氣體噴射器及其噴射器管的制作方法
【專利摘要】一種能以均勻的速度噴射的氣體噴射器和一種用于該氣體噴射器的噴射器管。所述氣體噴射器包括：主體；形成在所述主體內(nèi)部的氣體流動(dòng)通路，該氣體流動(dòng)通路在所述主體的縱向方向上從一端延伸到另一端；葉片，該葉片被形成在所述主體內(nèi)部，并被連接到所述氣體流動(dòng)通路以噴射氣體；和被插入到所述氣體流動(dòng)通路中的噴射器管。所述噴射器管從氣體供應(yīng)部接收所述氣體，并通過多個(gè)孔將所述氣體分配到所述氣體流動(dòng)通路。所述噴射器管的所述多個(gè)孔包括沿在所述噴射器管的縱向方向上延伸的兩條平行線形成的多個(gè)第一孔和多個(gè)第二孔，所述第一孔與所述第二孔交替。
【專利說明】氣體噴射器及其噴射器管
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2012年9月20日遞交的韓國(guó)專利申請(qǐng)第10-2012-0104309號(hào)的優(yōu)先權(quán)，為所有目的而將其全部?jī)?nèi)容通過該引用合并于此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及一種氣體噴射器和一種用于該氣體噴射器的噴射器管，更具體地，涉及一種在化學(xué)氣相沉積(CVD)期間將氣體噴射到基板的氣體噴射器和一種用于該氣體噴射器的噴射器管。
【背景技術(shù)】
[0004]化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)為在基板上形成沉積膜的典型的沉積方法。
[0005]CVD通過加熱和氣化相當(dāng)于原料的源材料并隨后將氣化的源材料供給到沉積室中而在基板上形成預(yù)期的沉積膜。在此過程中，通過將基板加熱到特定溫度來供應(yīng)用于形成沉積膜所需的能量。
[0006]CVD具有的優(yōu)點(diǎn)在于，雜質(zhì)的分布和濃度可被控制，膜的厚度可被控制(幾到幾十納米)，沉積膜可被形成在絕緣體上，并且基板可在原位蝕刻。
[0007]特別地，常壓化學(xué)氣相沉積(APCVD)可通過例如實(shí)現(xiàn)連續(xù)沉積過程并排除真空泵的使用而在大規(guī)模生產(chǎn)中顯著降低產(chǎn)品的制造成本。另外，另一優(yōu)點(diǎn)為可通過APCVD涂覆大的面積。
[0008]在APCVD中，為了生產(chǎn)均勻的沉積膜而主要考慮的重要變量可包括基板的溫度的均勻性、反應(yīng)物質(zhì)的流動(dòng)的穩(wěn)定性等。
[0009]圖1為示出在APCVD中使用的相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器的示意性剖視圖。
[0010]如圖1所示，在APCVD中使用的相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器包括主體10，形成在主體內(nèi)的氣體流動(dòng)通路20，被連接到氣體流動(dòng)通路20的葉片(blade) 30和插入到氣體流動(dòng)通路20中的噴射器管40。這里，反應(yīng)氣體或者待沉積在基板上的材料的組分通過噴射器管40被供給，通過形成在噴射器管40中的歧管41分配到氣體流動(dòng)通路20，隨后通過葉片30噴射到基板上。隨后，噴射的反應(yīng)氣體被沉積在基板上。
[0011]圖2為示意性地示出供給到相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器中的流動(dòng)通路中的反應(yīng)氣體的流動(dòng)的概念性視圖。圖2中灰色陰影部分表示反應(yīng)氣體實(shí)際流動(dòng)所沿的通路。
[0012]圖3為在相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器中使用的噴射器管40的示意性俯視圖。
[0013]如圖3所示，形成在噴射器管40中的歧管被實(shí)施為在噴射器管的縱向方向上排列的多個(gè)孔。這些孔更密集地形成在噴射器管40的一些部分(在圖3中以紅色點(diǎn)線標(biāo)記的部分)。
[0014]然而， 當(dāng)噴射器管40的孔以這種方式形成時(shí)，從氣體噴射器噴射的反應(yīng)氣體的流動(dòng)變得不均勻。[0015]圖4和圖5為使用ANSYS Fluent對(duì)通過相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器的葉片30噴射的氣體執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖。
[0016]如圖4所示，可以看出從相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器噴射的氣體被非均勻地噴射，其具有大約3.2cm/s的最大流速差。特別地，圖4中以紅色點(diǎn)線標(biāo)記的部分與噴射器管40中密集地形成孔的部分(以紅色點(diǎn)線標(biāo)記的部分)一致。
[0017]這也可從圖5中所示的圖中證 實(shí)，其中從相關(guān)領(lǐng)域的噴射器噴射的氣體具有若干區(qū)域。
[0018]當(dāng)氣體以非均勻的速度噴射時(shí)，非均勻的膜被沉積在基板上，膜的質(zhì)量降低，這是有問題的。
