真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，包括腔體內(nèi)壁、內(nèi)隔熱層和充壓孔，內(nèi)隔熱層位于腔體內(nèi)壁的內(nèi)部，充壓孔設(shè)置在腔體內(nèi)壁上部，穿過(guò)腔體內(nèi)壁與內(nèi)隔熱層的下部設(shè)置有下排氣孔，下排氣孔連接外部排氣管道，排氣管道為T(mén)型管道，位于排氣管道的支路上分別設(shè)置有主抽閥和小流量閥，且排氣管道上還分別設(shè)置有兩個(gè)側(cè)排氣孔，且其中一個(gè)側(cè)排氣孔伸入到腔體內(nèi)壁內(nèi)，位于內(nèi)隔熱層內(nèi)部以及下排氣孔上方設(shè)置有加熱件，所述加熱件的內(nèi)部設(shè)置有石墨平臺(tái)，所述石墨平臺(tái)上設(shè)置有石墨架。本臺(tái)面的設(shè)置不僅提高了產(chǎn)品的質(zhì)量，而且提高了作業(yè)效率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，特別是用在MOCVD使用后的石墨盤(pán)的潔凈烘烤處理設(shè)備上。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，市場(chǎng)上同類(lèi)的產(chǎn)品使用的臺(tái)面為實(shí)體臺(tái)面，設(shè)備工作時(shí)，氣流從側(cè)面被排出，石墨架上的灰塵及石墨盤(pán)上掉落的微粒會(huì)殘留在臺(tái)面上及被烘烤物品上，影響烘烤質(zhì)量，并且直接影響到MOCVD產(chǎn)品的產(chǎn)出質(zhì)量，部分微粒也會(huì)附著在腔體內(nèi)，影響機(jī)器運(yùn)行的環(huán)境，每次運(yùn)行機(jī)器前需徹底清潔，無(wú)論是對(duì)機(jī)臺(tái)環(huán)境還是工作效率都產(chǎn)生了很大的影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服上述缺陷，本實(shí)用新型提供一種可直接受熱以及快速傳熱的真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，其不僅可以改善產(chǎn)品的質(zhì)量，而且可以提高工作效率。
[0004]本實(shí)用新型為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，包括腔體內(nèi)壁、內(nèi)隔熱層和充壓孔，所述內(nèi)隔熱層位于腔體內(nèi)壁的內(nèi)部，充壓孔設(shè)置在腔體內(nèi)壁上部，穿過(guò)腔體內(nèi)壁與內(nèi)隔熱層的下部設(shè)置有下排氣孔，所述下排氣孔連接外部排氣管道，所述排氣管道為T(mén)型管道，位于排氣管道的支路上分別設(shè)置有主抽閥和小流量閥，且排氣管道上還分別設(shè)置有兩個(gè)側(cè)排氣孔，且其中一個(gè)側(cè)排氣孔伸入到腔體內(nèi)壁內(nèi)，位于內(nèi)隔熱層內(nèi)部以及下排氣孔上方設(shè)置有加熱件，所述加熱件的內(nèi)部設(shè)置有石墨平臺(tái)，所述石墨平臺(tái)上設(shè)置有石墨架。
[0005]所述下排氣孔的周?chē)O(shè)置有若干加強(qiáng)筋，加強(qiáng)筋的設(shè)置，確保了下排氣孔開(kāi)孔后周邊的牢固性。
[0006]所述的加熱件為石墨加熱件。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是:產(chǎn)品投入后，被烘烤產(chǎn)品可以直接受熱，傳熱快，選擇從機(jī)臺(tái)下部氣孔排氣，可改變氣流走向，將石墨平臺(tái)上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰塵直接從下部排走，保持放置臺(tái)面及腔體內(nèi)部的清潔，減少了機(jī)臺(tái)內(nèi)的覆蓋涂層及清潔作業(yè)，提高了作業(yè)效率，最大限度地降低了石墨平臺(tái)對(duì)MOCVD生長(zhǎng)產(chǎn)品質(zhì)量的影響。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]其中:1、腔體內(nèi)壁，2、內(nèi)隔熱層，3、充壓孔，4、下排氣孔，5、主抽閥，6、側(cè)排氣孔，7、小流量閥，8、石墨平臺(tái)，9、石墨架，10、加熱件。
