鋅或氧化鎳中的一種；
[0117](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0118](7)采用電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝 采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積；
[0119](8)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0120](9)在第一 PET保護(hù)膜表面覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳纖維絲網(wǎng)；
[0121](10)在金屬絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護(hù)膜；
[0122](11)在第二 PET保護(hù)膜上覆蓋耐磨層，耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成；
[0123](12)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0124](13)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0125](14)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為140°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0126]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.60mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.03mm、 氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.03mm、二氧化娃電介質(zhì)層厚度為0.03mm、 第一 PET保護(hù)膜厚度為0.05mm、絲網(wǎng)厚度為0.05mm、第二 PET膜厚度為0.05mm、耐磨層厚度 為0.05mm、黏膠層厚度為0.10mm，移除膜厚度為0.10mm。
[0127]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.40-1.00mm，其中碳纖維膜厚度為
0.06-0.10mm、鈦層厚度為0.02-0.08mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.08mm、氧化鎳鍍膜層 厚度為0.02-0.08mm、二氧化硅電介質(zhì)層厚度為0.02-0.08mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為
0.03-0.08mm、絲網(wǎng)厚度為0.03-0.08mm、第二 PET膜厚度為0.03-0.08mm、耐磨層厚度為
0.02-0.07mm、黏膠層厚度為0.07-0.15mm，移除膜厚度為0.08-0.12mm。
[0128]實(shí)施例6[0129]制造透光隔熱膜，步驟如下:
[0130](I)提供基材，基材為碳纖維膜；
[0131](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材表面沉積鈦層，沉積溫度為100°C，沉積 時(shí)間為lh，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)豎直方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒呈豎條狀 排列；
[0132](3)在鈦層表面采用物理氣相沉積工藝沉積氮化鈦層；
[0133](4)將步驟(3)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0134](5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積鍍膜層。其中的鍍膜層選自氧化銀、 氧化鋅或氧化鎳中的一種；
[0135](6)將步驟(5)制得的半成品烘干，烘干溫度為100°C，烘干時(shí)間為3h ；
[0136](7)采用電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝 采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積；
[0137](8)在鍍膜層表面涂布一層第一 PET保護(hù)膜；
[0138](9)在第一 PET保護(hù)膜表面覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳纖維絲網(wǎng)；
[0139](10)在金屬絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護(hù)膜；
[0140](11)在第二 PET保護(hù)膜上覆蓋隔熱增強(qiáng)層；
[0141](12)在隔熱增強(qiáng)層上覆蓋耐磨層，耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成；
[0142](13)基材下表面涂布黏膠層，所述黏膠層由聚氨酯膠粘劑構(gòu)成；
[0143](14)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；
[0144](15)最后經(jīng)過(guò)干燥，干燥溫度為140°C，干燥時(shí)間為3h，一體成型得到所述的透光 隔熱膜。
[0145]其中，所述隔熱增強(qiáng)層的組份組成(Kg)如下:
[0146]
EVA90
聚異丁烯6
二氧化欽I
氧化鋅2
UV-5310.03
UV-3270.03