[0019]在本發(fā)明的【背景技術(shù)】部分中公開的信息僅提供用于更好地理解本發(fā)明的背景，并且不應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為該信息形成可能對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的承認(rèn)或任何形式的建議。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0020]本發(fā)明的各個(gè)方面提供一種能以均勻的速度噴射的氣體噴射器和用于該噴射器的噴射器管。
[0021]在本發(fā)明一方面中，提供一種氣體噴射器，該氣體噴射器包括:主體；形成在所述主體內(nèi)部的氣體流動(dòng)通路，該氣體流動(dòng)通路在所述主體的縱向方向上從一端延伸到另一端；葉片，該葉片被形成在所述主體內(nèi)部，并被連接到所述氣體流動(dòng)通路以噴射氣體；和被插入到所述氣體流動(dòng)通路中的噴射器管。所述噴射器管從氣體供應(yīng)部接收所述氣體，并通過多個(gè)孔將所述氣體分配到所述氣體流動(dòng)通路。所述噴射器管的所述多個(gè)孔包括沿在所述噴射器管的縱向方向上延伸的兩條平行線形成的多個(gè)第一孔和多個(gè)第二孔，所述第一孔與所述第二孔交替。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，由所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔相對(duì)于所述噴射器管的中心限定的中心角的范圍可為從O到120°。
[0023]所述第一孔之間的距離和所述第二孔之間的距離可在遠(yuǎn)離所述氣體供應(yīng)部的方向上減小。優(yōu)選的是，所述第一孔之間的距離和所述第二孔之間的距離在遠(yuǎn)離所述氣體供應(yīng)部的方向上以預(yù)定尺寸減小，所預(yù)定尺寸的范圍為從0.02mm到0.06mm。
[0024]所述噴射器管可在與面向所述葉片的下側(cè)相對(duì)的上側(cè)具有所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔。(這里，上側(cè)和下側(cè)不表示絕對(duì)的位置關(guān)系，而是相對(duì)的位置關(guān)系。因此，能夠?qū)⒚嫦蛩鋈~片的側(cè)部命名為上側(cè)，而將其相對(duì)的側(cè)部命名為下側(cè)。)
[0025]所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)可滿足以下公式:
[0026]1/3* Ti *Rin2<nA<2/3* π *Rin2,
[0027]其中，η為所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)，Rin為所述噴射器管的內(nèi)徑，并且A為所述第一孔和所述第二孔的橫截面面積。
[0028]所述氣體流動(dòng)通路可包括形成在所述主體內(nèi)部的多個(gè)氣體流動(dòng)通路。所述葉片可包括多個(gè)葉片，所述多個(gè)葉片中的每個(gè)均被連接到所述多個(gè)氣體流動(dòng)通路中的對(duì)應(yīng)的氣體流動(dòng)通路。所述噴射器管可包括多個(gè)噴射器管，所述多個(gè)噴射器管中的每個(gè)均被插入到所述多個(gè)氣體流動(dòng)通路中的對(duì)應(yīng)的氣體流動(dòng)通路中。[0029]所述氣體噴射器可進(jìn)一步包括控制所述氣體的溫度的溫度控制器。
[0030]在本發(fā)明的另一方面中，提供一種噴射器管，該噴射器管從氣體供應(yīng)部接收氣體并通過多個(gè)孔分配所述氣體。所述多個(gè)孔包括沿在所述噴射器管的縱向方向上延伸的兩條平行線形成的多個(gè)第一孔和多個(gè)第二孔，所述第一孔與所述第二孔交替。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，由所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔相對(duì)于所述噴射器管的中心限定的中心角的范圍可從O到120°。
[0032]所述第一孔之間的距離和所述第二孔之間的距離在遠(yuǎn)離氣體供應(yīng)部的方向上減小。
[0033]所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)滿足以下公式:
[0034]1/3* Ti *Rin2<nA<2/3* π *Rin2,
[0035]其中，η為所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)，Rin為所述噴射器管的內(nèi)徑，A為所述第一孔和所述第二孔的橫截面面積。
[0036]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，由于多個(gè)第一孔和多個(gè)第二孔沿所述噴射器管上的兩條平行線形成，使得所述第一孔與所述第二孔交替，所以能夠使從所述氣體噴射器噴射的氣體的流速均勻，并在基板上沉積均勻的膜。
[0037]本發(fā)明的方法和裝置具有其它特征和優(yōu)點(diǎn)，其它特征和優(yōu)點(diǎn)將由合并于此的附圖和以下本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】而明顯，或者在其中更詳細(xì)地陳述，附圖和【具體實(shí)施方式】共同用于解釋本發(fā)明的某些原理。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0038]圖1為示出在APCVD中使用的相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器的示意性剖視圖；
