一種蒸鍍坩堝的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種蒸鍍坩堝，包括：容置裝置、坩堝蓋、阻擋裝置；其中，所述坩堝蓋安裝于所述容置裝置的開口處且所述坩堝蓋設(shè)有蒸發(fā)孔；所述阻擋裝置設(shè)于所述蒸發(fā)孔的下方位置，且所述阻擋裝置的中心穿過有軸，所述軸安裝于所述容置裝置的內(nèi)壁且與所述坩堝蓋所處平面平行。本實用新型提供的一種蒸鍍坩堝，通過阻擋裝置阻擋蒸鍍材料從容置裝置中劇烈噴發(fā)及濺射，而且阻擋裝置的表面可以粘附氣態(tài)的蒸鍍材料，避免了氣態(tài)蒸鍍材料由于冷卻，在坩堝蓋上的堆積現(xiàn)象，為一進步使蒸鍍材料的蒸發(fā)速度均勻可控提供了可行的技術(shù)方案。
【專利說明】一種蒸鍍i甘堝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及顯示裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種蒸鍍坩堝。
【背景技術(shù)】
[0002]在對顯示裝置的顯示器件中的有機發(fā)光二極管(OLED，Organic Light EmittingDiode)進行加工制造時，一般采用點源的半封閉口的蒸鍍坩堝，圖1為現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示，所述蒸鍍坩堝具有容置裝置1，容置裝置放置于加熱源(例如點源)中，容置裝置的開口處安裝有坩堝蓋2，坩堝蓋設(shè)有蒸發(fā)孔201。其工作原理為:將蒸鍍材料放入容置裝置，蒸鍍材料包括有機材料；將蒸鍍坩堝置于點源中，點源加熱蒸鍍坩堝使氣態(tài)蒸鍍材料從坩堝蓋的蒸發(fā)孔均勻蒸發(fā)出；坩堝蓋的上方設(shè)有傳感器，傳感器用于檢測所述氣態(tài)蒸鍍材料的蒸發(fā)速度；傳感器將檢測信號反饋回所述點源，使點源根據(jù)蒸鍍材料的蒸發(fā)速度控制對蒸鍍坩堝的加熱強度。坩堝蓋能夠避免除蒸鍍材料外的其他材料進入蒸鍍坩堝造成污染；同時，所述坩堝蓋也能夠防止蒸鍍材料從蒸鍍坩堝中劇烈噴發(fā)及濺射，造成傳感器損壞。
[0003]然而，現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍坩堝具有如下缺點:在蒸鍍時，容易造成蒸鍍材料在坩堝蓋上堆積，導致蒸鍍材料的蒸發(fā)速率控制不穩(wěn)，影響OLED器件的制作工藝。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型提供一種蒸鍍坩堝，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的蒸鍍坩堝的蒸鍍材料容易在坩堝蓋堆積的問題。
[0005]本實用新型提供的一種蒸鍍坩堝，包括:容置裝置、坩堝蓋、阻擋裝置；
[0006]其中，所述坩堝蓋安裝于所述容置裝置的開口處且所述坩堝蓋設(shè)有蒸發(fā)孔；所述阻擋裝置設(shè)于所述蒸發(fā)孔的下方位置，且所述阻擋裝置的中心穿過有軸，所述軸安裝于所述容置裝置的內(nèi)壁且與所述坩堝蓋所處平面平行。
[0007]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置在所述坩堝蓋上的投影區(qū)域覆蓋所述蒸發(fā)孔的面積區(qū)域。
[0008]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為實心金屬材料的阻擋裝置。
[0009]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為表面光滑的阻擋裝置。
[0010]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為球形，所述軸穿過所述阻擋裝置的球心。
[0011]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為橢球形，所述橢球形的阻擋裝置的赤道半徑相等，所述軸與所述阻擋裝置的赤道半徑重合或者所述軸與所述阻擋裝置的極半徑重合。
[0012]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為圓柱形，所述軸與所述阻擋裝置的軸心線重合。
[0013]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為錐形，所述軸與所述阻擋裝置的軸心線重合。
[0014]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述容置裝置頂部的橫截面在所述容置裝置底面的投影區(qū)域小于所述容置裝置底面的面積區(qū)域。
[0015]進一步，本實用新型所述的蒸鍍坩堝，所述容置裝置為鈦合金圓桶。