乙二醇單丁酸 0.45
擇基丙烯酸水溶性分散液0.8
[0147]所述隔熱增強(qiáng)層制造方法為:
[0148](A)首先稱取EVA、聚異丁烯、二氧化鈦、氧化鋅、UV-531、UV-327乙二醇單丁醚、羥 基丙烯酸水溶性分散液；
[0149](B)然后將稱取的組份混合，攪拌Ih使其混合均勻；[0150](C)將混合好的組份加入擠出機(jī)中，進(jìn)行擠出成膜，擠出隔熱膜的厚度為0.1mm, 控制擠出機(jī)溫度為180°C ；
[0151](D)將擠出成型的隔熱膜冷卻至室溫。
[0152]復(fù)合隔熱膜總厚度為0.70mm,其中碳纖維膜厚度為0.08mm、鈦層厚度為0.03mm、 氮化鈦層厚度為0.03mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.03mm、二氧化娃電介質(zhì)層厚度為0.03mm、 第一 PET保護(hù)膜厚度為0.05mm、絲網(wǎng)厚度為0.05mm、第二 PET膜厚度為0.05mm、隔熱增強(qiáng)層厚度為0.1_、耐磨層厚度為0.05_、黏膠層厚度為0.10mm，移除膜厚度為0.10mm。
[0153]可供選擇地，復(fù)合隔熱膜總厚度為0.45-1.17mm,其中碳纖維膜厚度為
0.06-0.10mm、鈦層厚度為0.02-0.08mm、氮化鈦層厚度為0.02-0.08mm、氧化鎳鍍膜層厚度為0.02-0.08mm、二氧化硅電介質(zhì)層厚度為0.02-0.08mm、第一 PET保護(hù)膜厚度為
0.03-0.08mm、絲網(wǎng)厚度為0.03-0.08mm、第二 PET膜厚度為0.03-0.08mm、隔熱增強(qiáng)層厚度為0.05-0.15mm、耐磨層厚度為0.02-0.07mm、黏膠層厚度為0.07-0.15mm，移除膜厚度為
0.08-0.12mm。
[0154]實(shí)施例7
[0155]隔熱膜的性能
[0156]選取市場(chǎng)上的兩種隔熱膜以及本發(fā)明實(shí)施例1-6制造的隔熱膜進(jìn)行測(cè)試，得到相關(guān)性能數(shù)據(jù)如表1所示:
[0157]表1實(shí)施例1-6制造的隔熱膜的性能
[0158]
【權(quán)利要求】
1.一種透光隔熱膜的制造方法，包括以下步驟:(1)提供基材；(2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材上表面沉積鈦層，在沉積過(guò)程中對(duì)沉積表面施加一個(gè)方向控制電場(chǎng)，使得鈦層晶粒沉積方向一致；(3)在鈦層表面沉積氮化鈦層；(4)將步驟(3)制得的半成品烘干；(5)采用偏壓磁控濺射方法在氮化鈦層上沉積一層鍍膜層；(6)將步驟(5)制得的半成品烘干；(7)在鍍膜層表面涂布一層抗刮層；(8)基材下表面涂布黏膠層；(9)在基材下表面的黏膠層上覆蓋移除膜；(10)最后經(jīng)過(guò)干燥，一體成型得到所述的透光隔熱膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所施加的方向控制電場(chǎng)為豎直方向，使得鈦層晶粒呈豎條狀排列，在鈦層表面沉積氮化鈦層采用物理氣相沉積工藝。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一所述的方法，其特征在于:所述鍍膜層為氧化銀、氧化鋅或氧化鎳。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的方法，其特征在于:所述抗刮層為PET保護(hù)膜；基材為碳纖維膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的方法，其特征在于:在鍍膜層與抗刮層之間還涂布有一層電介質(zhì)層，所述電介質(zhì)層為采用等離子變頻功率逐漸增強(qiáng)的方法進(jìn)行電介質(zhì)層沉積的二氧化硅電介質(zhì)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的方法，其特征在于:在PET保護(hù)膜表面再覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳素網(wǎng)；在絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護(hù)膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的方法，其特征在于:在第二PET保護(hù)膜上覆蓋耐磨層， 耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的方法，其特征在于:在第二 PET保護(hù)膜上覆蓋隔熱增強(qiáng)層和耐磨層之間增加隔熱增強(qiáng)層；所述隔熱增強(qiáng)層的組份組成(Kg)如下:EVA90聚異丁烯6二氧化鈥2氧化鋅2UV-5310.03UV-3270.03乙二醇單丁醚0.45寒基丙烯酸水溶性分散液0.8。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的方法，其特征在于:物理氣相沉積工藝(PVD)的沉積溫度為50-100°C，沉積時(shí)間為0.5-lh ;所述烘干溫度為80-110°C，烘干時(shí)間為2-3h ;所述干燥溫度為120-140°C，干燥時(shí)間為3_4h。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9所述的方法制造得到的`透光隔熱膜。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK103496202SQ201310380358
【公開(kāi)日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
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