專利名稱：矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
如今，真空鍍膜在機(jī)械、電子、能源、信息等領(lǐng)域已經(jīng)得到了廣泛應(yīng)用。而在真空鍍膜中，生產(chǎn)效率非常受人關(guān)注。磁控濺射的方法在沉積速率上要比非磁控濺射的方法高的多，所以越來越受到青睞。在磁控濺射鍍膜中，矩形平面多弧靶是極為重要的組件?，F(xiàn)有的矩形平面多弧靶，具備了沉積速率大的優(yōu)點(diǎn)，能夠帶來較高的生產(chǎn)效率，但由于用于控制離子濺射的磁場(chǎng)由定磁的永磁體產(chǎn)生，所以當(dāng)需要調(diào)節(jié)磁場(chǎng)對(duì)于靶材離子的約束效果時(shí)非常不便，制約了生產(chǎn)效率的提高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的矩形平面多弧靶的磁場(chǎng)由永磁體產(chǎn)生從而磁場(chǎng)性能不容易調(diào)節(jié)，較難獲得最佳的磁場(chǎng)約束效果，因而生產(chǎn)效率不高的缺陷，提出一種矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置，設(shè)置了可調(diào)的電磁線圈與磁鋼共同產(chǎn)生磁場(chǎng)，能夠通過調(diào)節(jié)電磁線圈通過的電流來調(diào)節(jié)磁場(chǎng)從而獲得最佳的約束效果，提高了生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的:本實(shí)用新型提供了一種矩形平面多弧靶，包括一靶座，該靶座的頂端面上設(shè)有用于容納固定靶材的一靶材區(qū)域，其特點(diǎn)在于，該矩形平面多弧靶還包括一組電磁線圈和一永磁體，該組電磁線圈設(shè)于該靶座下方對(duì)應(yīng)于該靶材區(qū)域的位置，該永磁體設(shè)于該組電磁線圈的中間。該矩形平面多弧靶·中，用于控制靶材離子的濺射的磁場(chǎng)由該組電磁線圈和該永磁體共同產(chǎn)生，這樣的設(shè)置使得磁場(chǎng)能通過控制該組電磁線圈中的電流來調(diào)整，從而獲得最佳的約束效果。較佳地，該矩形平面多弧靶還包括一線圈護(hù)罩，該線圈護(hù)罩圍設(shè)于該組電磁線圈外并與該組電磁線圈形成極靴。其中，該線圈護(hù)罩圍設(shè)于該組電磁線圈外并位于該靶座下方。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,極靴是電磁鐵、永磁體和電機(jī)磁極的一種結(jié)構(gòu),在通過采用兩個(gè)結(jié)構(gòu)相同的磁路在磁極端面形成極靴，通過這樣的設(shè)置能夠獲得較好線性分布的磁場(chǎng)、并屏蔽多余的磁場(chǎng)。較佳地，該矩形平面多弧靶還包括一電磁線圈骨架，該電磁線圈骨架設(shè)于該靶座下方并位于該線圈護(hù)罩內(nèi)側(cè)，與該線圈護(hù)罩形成用于容納該組電磁線圈的空間。該空間的形狀與該組電磁線圈的形狀相適配。較佳地，該永磁體為磁鋼。較佳地，該矩形平面多弧靶還包括用于固定該靶材的一外圈陶瓷壓條和一中心陶瓷壓條，該外圈陶瓷壓條圍設(shè)于該靶材區(qū)域的邊緣，該中心陶瓷壓條設(shè)于該靶材區(qū)域的中間。該外圈陶瓷壓條和該中心陶瓷壓條除了固定該靶材的位置外，陶瓷的絕緣性還使其能夠起到滅弧作用，即通過增大弧隙間的電絕緣強(qiáng)度避免了跑弧的發(fā)生，提高了該矩形平面多弧靶工作的穩(wěn)定性和效率。同時(shí)，該外圈陶瓷壓條和該中心陶瓷壓條起到了固定和滅弧的作用，在結(jié)構(gòu)上也非常精簡(jiǎn)，便于維護(hù)。較佳地，該靶材的形狀為矩形，該靶材區(qū)域的形狀與該靶材的形狀相適配。較佳地，該中心陶瓷壓條的形狀為桿狀。較佳地，該矩形平面多弧靶還包括一引弧針和一氣動(dòng)裝置，該氣動(dòng)裝置控制該引弧針起弧。本實(shí)用新型還提供了一種包括上述的矩形平面多弧靶的真空鍍膜裝置。較佳地，該真空鍍膜裝置還包括一水嘴接頭。該水嘴接頭用于將冷卻水通入，以起到冷卻靶材的作用。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，該水嘴接頭設(shè)置的位置可以根據(jù)實(shí)際需要任意選擇，只需要能夠?qū)⒗鋮s水通向靶材以起到冷卻靶材的作用即可。