[0016]本實用新型提供的一種蒸鍍坩堝，通過阻擋裝置阻擋蒸鍍材料從容置裝置中劇烈噴發(fā)及濺射，而且阻擋裝置的表面可以粘附氣態(tài)的蒸鍍材料，避免了氣態(tài)蒸鍍材料由于冷卻，在坩堝蓋上的堆積現(xiàn)象，為一進步使蒸鍍材料的蒸發(fā)速度均勻可控提供了可行的技術(shù)方案。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)圖；
[0018]圖2為本實用新型所述的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)圖；
[0019]圖3為本實用新型所述球形的阻擋裝置；
[0020]圖4為本實用新型所述橢球形的阻擋裝置；
[0021]圖5為本實用新型所述圓柱形的阻擋裝置；
[0022]圖6為本實用新型所述錐形的阻擋裝置；
[0023]圖7為本實用新型實施例的容置裝置頂部面積小于底部面積的側(cè)面剖視示意圖；
[0024]圖8為本實用新型實施例的容置裝置頂部面積小于底部面積的俯視示意圖。
【具體實施方式】
[0025]為了更好地理解本實用新型，下面結(jié)合附圖與【具體實施方式】對本實用新型作進一步描述。
[0026]本實用新型實施例提供的一種蒸鍍坩堝，圖2為本實用新型所述的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)圖，如圖2所示，所述蒸鍍坩堝包括:容置裝置1、坩堝蓋2、阻擋裝置3 ；
[0027]其中，所述坩堝蓋2安裝于所述容置裝置I的開口處101且所述坩堝蓋2設(shè)有蒸發(fā)孔201 ;所述阻擋裝置3設(shè)于所述蒸發(fā)孔201的下方位置，且所述阻擋裝置3的中心穿過有軸301，所述軸301安裝于所述容置裝置的內(nèi)壁102且與所述坩堝蓋2所處平面平行。
[0028]坩堝蓋位于最頂部，通過絲扣可以固定在容置裝置上，主要是用來阻擋其他物體進入坩堝，造成污染；坩堝蓋的中心位置設(shè)有蒸發(fā)孔，氣態(tài)蒸鍍材料從蒸發(fā)孔向上蒸發(fā)。
[0029]阻擋裝置位于蒸鍍坩堝內(nèi)，其位置位于蒸發(fā)孔下方，阻擋裝置的位置對應于所述蒸發(fā)孔的位置，阻擋裝置的位置以不阻擋蒸鍍材料的蒸汽流動為佳；阻擋裝置通過軸置放于蒸鍍坩堝內(nèi)部，位于蒸鍍材料的上方；阻擋裝置在軸上的位置固定，即無法沿所述軸的方向運動，但是阻擋裝置可以沿所述軸的軸向自由旋轉(zhuǎn)。
[0030]當使用所述蒸鍍坩堝進行蒸鍍時，要使所述蒸鍍坩堝的頂部、即開口位置處的溫度高于所述蒸鍍坩堝的底部溫度、即容置裝置底部的溫度，這樣才能使蒸鍍坩堝的頂部的氣態(tài)蒸鍍材料達到均勻穩(wěn)定的蒸發(fā)速度。如果沒有采用所述阻擋裝置，在蒸發(fā)孔的周圍容易出現(xiàn)蒸鍍材料的堆積現(xiàn)象。一般蒸鍍坩堝的加熱控制是在底部，對于頂部的溫度一般不進行加熱控制，因此，堆積的蒸鍍材料有可能會因為高溫而再次蒸發(fā)，從所述蒸發(fā)孔噴濺出而損壞上方的傳感器，或者會增加氣態(tài)蒸鍍材料的蒸發(fā)量，而使蒸鍍材料的蒸發(fā)速率不穩(wěn)定、不均勻。
[0031]阻擋裝置可以阻擋蒸鍍材料直接從所述蒸發(fā)孔中噴濺，損壞蒸發(fā)孔上方的傳感器。而且當蒸鍍材料的蒸汽在阻擋裝置上冷卻、凝結(jié)從而造成堆積時，阻擋裝置會因為堆積的蒸鍍材料的重力作用而翻轉(zhuǎn)，翻轉(zhuǎn)后阻擋裝置上帶有堆積的蒸鍍材料的一面會朝向地面，由于蒸鍍坩堝自下而上的溫度是升高的，因此下方的堆積的蒸鍍材料不容易再次蒸發(fā)，保持蒸鍍材料的蒸發(fā)速度均勻。
[0032]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置在所述坩堝蓋上的投影區(qū)域覆蓋所述蒸發(fā)孔的面積區(qū)域。
[0033]阻擋裝置在所述坩堝蓋上的投影區(qū)域覆蓋所述蒸發(fā)孔的面積區(qū)域是指阻擋裝置的橫截面面積大于蒸發(fā)孔面積，可以提高阻擋蒸鍍材料噴濺的效果和保持蒸鍍材料蒸發(fā)速度穩(wěn)定的效果。
[0034]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為實心金屬材料的阻擋裝置。
[0035]由于所述阻擋裝置為實心金屬材料，使所述阻擋裝置的溫度受周邊溫度影響變化小，因此所述阻擋裝置對蒸鍍材料的蒸發(fā)速率影響有限，即使有少量的蒸鍍材料凝結(jié)在阻擋裝置的表面，也不會很快揮發(fā)。
[0036]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，所述阻擋裝置為表面光滑的阻擋裝置。
[0037]由于阻擋裝置的表面光滑，因此不容易造成蒸鍍材料堆積于所述阻擋裝置上。
[0038]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，圖3為本實用新型所述球形的阻擋裝置，如圖3所示，所述阻擋裝置3為球形，所述軸301穿過所述阻擋裝置3的球心。
[0039]球形對稱均勻，如果表面光滑，更不易使蒸鍍材料堆積，而且更容易旋轉(zhuǎn)，采用球形阻擋裝置可以達到最優(yōu)的技術(shù)效果。