[0039]圖2為示意性地示出供給到相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器中的流動(dòng)通路中的反應(yīng)氣體的流動(dòng)的概念性視圖；
[0040]圖3為在相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器中使用的噴射器管40的示意性俯視圖；
[0041]圖4和圖5為使用ANSYS Fluent對(duì)通過相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器的葉片30噴射的氣體執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖；
[0042]圖6為示意性地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的氣體噴射器的剖視圖；
[0043]圖7為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的噴射器管的俯視圖；
[0044]圖8為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的噴射器管的剖視圖，其示出了包括在第一孔的線和第二孔的線之間的角度；
[0045]圖9至圖13為使用ANSYS Fluent對(duì)通過根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的氣體噴射器噴射的氣體執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖；和
[0046]圖14為表1的三維圖；和
[0047]圖15為示出根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的氣體噴射器的示意性剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0048]現(xiàn)在將詳細(xì)參考根據(jù)本發(fā)明的氣體噴射器和用于該氣體噴射器的噴射器管，其實(shí)施例被例示在附圖中并在下面被描述，從而本發(fā)明相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可容易地實(shí)施本發(fā)明。[0049]在該文件全篇中，應(yīng)當(dāng)參照附圖，在附圖中，相同的附圖標(biāo)記和符號(hào)在不同的附圖中始終用于表示相同或類似的部件。在本發(fā)明的以下描述中，合并于此的已知的功能和部件的詳細(xì)描述在可能使本發(fā)明的主題不清楚時(shí)將被省略。
[0050]圖6為示意性示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的氣體噴射器的剖視圖。
[0051]參見圖6，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的氣體噴射器包括主體100、氣體流動(dòng)通路200、葉片300和噴射器管400。
[0052]主體100形成氣體噴射器的輪廓，并可被實(shí)施為具有長(zhǎng)方體形狀的塊體。
[0053]主體100被定位在執(zhí)行沉積過程的室的上部，待在其上沉積膜的基板被定位在主體100的下方。
[0054]氣體流動(dòng)通路200被形成在主體100內(nèi)部，并在主體100的縱向方向上從主體100的一端延伸到另一端。噴射器管400被插入到氣體流動(dòng)通路200中，氣體流動(dòng)通路200允許從噴射器管400分配的氣體流向葉片300。
[0055]氣體流動(dòng)通路200的一端閉合。另外，在噴射器管400插入通過的氣體流動(dòng)通路200的另一端與噴射器管400之間提供密封，以使氣體不泄漏。
[0056]優(yōu)選的是氣體流動(dòng)通路200為圓柱形的。
[0057]葉片300被形成在主體100內(nèi)部，并被連接到氣體流動(dòng)通路200。葉片300被構(gòu)造為使得其將氣體從氣體流動(dòng)通路200朝向基板噴射。
[0058]已通過葉片300噴射到基板的氣體在定位在室內(nèi)部的基板上形成沉積膜。
[0059]噴射器管400被插入到氣體流動(dòng)通路200中，并被構(gòu)造為使得其通過形成在噴射器管400內(nèi)的多個(gè)孔將從氣體供應(yīng)部(未示出)的供應(yīng)的氣體分配到多個(gè)氣體流動(dòng)通路200。這里，能夠通過調(diào)整孔的尺寸、位置和孔之間的距離來控制氣體的流動(dòng)和氣體的流速。
[0060]噴射器管400的外周和氣體流動(dòng)通路200的內(nèi)周彼此隔開，由此在它們之間形成一空間，從噴射器分配的氣體通過該空間流向葉片300。
[0061]圖7為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的噴射器管400的俯視圖。