在符合本領(lǐng)域常識(shí)的基礎(chǔ)上，上述各優(yōu)選條件，可任意組合，即得本實(shí)用新型各較佳實(shí)例。 本實(shí)用新型的積極進(jìn)步效果在于:本實(shí)用新型的矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置，設(shè)置了可調(diào)的電磁線圈與磁鋼共同產(chǎn)生磁場(chǎng)，從而能夠通過調(diào)節(jié)磁場(chǎng)以得到更佳的約束效果，提高了生產(chǎn)效率。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例2的矩形平面多弧靶的剖視圖。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例3的真空鍍膜裝置的剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖給出本實(shí)用新型較佳實(shí)施例，以詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，但并不因此將本實(shí)用新型限制在所述的實(shí)施例范圍之中。實(shí)施例1參考圖1所示，本實(shí)施例的矩形平面多弧靶，包括一靶座4，該靶座4的頂端面上設(shè)有用于容納固定靶材14的一靶材區(qū)域，該矩形平面多弧靶還包括一組電磁線圈5和一永磁體6，該組電磁線圈5設(shè)于該靶座4下方對(duì)應(yīng)于該靶材區(qū)域的位置，該永磁體6設(shè)于該組電磁線圈5的中間。該矩形平面多弧靶中，用于控制靶材離子的濺射的磁場(chǎng)由該組電磁線圈5和該永磁體6共同產(chǎn)生，磁場(chǎng)能通過控制該組電磁線圈5中的電流來調(diào)整磁場(chǎng)，從而獲得最佳的約束效果。該矩形平面多弧靶還包括一線圈護(hù)罩7，該線圈護(hù)罩7圍設(shè)于該組電磁線圈5外并與該組電磁線圈5形成極靴。其中，該線圈護(hù)罩7圍設(shè)于該組電磁線圈5外并位于該靶座4下方。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，極靴是電磁鐵、永磁體和電機(jī)磁極的一種結(jié)構(gòu)，在通過采用兩個(gè)結(jié)構(gòu)相同的磁路在磁極端面形成極靴，通過這樣的設(shè)置能夠獲得較好線性分布的磁場(chǎng)、并屏蔽多余的磁場(chǎng)。[0028]優(yōu)選地，該矩形平面多弧靶還包括一電磁線圈骨架8，該電磁線圈骨架8設(shè)于該靶座4下方并位于該線圈護(hù)罩7內(nèi)側(cè)，與該線圈護(hù)罩7形成用于容納該組電磁線圈5的空間。該空間的形狀與該組電磁線圈5的形狀相適配。該永磁體6為磁鋼。實(shí)施例2如圖1所示為本實(shí)施例的矩形平面多弧靶，本實(shí)施例的矩形平面多弧靶和實(shí)施例1的矩形平面多弧靶相比，差別僅在于:該矩形平面多弧靶還包括用于固定該靶材14的一外圈陶瓷壓條12和一中心陶瓷壓條15，該外圈陶瓷壓條12圍設(shè)于該靶材區(qū)域的邊緣，該中心陶瓷壓條15設(shè)于該靶材區(qū)域的中間。該外圈陶瓷壓條12和該中心陶瓷壓條15除了固定該靶材14的位置外，陶瓷的絕緣性還使其能夠起到滅弧作用，即通過增大弧隙間的電絕緣強(qiáng)度避免了跑弧的發(fā)生，提高了該矩形平面多弧靶工作的穩(wěn)定性和效率。同時(shí)，該外圈陶瓷壓條12和該中心陶瓷壓條15起到了固定和滅弧的作用，在結(jié)構(gòu)上也非常精簡(jiǎn)，便于維護(hù)。優(yōu)選地，該靶材14的形狀為矩形，該靶材區(qū)域的形狀與該靶材14的形狀相適配。該中心陶瓷壓條15的形狀為桿狀。該矩形平面多弧靶還包括一引弧針和一氣動(dòng)裝置，該氣動(dòng)裝置控制該引弧針起弧。氣動(dòng)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、輕便、安裝維護(hù)簡(jiǎn)單，并且容易調(diào)節(jié)。實(shí)施例3如圖2所示，本實(shí)施例的真空鍍膜裝置包括了實(shí)施例2的矩形平面多弧靶。該真空鍍膜裝置還包括至少一真空室13，一絕緣件I把該矩形平面多弧靶和該至少一真空室13絕緣分隔。一第一密封圈2密封絕緣件I與真空室13的室壁之間的間隙，一第二密封圈3密封絕緣件I與該靶座4之間的間隙。優(yōu)選地，該真空鍍 膜裝置還包括用于固定該靶座4的螺栓9和用于冷卻靶材14的水冷接頭。該真空鍍膜裝置還包括一螺釘絕緣套10和一防護(hù)罩11，該螺釘絕緣套10用于將該靶座4和真空室13的室壁絕緣分隔，該防護(hù)罩11用于放置人員接觸帶電器件。