一種助鍍池及循環(huán)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種助鍍池及循環(huán)系統(tǒng)，包括不銹鋼助鍍池主體；所述不銹鋼助鍍池主體的外圍設(shè)置有電加熱板；溫度控制裝置，與所述電加熱板相連接，用于控制所述電加熱板的溫度；循環(huán)系統(tǒng)包括助鍍池，所述助鍍池內(nèi)設(shè)置有有害物質(zhì)檢測儀；還設(shè)置有化學(xué)反應(yīng)池，與所述助鍍池之間連接有循環(huán)泵；溶劑儲備池，分別與所述助鍍池和化學(xué)反應(yīng)池相連通。使用本實(shí)用新型中的助鍍池及循環(huán)系統(tǒng)能夠確保助鍍池內(nèi)的溶液溫度始終維持高溫穩(wěn)定狀態(tài)，并且能夠使助鍍液長期循環(huán)利用，徹底清除助鍍液的雜質(zhì)使工件助鍍后鍍鋅質(zhì)量得到保障。
【專利說明】一種助鍍池及循環(huán)系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及工業(yè)鍍鋅【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體的涉及一種助鍍池及循環(huán)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)熱鍍鋅在工件熱浸鋅之前，因助鍍池中的助鍍?nèi)芤簻囟认鄬^低，均設(shè)有專門的烘干設(shè)備，比如:燃燒尾氣烘干、熱吹風(fēng)烘干、烘干爐等。
[0003]如果助鍍?nèi)芤簻囟鹊?水的溶解度就低，導(dǎo)致助鍍?nèi)芤褐杏行С煞趾枯^低則助鍍?nèi)芤簩ぜ那鍧嵶饔镁筒荒苓_(dá)到最佳，工件助鍍后其藥膜覆蓋量就會不足，最終使工件出現(xiàn)漏鍍。加之傳統(tǒng)助鍍?nèi)芤簩囟纫蟛⒉粐?yán)格，更是造成溶液中有效成分含量偏差過大而影響助鍍質(zhì)量。
[0004]工件助鍍后進(jìn)行烘干，在很大程度上滿足了熱浸鍍鋅要求，也是對助鍍效果進(jìn)行彌補(bǔ)，但烘干不徹底往往對工件熱鍍鋅又產(chǎn)生負(fù)面影響，烘干設(shè)備永遠(yuǎn)都只能局限于從外部向工件加熱，工件結(jié)構(gòu)又多種多樣，烘干時要么出現(xiàn)溫度覆蓋不到的現(xiàn)象，要么出現(xiàn)部分工件烘干溫度過高造成藥膜燒焦現(xiàn)象，工件浸鋅時就會出現(xiàn)爆鋅嚴(yán)重、漏鍍情況，而且外部供熱其熱量消耗較大、浪費(fèi)更大。
[0005]助鍍池中的助鍍?nèi)芤旱暮脡闹苯記Q定鍍鋅產(chǎn)品質(zhì)量好壞和鋅的消耗，其本身消耗同樣影響生產(chǎn)成本，所以熱鍍鋅行業(yè)對助鍍?nèi)芤貉h(huán)凈化再利用都比較重視。
[0006]倒槽法是熱鍍鋅行業(yè)中比較常見的處理助鍍?nèi)芤汉蛯⒅內(nèi)芤貉h(huán)利用的方法，其操作僅限于將再用助鍍?nèi)芤旱共酆蠛唵纬恋?，通過物理手段清理池內(nèi)雜物，此法對助鍍?nèi)芤簝艋驮倮媚芷鸬揭欢ㄗ饔茫_(dá)不到最佳效果。溶解于助鍍?nèi)芤褐械挠泻ξ镔|(zhì)不能很好的去除，將始終影響助鍍效果和鍍鋅產(chǎn)品質(zhì)量，過多的雜質(zhì)與鋅反應(yīng)后將產(chǎn)生更多的鋅渣，直接造成鋅耗增高，助鍍?nèi)芤罕旧硪矔蚶匣鴪髲U，造成本身材料消耗，處理報廢后的助鍍?nèi)芤河謱a(chǎn)生費(fèi)用；而且倒槽法需要的時間相對較長，影響生產(chǎn)。
[0007]如何能提供一種確保助鍍?nèi)芤耗芫S持高溫穩(wěn)定狀態(tài)的助鍍池，并能夠使助鍍?nèi)芤洪L期循環(huán)利用，徹底清除助鍍?nèi)芤褐械碾s質(zhì)使工件助鍍后鍍鋅質(zhì)量得到保障，是一個亟待解決的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0008]本實(shí)用新型的目的在于，提出一種能夠確保助鍍?nèi)芤簻囟仁冀K維持高溫穩(wěn)定狀態(tài)的助鍍池。