[0062]參見圖7，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，噴射器管400中的多個(gè)孔包括沿在噴射器管400的縱向方向上延伸的兩條平行線形成的多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402。第一孔401和第二孔402被形成為使得第一孔401和第二孔402交替。也就為說，第一孔401和第二孔402形成在相對(duì)于參考點(diǎn)以特定角度向左和向右傾斜的位置，從而第一孔401和第二孔402形成Z字形。優(yōu)選的是第一孔401和第二孔402形成在相對(duì)于噴射器管400的參考點(diǎn)以相同角度向左和向右傾斜的位置。這里，參考點(diǎn)為葉片的對(duì)跖點(diǎn)。
[0063]同樣地，多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402沿兩條平行線形成，從而第一孔401和第二孔402交替。因此，能夠使通過葉片300噴射的氣體的流速均勻，從而均勻的膜可被沉積在基板上。
[0064]由多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402相對(duì)于噴射器管400的中心限定的中心角度(即，由將多個(gè)第一孔連接到噴射器管的中心的線與將多個(gè)第二孔連接到噴射器管的中心的線限定的角度)小于180°。如圖8所示，中心角度可為120°。
[0065]另外，優(yōu)選的是第一孔401之間的距離在遠(yuǎn)離氣體供應(yīng)部的方向上減小。更優(yōu)選地，第一孔401之間的距離在遠(yuǎn)離氣體供應(yīng)部的方向上以特定尺寸減小。這里，該特定尺寸的范圍從0.02mm到0.06mm。另外，第一孔401之間的距離和第二孔402之間的距離以等差級(jí)數(shù)或不同的級(jí)數(shù)減小。
[0066]另外，優(yōu)選的是根據(jù)本發(fā)明的第一孔401和第二孔402的總數(shù)設(shè)定為滿足以下公式:
[0067]1/3* π *Rin2<nA<2/3* π *Rin2,
[0068]其中，η為第一孔和第二孔的總數(shù)，Rin為噴射器管的內(nèi)徑，A為第一孔和第二孔的橫截面面積。
[0069]能夠使用該公式計(jì)算孔之間的距離。
[0070]另外，噴射器管可在與面向葉片300的下側(cè)相對(duì)的上側(cè)具有多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402。因此，在從噴射器管分配的氣體沿氣體流動(dòng)通路200的內(nèi)部流動(dòng)特定時(shí)間之后，其可通過葉片300朝向基板噴射，由此或多或少地降低氣體的流速。因此，能夠提高氣體沉積在基板上的效率和沉積在基板上的膜的均勻性。另外，能夠增加從葉片300噴射的氣體的直線度。
[0071]根據(jù)本發(fā)明的噴射器管400可被更換。也就為說，當(dāng)需要使用具有不同的孔尺寸或不同的孔間距離的另一個(gè)噴射器管或者噴射器管的一些孔閉合時(shí)，能夠僅將噴射器管從氣體噴射器分離，并將新噴射器管放置在適當(dāng)?shù)奈恢谩?br> [0072]圖9和圖10為使用ANSYS Fluent對(duì)通過本發(fā)明的氣體噴射器噴射的氣體執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖。
[0073]另外，圖11為使用ANSYS Fluent對(duì)與第一孔401對(duì)應(yīng)的部分的橫截面執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖，圖12為使用ANSYS Fluent對(duì)與第二孔402對(duì)應(yīng)的部分的截面執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖，圖13為使用ANSYS Fluent對(duì)包括圖11和圖12中的部分的部分執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真圖。
[0074]在圖9到圖13中所示的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真中使用的噴射器管400中，多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402被形成在噴射器管400的與面向葉片300的下側(cè)相對(duì)的上側(cè)，使得第一孔401和第二孔402以特定距離交替，其中由多個(gè)第一孔401和多個(gè)第二孔402相對(duì)于噴射器管400的中心限定的中心角為120°。
[0075]如圖9所示，當(dāng)氣體通過本發(fā)明的氣體噴射器噴射時(shí)，氣體流速的最大值和最小值為7.0cm/s和5.7cm/s,最大值和最小值之間的差僅為1.3cm/s。相應(yīng)地,在本發(fā)明的氣體噴射器中，氣體流速的差比相關(guān)領(lǐng)域的氣體噴射器的氣體流速的差在更大程度上降低。也明顯的是氣體的整體流速更加均勻。這也可從圖10中所示的圖中看出，其中與圖5相比，存在于從本發(fā)明的氣體噴射器噴射的氣體中的區(qū)域顯著減小或移除。
[0076]表1示出了對(duì)通過葉片噴射的氣體的最大流速和最小流速之間的差(cm/s)執(zhí)行的計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)仿真，其中該仿真使用ANSYS Fluent通過將第一孔401的線與第二孔402的線之間的距離d設(shè)定為7mm、改變第一孔401和第二孔402的位置以及改變第一孔401之間的距離和第二孔402之間的距離的減小的尺寸而被執(zhí)行。圖14為表1的三維圖。這里，傾斜角的參考點(diǎn)為葉片300的對(duì)跖點(diǎn)。