【具體實(shí)施方式】
[0010]實(shí)施例:
[0011]如圖1所示，一種真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，包括腔體內(nèi)壁1、內(nèi)隔熱層2和充壓孔3，所述內(nèi)隔熱層2位于腔體內(nèi)壁I的內(nèi)部，充壓孔3設(shè)置在腔體內(nèi)壁I上部，穿過(guò)腔體內(nèi)壁I與內(nèi)隔熱層2的下部設(shè)置有下排氣孔4，所述下排氣孔4連接外部排氣管道，所述排氣管道為T(mén)型管道，位于排氣管道的支路上分別設(shè)置有主抽閥5和小流量閥7，且排氣管道上還分別設(shè)置有兩個(gè)側(cè)排氣孔6，且其中一個(gè)側(cè)排氣孔6伸入到腔體內(nèi)壁I內(nèi)，位于內(nèi)隔熱層2內(nèi)部以及下排氣孔4上方設(shè)置有加熱件10，所述加熱件10的內(nèi)部設(shè)置有石墨平臺(tái)8，所述石墨平臺(tái)8上設(shè)置有石墨架9。
[0012]所述下排氣孔4的周?chē)O(shè)置有若干加強(qiáng)筋，加強(qiáng)筋的設(shè)置，確保了下排氣孔4的牢固性。
[0013]所述的加熱件10為石墨加熱件.[0014]本裝置通過(guò)真空高溫設(shè)備，通過(guò)程式排氣閥門(mén)的設(shè)定，可以改變氣體的走向，在真空低壓的狀況下，對(duì)被烤物加熱的同時(shí)，不斷的通過(guò)充、抽壓系統(tǒng)將附著在被烤物品表面的反應(yīng)物分解，排除腔體。
[0015]在產(chǎn)品投入后，被烘烤產(chǎn)品可以直接受熱，傳熱快，選擇從機(jī)臺(tái)下部氣孔排氣，可改變氣流走向，將石墨平臺(tái)上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰塵直接從下部排走，保持放置臺(tái)面及腔體內(nèi)部的清潔，減少了機(jī)臺(tái)內(nèi)的覆蓋涂層及清潔作業(yè)，提高了作業(yè)效率，最大限度地降低了石 墨平臺(tái)對(duì)MOCVD生長(zhǎng)產(chǎn)品質(zhì)量的影響，最終達(dá)到潔凈被烤物品的目的。
【權(quán)利要求】
1.一種真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，包括腔體內(nèi)壁(I)、內(nèi)隔熱層(2)和充壓孔(3)，所述內(nèi)隔熱層(2)位于腔體內(nèi)壁(I)的內(nèi)部，充壓孔(3)設(shè)置在腔體內(nèi)壁(I)上部，其特征在于:穿過(guò)腔體內(nèi)壁(I)與內(nèi)隔熱層(2)的下部設(shè)置有下排氣孔(4)，所述下排氣孔(4)連接外部排氣管道，所述排氣管道為T(mén)型管道，位于排氣管道的支路上分別設(shè)置有主抽閥(5)和小流量閥(7)，且排氣管道上還分別設(shè)置有兩個(gè)側(cè)排氣孔(6)，且其中一個(gè)側(cè)排氣孔(6)伸入到腔體內(nèi)壁(I)內(nèi)；位于內(nèi)隔熱層(2)內(nèi)部以及下排氣孔(4)的上方設(shè)置有加熱件(10)，所述加熱件(IO )的內(nèi)部設(shè)置有石墨平臺(tái)(8 )，所述石墨平臺(tái)(8 )上設(shè)置有石墨架(9 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，其特征在于:所述下排氣孔(8)的周?chē)O(shè)置有若干加強(qiáng)筋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空高溫烘烤爐的放置臺(tái)面，其特征在于:所述的加熱件(10)為石墨加熱件。
【文檔編號(hào)】C23C16/44GK203429250SQ201320531850
【公開(kāi)日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】孟祥好, 夏友龍, 孫統(tǒng)暢, 孫益鵬 申請(qǐng)人:晶旺光電（徐州）有限公司