[0009]本實(shí)用新型的另一個目的在于，提出一種鍍液池循環(huán)系統(tǒng)，能夠使助鍍?nèi)芤洪L期循環(huán)利用，徹底清除助鍍?nèi)芤旱碾s質(zhì)使工件助鍍后鍍鋅質(zhì)量得到保障。
[0010]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0011]一種用于鍍鋅的助鍍池，包括:不銹鋼助鍍池主體；所述不銹鋼助鍍池主體的外圍設(shè)置有電加熱板；溫度控制裝置，與所述電加熱板相連接，用于控制所述電加熱板的溫度。[0012]進(jìn)一步的，所述不銹鋼助鍍池底部及側(cè)面設(shè)置有硅酸鋁板保溫層。
[0013]進(jìn)一步的，所述不銹鋼助鍍池外部安裝的電加熱板為一組60kV電加熱板。
[0014]進(jìn)一步的，所述硅酸鋁板保溫層的厚度為40cm。
[0015]進(jìn)一步的，所述電加熱板的運(yùn)行采用智能調(diào)節(jié)器控制。
[0016]一種助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，包括:助鍍池，所述助鍍池內(nèi)設(shè)置有有害物質(zhì)檢測儀；還設(shè)置有化學(xué)反應(yīng)池，與所述助鍍池之間連接有循環(huán)泵；溶劑儲備池，分別與所述助鍍池和化學(xué)反應(yīng)池相連通。
[0017]進(jìn)一步的，還包括與所述溶劑儲備池相連通的泥漿池。
[0018]進(jìn)一步的，所述化學(xué)反應(yīng)池底部連接有空氣反應(yīng)設(shè)備。
[0019]進(jìn)一步的，所述化學(xué)反應(yīng)池和溶劑儲備池底部高于所述助鍍池的上部。
[0020]進(jìn)一步的，所述化學(xué)反應(yīng)池和溶劑儲備池的底部和底部向上處留有出水閥門和排
污閥門。
[0021]本實(shí)用新型的有益效果為:使用本實(shí)用新型中的助鍍池確保溶液溫度能達(dá)到80°C以上，且在溶液溫度降低時能夠做到及時補(bǔ)充；并保證溶液溫度損耗盡量??；穩(wěn)定較高的溶液溫度增加了水的溶解度，使助鍍?nèi)芤褐懈饔行С煞趾渴冀K保持穩(wěn)定狀態(tài)，對工件的清潔和助鍍質(zhì)量有效果。本實(shí)用新型中的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)能將溶液中雜質(zhì)徹底清除，潔凈的助鍍?nèi)芤菏构ぜ兒箦冧\質(zhì)量得到保障，被帶入鋅液的雜質(zhì)減少，鋅渣產(chǎn)生少，鋅耗降低；助鍍?nèi)芤耗軌蜷L期循環(huán)利用，減少了因報廢造成的材料消耗和處理費(fèi)用，提高生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為本實(shí)用新型提出供的助鍍池的正視圖；
[0023]圖2為本實(shí)用新型提出的助鍍池的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖3為本實(shí)用新型提出的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]附圖標(biāo)記:
[0026]1、助鍍池；11、不銹鋼助鍍池主體；12、電加熱板；13、硅酸鋁板保溫層；14、測溫儀；2、化學(xué)反應(yīng)池；3、溶劑儲備池；4、泥漿池；5、出水閥門；6、排污閥門。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖并通過【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0028]如圖1和圖2所示，為本實(shí)用新型提供的一種助鍍池，包括:不銹鋼助鍍池主體I ;所述不銹鋼助鍍池主體11外圍設(shè)置有電加熱板12 ;溫度控制裝置(未示出)，溫度控制裝置分別與測溫儀14和電加熱板12相連接，測溫儀14設(shè)置在助鍍?nèi)芤褐?，用于檢測助鍍?nèi)芤旱臏囟?，溫度控制裝置根據(jù)測溫儀14所檢測的助鍍?nèi)芤旱臏囟龋刂扑鲭娂訜岚?2的啟動和停止。
[0029]電加熱板12為一套60kV的電加熱板，直接對不銹鋼助鍍池主體11進(jìn)行加熱，確保溶液溫度能達(dá)到80°C以上。
[0030]溫度控制裝置通過將溫度感應(yīng)裝置安裝于溶液中，與外部智能調(diào)節(jié)器連接，智能調(diào)節(jié)器直接控制電加熱板12電源的開關(guān)，溫度設(shè)定值不低于80°C完成后，當(dāng)溫度低于或高于設(shè)定值時，智能調(diào)節(jié)器將自動合閘或斷電，確保了溶液始終保持溫度80°C左右。由此穩(wěn)定較高的溶液溫度以增加助鍍?nèi)芤旱娜芙舛?，使助鍍?nèi)芤褐懈饔行С煞趾渴冀K保持穩(wěn)定狀態(tài)，對工件的清潔和助鍍質(zhì)量有極好效果。
[0031]不銹鋼助鍍池底部及側(cè)面填充40cm硅酸鋁板保溫層13，保證溶液溫度損耗盡量小，助鍍后的工件利用本身熱容量的釋放，將表面水分快速均勻蒸發(fā)，藥膜均勻覆蓋工件表面，既不會產(chǎn)生工件低溫區(qū)，也不會有高溫?zé)顾幠さ那闆r，最終達(dá)到舍棄鍍鋅前烘干的目的，而且工件鍍鋅后質(zhì)量能得到保障。
[0032]一種用于本實(shí)用新型中助鍍池的循環(huán)系統(tǒng)，包括:助鍍池1，助鍍池I內(nèi)設(shè)置有害物質(zhì)檢測儀和化學(xué)反應(yīng)池2，與助鍍池I之間連接有循環(huán)泵；溶劑儲備池3，分別與助鍍池I和化學(xué)反應(yīng)池2相連通。還包括與溶劑儲備池3相連通的泥漿池4 ;化學(xué)反應(yīng)池2底部連接有空氣反應(yīng)設(shè)備(圖中未標(biāo)示)?；瘜W(xué)反應(yīng)池2和溶劑儲備池3底部高于助鍍池I的上部?；瘜W(xué)反應(yīng)池2和溶劑儲備池3的底部和底部向上處留有出水閥門5和排污閥門6。助鍍池
1、化學(xué)反應(yīng)池2以及溶劑儲備池3的池體容積相同。助鍍池I中的有害物質(zhì)檢測儀，當(dāng)檢測到助鍍?nèi)芤褐杏泻ξ镔|(zhì)超過使用標(biāo)準(zhǔn)時就進(jìn)行化學(xué)處理，即通過循環(huán)泵將助鍍?nèi)芤撼槿牖瘜W(xué)反應(yīng)池2中進(jìn)行處理。此時，可將溶劑儲備池3中預(yù)先配置好的助鍍?nèi)芤悍湃胫兂豂中。
[0033]化學(xué)反應(yīng)池2中的助鍍?nèi)芤阂勒障旅娌襟E進(jìn)行處理:加入氨水調(diào)節(jié)溶劑，使助鍍?nèi)芤旱腜H值為4.5 — 5.0之間；加入計算好的適量雙氧水，使溶液中二價鐵氧化成三價鐵，以形成氫氧化鐵沉淀。
[0034]將接入化學(xué)反應(yīng)池2底部的空氣反應(yīng)設(shè)備打開，使溶液充分?jǐn)嚢?，空氣本身也能起到氧化二價鐵的作用；反應(yīng)沉淀好的澄清溶液就能夠抽入溶劑儲備池3中等待下次循環(huán)使用；沉淀后的泥漿通過板框壓濾機(jī)進(jìn)行脫水，也能夠直接放入泥漿池4中等待集中處理。
[0035]本實(shí)用新型中的化學(xué)反應(yīng)池2和溶劑儲備池3底部高于助鍍池I上部，溶液能夠通過自流方式排入助鍍池1，減少水泵抽取做功。另外，化學(xué)反應(yīng)池2和溶劑儲備池3均在底部和底部向上0.4m處留有出水閥門5和排污閥門6，其目的在于一方面可將化學(xué)反應(yīng)池2和溶劑儲備池3互換使用；另一方面可避免澄清溶液再次倒槽，更換溶液時只需打開底部向上0.4m處的出水閥門5就能獲得澄清溶液，而泥漿處在池底部不會被帶入助鍍池I中。