[0077]表1
[0078]
【權(quán)利要求】
1.一種噴射器管，該噴射器管從氣體供應(yīng)部接收氣體并通過多個(gè)孔分配所述氣體，其中所述多個(gè)孔包括沿在所述噴射器管的縱向方向上延伸的兩條平行線形成的多個(gè)第一孔和多個(gè)第二孔，所述第一孔與所述第二孔交替。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射器管，其中由所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔相對(duì)于所述噴射器管的中心限定的中心角的范圍為O到120°。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴射器管，其中所述多個(gè)第一孔中相鄰的第一孔之間的距離和所述多個(gè)第二孔中相鄰的第二孔之間的距離在遠(yuǎn)離所述氣體供應(yīng)部的方向上減小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射器管，其中所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)滿足公式:1/3* Ti *Rin2〈nA〈2/3* π *Rin2, 其中，η為所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)，Rin為所述噴射器管的內(nèi)徑，并且A為所述第一孔和所述第二孔的橫截面面積。
5.一種氣體噴射器，包括: 主體； 形成在所述主體內(nèi)部的氣體流動(dòng)通路，該氣體流動(dòng)通路在所述主體的縱向方向上從一端延伸到另一端； 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的噴射器管，該噴射器管被插入到所述氣體流動(dòng)通路中；和 形成在所述主體內(nèi)部并被連接到所述氣體流動(dòng)通路的葉片， 其中所述噴射器管從所述氣體供應(yīng)部接收氣體，并通過所述多個(gè)孔將所述氣體分配到所述氣體流動(dòng)通路，并且被連接到所述氣體流動(dòng)通路的所述葉片噴射所述氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體`噴射器，其中由所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔相對(duì)于所述噴射器管的中心限定的中心角的范圍為從O到120°。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣體噴射器，其中所述多個(gè)第一孔中相鄰的第一孔之間的距離和所述多個(gè)第二孔中的相鄰的第二孔之間的距離在遠(yuǎn)離所述氣體供應(yīng)部的方向上減小。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體噴射器，其中相鄰的第一孔之間的所述距離和相鄰的第二孔之間的所述距離在遠(yuǎn)離所述氣體供應(yīng)部的方向上以預(yù)定尺寸減小，該預(yù)定尺寸的范圍為從 0.02mm 到 0.06mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體噴射器，其中所述噴射器管在與面向所述葉片的下側(cè)相對(duì)的上側(cè)包括所述多個(gè)第一孔和所述多個(gè)第二孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體噴射器，其中所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)滿足公式:1/3* π *Rin2〈nA〈2/3* n *Rin2， 其中，n為所述第一孔和所述第二孔的總數(shù)，Rin為所述噴射器管的內(nèi)徑，并且A為所述第一孔和所述第二孔的橫截面面積。
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體噴射器，其中 所述氣體流動(dòng)通路包括形成在所述主體內(nèi)部的多個(gè)氣體流動(dòng)通路， 所述葉片包括多個(gè)葉片，所述多個(gè)葉片中的每個(gè)均被連接到所述多個(gè)氣體流動(dòng)通路中的對(duì)應(yīng)的氣體流動(dòng)通路，并且 所述噴射器管包括多個(gè)噴射器管，所述多個(gè)噴射器管中的每個(gè)均被插入到所述多個(gè)氣體流動(dòng)通路中的對(duì)應(yīng)的氣體流動(dòng)通路中。
12.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體噴射器，進(jìn)一步包括控制所述氣體的溫度的溫度控制器。
【文檔編號(hào)】C23C16/455GK103668118SQ201310430091
【公開日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月20日
【發(fā)明者】李柱永, 劉泳祚, 金序炫, 樸正佑, 樸峻亨, 白逸姬, 尹根尙, 李鉉熙, 崔殷豪 申請(qǐng)人:三星康寧精密素材株式會(huì)社