一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室、過渡室、鍍膜室和收卷室，所述放卷室內(nèi)設(shè)有放卷輪盤，所述過渡室內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥，所述收卷室內(nèi)設(shè)有收卷輪盤和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述鍍膜室的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶，所述過渡室和鍍膜室的數(shù)量為多個(gè)，交錯(cuò)設(shè)置在所述放卷室和收卷室之間；所述鍍膜室的箱體頂壁和底壁上設(shè)置的磁控靶分別為鉻材料磁控靶和石墨材料磁控靶。采用上述連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)可以一次完成固態(tài)電容負(fù)極碳箔的制備，制備碳箔的成品率高。
【專利說明】一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是涉及一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)是一種常用的真空鍍膜設(shè)備，通常用于對(duì)較長(zhǎng)的軟質(zhì)帶材進(jìn)行鍍膜處理，現(xiàn)有技術(shù)中的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室、過渡室、鍍膜室和收卷室，所述放卷室內(nèi)設(shè)有放卷輪盤，所述過渡室內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥，所述收卷室內(nèi)設(shè)有收卷輪盤和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述鍍膜室的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶。以往制備固態(tài)電容負(fù)極碳箔采用了傳統(tǒng)方法，將鋁箔先腐蝕、后在化學(xué)液體中活化，待復(fù)碳、加溫烘烤等多道工序制成，碳箔制備工序復(fù)雜且勞動(dòng)強(qiáng)度大，成品率低。目前還沒有一次完成固態(tài)電容負(fù)極碳箔制備的專用設(shè)備。
[0003]另外上述現(xiàn)有技術(shù)中的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)由于是只設(shè)置收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，通過收卷輪盤轉(zhuǎn)動(dòng)，牽引基膜在鍍膜室及過渡室中行進(jìn)，采用這種基膜收放方式要求基膜具有較好的韌性，因此采用這種基膜收放方式對(duì)金屬箔基膜進(jìn)行鍍膜時(shí)，容易造成金屬箔基膜斷裂，使鍍膜中斷， 并且這種基膜收放方式當(dāng)收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)等速運(yùn)行時(shí)，會(huì)導(dǎo)致初期基膜行進(jìn)速度較慢，末期基膜行進(jìn)速度較快，造成初期和末期的鍍膜厚度不同，影響鍍膜質(zhì)量；此外，現(xiàn)有技術(shù)中的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)中沒有設(shè)置基膜糾偏裝置，因此在對(duì)較長(zhǎng)的基膜作連續(xù)鍍膜處理時(shí)，基膜運(yùn)行一段時(shí)間后，容易偏離導(dǎo)輥中線，影響鍍膜質(zhì)量，嚴(yán)重時(shí)需要停機(jī)進(jìn)行調(diào)整，影響生產(chǎn)效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，采用該種連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)可以一次完成固態(tài)電容負(fù)極碳箔的制備，并且制備碳箔的成品率高。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室、過渡室、鍍膜室和收卷室，所述放卷室內(nèi)設(shè)有放卷輪盤，所述過渡室內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥，所述收卷室內(nèi)設(shè)有收卷輪盤和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述鍍膜室的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶，所述過渡室和鍍膜室的數(shù)量為多個(gè)，交錯(cuò)設(shè)置在所述放卷室和收卷室之間；所述鍍膜室的箱體頂壁和底壁上設(shè)置的磁控靶分別為鉻材料磁控靶和石墨材料磁控靶。
[0006]采用上述連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)可以一次完成固態(tài)電容負(fù)極碳箔的制備，制備碳箔的成品率高。
[0007]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，位于所述放卷室和收卷室之間大致中間位置的過渡室內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)糾偏裝置，該糾偏裝置包括糾偏輥和糾偏輥?zhàn)?；所述糾偏輥為傾角可調(diào)式糾偏輥，其包括一個(gè)固定端和一個(gè)升降端，固定端軸通過角接觸球軸承固定在糾偏輥?zhàn)?，升降端設(shè)有升降滑套，在升降端的糾偏輥?zhàn)显O(shè)有與升降滑套相配合的升降導(dǎo)軌，所述升降滑套為槽輪形滑套，槽輪形滑套通過調(diào)心軸承固定在糾偏輥軸上，所述升降導(dǎo)軌為垂直于糾偏輥?zhàn)纤矫娴膬啥ㄎ话澹瑑啥ㄎ话逯g構(gòu)成升降滑套滑道；在升降端的糾偏輥?zhàn)线€設(shè)有糾偏輥升降機(jī)構(gòu)，該糾偏輥升降機(jī)構(gòu)包括升降連桿，升降連桿一端通過軸承與糾偏輥軸連接，另一端通過軸承與升降驅(qū)動(dòng)軸端的偏心軸連接，升降驅(qū)動(dòng)軸接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