為保障真空室13的室壁與靶材14的分隔，該真空鍍膜裝置還包括多個(gè)屏蔽板16，用于防止基體17上的膜層沉積到該絕緣件I上面。雖然以上描述了本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，這些僅是舉例說明，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本實(shí)用新型的原理和實(shí)質(zhì)的前提下，可以對(duì)這些實(shí)施方式做出多種變更或修改，但這些變更和修改均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種矩形平面多弧靶，包括一靶座，該靶座的頂端面上設(shè)有用于容納固定靶材的一靶材區(qū)域，其特征在于，該矩形平面多弧靶還包括一組電磁線圈和一永磁體，該組電磁線圈設(shè)于該靶座下方對(duì)應(yīng)于該靶材區(qū)域的位置，該永磁體設(shè)于該組電磁線圈的中間。
2.如權(quán)利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該矩形平面多弧靶還包括一線圈護(hù)罩，該線圈護(hù)罩圍設(shè)于該組電磁線圈外并與該組電磁線圈形成極靴。
3.如權(quán)利要求2所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該矩形平面多弧靶還包括一電磁線圈骨架，該電磁線圈骨架設(shè)于該靶座下方并位于該線圈護(hù)罩內(nèi)側(cè)，與該線圈護(hù)罩形成用于容納該組電磁線圈的空間。
4.如權(quán)利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該永磁體為磁鋼。
5.如權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該矩形平面多弧靶還包括用于固定該靶材的一外圈陶瓷壓條和一中心陶瓷壓條，該外圈陶瓷壓條圍設(shè)于該靶材區(qū)域的邊緣，該中心陶瓷壓條設(shè)于該靶材區(qū)域的中間。
6.如權(quán)利要求5所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該靶材的形狀為矩形，該靶材區(qū)域的形狀與該靶材的形狀相適配。
7.如權(quán)利要求6所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該中心陶瓷壓條的形狀為桿狀。
8.如權(quán)利要求7所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，該矩形平面多弧靶還包括一引弧針和一氣動(dòng)裝置，該氣動(dòng)裝置控制該引弧針起弧。
9.一種包括如權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的矩形平面多弧靶的真空鍍膜裝置。
10.如權(quán)利要求9所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，該真空鍍膜裝置還包括一水嘴接 頭。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置。該矩形平面多弧靶包括一靶座，該靶座的頂端面上設(shè)有用于容納固定靶材的一靶材區(qū)域，該矩形平面多弧靶還包括一組電磁線圈和一永磁體，該組電磁線圈設(shè)于該靶座下方對(duì)應(yīng)于該靶材區(qū)域的位置，該永磁體設(shè)于該組電磁線圈的中間。本實(shí)用新型的矩形平面多弧靶及真空鍍膜裝置，設(shè)置了可調(diào)的電磁線圈與磁鋼共同產(chǎn)生磁場(chǎng)，通過調(diào)節(jié)電磁線圈通過的電流來調(diào)節(jié)磁場(chǎng)從而獲得最佳的約束效果，提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)C23C14/35GK203096162SQ20132002575
公開日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2013年1月17日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月17日
發(fā)明者王叔暉, 劉竹楊 申請(qǐng)人:上海法德機(jī)械設(shè)備有限公司