[0040]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，圖4為本實用新型所述橢球形的阻擋裝置，如圖4所示，所述阻擋裝置3為橢球形，所述橢球形的阻擋裝置的赤道半徑(可以是長軸半徑)相等，所述軸301與所述阻擋裝置3的赤道半徑重合或者所述軸301與所述阻擋裝置3的極半徑(可以是短軸半徑)重合。
[0041]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，圖5為本實用新型所述圓柱形的阻擋裝置，如圖5所示，所述阻擋裝置3為圓柱形，所述軸301與所述阻擋裝置3的軸心線重
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[0042]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，圖6為本實用新型所述錐形的阻擋裝置，如圖6所示，所述阻擋裝置3為兩端細中間粗的錐形，所述軸301與所述阻擋裝置3的軸心線重合。
[0043]所述錐形的阻擋裝置的橫截面為圓形，所述錐形的阻擋裝置的橫截面為垂直于所述軸的面。
[0044]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，所述容置裝置頂部103的橫截面在所述容置裝置底面104的投影區(qū)域小于所述容置裝置底面104的面積區(qū)域。
[0045]圖7為本實用新型實施例的容置裝置頂部面積小于底部面積的側(cè)面剖視示意圖，圖8為本實用新型實施例的容置裝置頂部面積小于底部面積的俯視示意圖。如圖7和圖8所示，所述容置裝置I的容置裝置頂部103的橫截面的面積小于所述容置裝置底面104的橫截面的面積，可以防止材料堆積在蒸鍍坩堝的頂部，導致坩堝蓋無法打開。
[0046]進一步，本實用新型實施例所述的蒸鍍坩堝，所述容置裝置為鈦合金圓桶。
[0047]所述容置裝置為圓柱形可以使其受熱面積更加均勻，有利于精確控制蒸鍍材料的蒸發(fā)速度，而鈦合金材料為耐高溫材料，不容易在高溫下?lián)p壞。
[0048]以上僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，當然，本實用新型還可以有其他多種實施例，在不背離本實用新型精神及其實質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當可根據(jù)本實用新型做出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本實用新型所附的權(quán)利要求的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括:容置裝置、坩堝蓋、阻擋裝置； 其中，所述坩堝蓋安裝于所述容置裝置的開口處且所述坩堝蓋設(shè)有蒸發(fā)孔；所述阻擋裝置設(shè)于所述蒸發(fā)孔的下方位置，且所述阻擋裝置的中心穿過有軸，所述軸安裝于所述容置裝置的內(nèi)壁且與所述坩堝蓋所處平面平行。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置在所述坩堝蓋上的投影區(qū)域覆蓋所述蒸發(fā)孔的面積區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為實心金屬材料的阻擋裝置。
4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為表面光滑的阻擋裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為球形，所述軸穿過所述阻擋裝置的球心。
6.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為橢球形，所述橢球形的阻擋裝置的赤道半徑相等，所述軸與所述阻擋裝置的赤道半徑重合或者所述軸與所述阻擋裝置的極半徑重合。
7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為圓柱形，所述軸與所述阻擋裝置的軸心線重合。
8.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋裝置為錐形，所述軸與所述阻擋裝置的軸心線重合。
9.如權(quán)利要求1~8任一項所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述容置裝置頂部的橫截面在所述容置裝置底面的投影區(qū)域小于所述容置裝置底面的面積區(qū)域。
10.如權(quán)利要求1~8任一項所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述容置裝置為鈦合金圓桶。
【文檔編號】C23C14/24GK203451609SQ201320599658
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】趙德江, 張家奇 申請人:京東方科技集團股份有限公司