[0008]本發(fā)明的過渡室內(nèi)設(shè)置的基膜行進(jìn)糾偏裝置，可以通過調(diào)整糾偏輥的傾角來實(shí)現(xiàn)基膜在導(dǎo)輥上的橫向位移，從而達(dá)到實(shí)時(shí)糾偏的目的，可以實(shí)時(shí)糾正基膜的運(yùn)行位置，使基膜始終處于最佳位置運(yùn)行，滿足超長(zhǎng)連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)的工作要求，提高了鍍膜質(zhì)量，減少了停機(jī)調(diào)整時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。
[0009]作為本發(fā)明的進(jìn)ー步改進(jìn)，所述糾偏輥的兩側(cè)設(shè)有基膜位置傳感器探頭，傳感器探頭信號(hào)輸出端接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)控制器。采用上述結(jié)構(gòu)特征，可以進(jìn)ー步提高基膜行進(jìn)糾偏的自動(dòng)化程度，實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)糾偏操作。
[0010]作為本發(fā)明的另ー種改進(jìn)，所述放卷輪盤連有放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)均為變頻調(diào)速電機(jī)；鄰近所述放卷室的過渡室內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)速度主動(dòng)控制壓輥，在壓輥上設(shè)有速度傳感器，速度傳感器信號(hào)輸出端接所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器。
[0011]通過設(shè)置放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)減小了基膜所受的牽拉力，基膜行進(jìn)鍍膜時(shí)不易斷裂，在壓輥上設(shè)置速度傳感器，通過傳感器輸出信號(hào)實(shí)時(shí)調(diào)整驅(qū)動(dòng)電機(jī)的轉(zhuǎn)速，使基膜的行進(jìn)速度穩(wěn)定不變，成膜厚度均勻一致。
[0012]作為本發(fā)明的更進(jìn)ー步改進(jìn)，所述放卷室和鄰近所述收卷室的過渡室內(nèi)還設(shè)有基膜張カ緩沖裝置，該基膜張カ緩沖裝置由繞擺軸轉(zhuǎn)動(dòng)的緩沖擺桿和緩沖擺桿復(fù)位裝置構(gòu)成，在擺桿上設(shè)有基膜張カ緩沖導(dǎo)輥。
[0013]過渡室內(nèi)設(shè)置基膜張カ緩沖裝置可以防止啟動(dòng)或關(guān)機(jī)時(shí)基膜瞬間受カ發(fā)生斷裂，進(jìn)ー步提高了鍍膜機(jī)整體工作的可靠性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)ー步地詳細(xì)說明。
[0015]圖1是本發(fā)明一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2是圖1所示一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)的鍍膜室放大結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖3是本發(fā)明一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)的放卷室、過渡室、鍍膜室及收卷室內(nèi)的基膜收放裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖4是本發(fā)明一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)的過渡室內(nèi)的基膜行進(jìn)糾偏裝置的主視結(jié)構(gòu)示意圖
圖5是沿圖4的A-A向剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]參見圖1 ー圖5，本發(fā)明ー種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室1、過渡室2、鍍膜室3和收卷室4，所述放卷室I內(nèi)設(shè)有放卷輪盤11，所述過渡室2內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥21，所述收卷室4內(nèi)設(shè)有收卷輪盤41和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(圖中未示出)，所述鍍膜室3的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶，所述過渡室2和鍍膜室3的數(shù)量為多個(gè)，交錯(cuò)設(shè)置在所述放卷室I和收卷室4之間；所述鍍膜室3的箱體頂壁和底壁上設(shè)置的磁控靶分別為鉻材料磁控靶31和石墨材料磁控靶32。
[0020]位于所述放卷室I和收卷室4之間大致中間位置的過渡室2內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)糾偏裝置200，該糾偏裝置200包括糾偏輥201和糾偏輥?zhàn)凰黾m偏輥201為傾角可調(diào)式糾偏輥，其包括一個(gè)固定端202和一個(gè)升降端203，固定端軸211通過角接觸球軸承204固定在糾偏輥?zhàn)?，升降?03設(shè)有升降滑套205，在升降端203的糾偏輥?zhàn)显O(shè)有與升降滑套205相配合的升降導(dǎo)軌，所述升降滑套205為槽輪形滑套，槽輪形滑套通過調(diào)心軸承固定在糾偏輥軸206上，所述升降導(dǎo)軌為垂直于糾偏輥?zhàn)纤矫娴膬啥ㄎ话?07，兩定位板207之間構(gòu)成升降滑套滑道；在升降端203的糾偏輥?zhàn)线€設(shè)有糾偏輥升降機(jī)構(gòu)，該糾偏輥升降機(jī)構(gòu)包括升降連桿208，升降連桿208 —端通過軸承與糾偏輥軸206連接，另一端通過軸承與升降驅(qū)動(dòng)軸209端的偏心軸210連接，升降驅(qū)動(dòng)軸209接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)(圖中未示出)。