[0036]使用本實(shí)用新型中的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)能將溶液中雜質(zhì)徹底清除，潔凈的助鍍?nèi)芤菏构ぜ兒箦冧\質(zhì)量得到保障，被帶入鋅液的雜質(zhì)減少，鋅渣產(chǎn)生少，鋅耗降低；助鍍?nèi)芤耗軌蜷L期循環(huán)利用，減少了因報廢造成的材料消耗和處理費(fèi)用，提高生產(chǎn)效率。
[0037]最后應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制。盡管參照實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【權(quán)利要求】
1.一種助鍍池，其特征在于，包括: 不銹鋼助鍍池主體(11); 所述不銹鋼助鍍池主體(11)的外圍設(shè)置有電加熱板(12)； 溫度控制裝置，與所述電加熱板(5 )相連接，用于控制所述電加熱板(12)的溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種助鍍池，其特征在于，所述不銹鋼助鍍池(11)底部及側(cè)面設(shè)置有硅酸鋁板保溫層(13)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種助鍍池，其特征在于，所述不銹鋼助鍍池(11)外部安裝的電加熱板(12)為一組60kV電加熱板。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種助鍍池，其特征在于，所述硅酸鋁板保溫層(13)的厚度為 40cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種助鍍池，其特征在于，所述電加熱板(12)的運(yùn)行采用智能調(diào)節(jié)器控制。
6.一種應(yīng)用于如權(quán)利要求1所述的助鍍池的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于，包括: 助鍍池(1)，所述助鍍池(I)內(nèi)設(shè)置有有害物質(zhì)檢測儀； 還設(shè)置有化學(xué)反應(yīng)池(2)，與所述助鍍池(I)之間連接有循環(huán)泵； 溶劑儲備池(3)，分別與所述助鍍池(I)和化學(xué)反應(yīng)池(2)相連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于，還包括與所述溶劑儲備池(3)相連通的泥漿池(4)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于，所述化學(xué)反應(yīng)池(2)底部連接有空氣反應(yīng)設(shè)備。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于，所述化學(xué)反應(yīng)池(2)和溶劑儲備池(3)底部高于所述助鍍池(I)的上部。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的助鍍池循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于，所述化學(xué)反應(yīng)池(2)和溶劑儲備池(3)的底部和底部向上處留有出水閥門(5)和排污閥門(6)。
【文檔編號】C23C2/02GK203451600SQ201320612846
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月25日
【發(fā)明者】謝鴻云, 劉桂林 申請人:云南東電線路器材有限公司