[0021]所述糾偏輥201的兩側(cè)設(shè)有基膜位置傳感器探頭(圖中未示出)，傳感器探頭信號(hào)輸出端接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī) 控制器(圖中未示出)。
[0022]所述放卷輪盤11連有放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(圖中未示出)，所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)均為變頻調(diào)速電機(jī)；鄰近所述放卷室I的過渡室2內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)速度主動(dòng)控制壓輥22，在壓輥22上設(shè)有速度傳感器，速度傳感器信號(hào)輸出端接所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器12和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器42。
[0023]所述放卷室I和鄰近所述收卷室4的過渡室3內(nèi)還設(shè)有基膜張力緩沖裝置，該基膜張力緩沖裝置由繞擺軸13轉(zhuǎn)動(dòng)的緩沖擺桿14和緩沖擺桿復(fù)位裝置構(gòu)成，在擺桿上設(shè)有基膜張力緩沖導(dǎo)輥15。
【權(quán)利要求】
1.一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室(I)、過渡室(2)、鍍膜室(3)和收卷室(4)，所述放卷室(I)內(nèi)設(shè)有放卷輪盤(11)，所述過渡室(2 )內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥(21)，所述收卷室(4 )內(nèi)設(shè)有收卷輪盤(41)和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述鍍膜室(3)的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶，其特征在于:所述過渡室(2)和鍍膜室(3)的數(shù)量為多個(gè)，交錯(cuò)設(shè)置在所述放卷室(I)和收卷室(4)之間；所述鍍膜室(3)的箱體頂壁和底壁上設(shè)置的磁控靶分別為鉻材料磁控靶(31)和石墨材料磁控靶(32)。
2.按照權(quán)利要求1所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于:位于所述放卷室(I)和收卷室(4)之間大致中間位置的過渡室(2)內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)糾偏裝置(200)，該糾偏裝置(200)包括糾偏輥(201)和糾偏輥?zhàn)?；所述糾偏輥(201)為傾角可調(diào)式糾偏輥，其包括ー個(gè)固定端(202)和一個(gè)升降端(203)，固定端軸(211)通過角接觸球軸承(204)固定在糾偏輥?zhàn)?，升降?203)設(shè)有升降滑套(205)，在升降端(203)的糾偏輥?zhàn)显O(shè)有與升降滑套(205)相配合的升降導(dǎo)軌，所述升降滑套(205)為槽輪形滑套，槽輪形滑套通過調(diào)心軸承固定在糾偏輥軸(206)上，所述升降導(dǎo)軌為垂直于糾偏輥?zhàn)纤矫娴膬啥ㄎ话?207)，兩定位板(207)之間構(gòu)成升降滑套滑道；在升降端(203)的糾偏輥?zhàn)线€設(shè)有糾偏輥升降機(jī)構(gòu)，該糾偏輥升降機(jī)構(gòu)包括升降連桿(208 )，升降連桿(208 ) 一端通過軸承與糾偏輥軸(206 )連接，另一端通過軸承與升降驅(qū)動(dòng)軸(209)端的偏心軸(210)連接，升降驅(qū)動(dòng)軸(209)接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于:所述糾偏輥(201)的兩側(cè)設(shè)有基膜位置傳感器探頭，傳感器探頭信號(hào)輸出端接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)控制器。
4.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于:所述放卷輪盤(11)連有放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)均為變頻調(diào)速電機(jī)；鄰近所述放卷室(I)的過渡室(2)內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)速度主動(dòng)控制壓輥(22)，在壓輥(22 )上設(shè)有速度傳感器，速度傳感器信號(hào)輸出端接所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器(12 )和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器(42 )。
5.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于:所述放卷室(I)和鄰近所述收卷室(4)的過渡室(3)內(nèi)還設(shè)有基膜張カ緩沖裝置，該基膜張カ緩沖裝置由繞擺軸(13)轉(zhuǎn)動(dòng)的緩沖擺桿(14)和緩沖擺桿復(fù)位裝置構(gòu)成，在擺桿上設(shè)有基膜張カ緩沖導(dǎo)輥(15)。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK103451615SQ201310413206
【公開日】2013年12月18日 申請(qǐng)日期:2013年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月13日
【發(fā)明者】關(guān)秉羽 申請(qǐng)人:遼寧北宇真空科技有限公司