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一種真空鍍膜加熱裝置制造方法

文檔序號(hào):3307503閱讀:189來(lái)源:國(guó)知局
一種真空鍍膜加熱裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種真空鍍膜加熱裝置,包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊,其特征在于,所述上層加熱模塊包括第一加熱絲,所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲,所述下層加熱模塊包括第五加熱絲,所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。本實(shí)用新型的真空鍍膜加熱裝置,通過(guò)提高加熱絲的加熱效率,從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率,降低了加熱絲異常帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)問(wèn)題,從而提高產(chǎn)品良率;此外,可以使加熱的溫度保持得非常均勻,使得工藝更穩(wěn)定。
【專利說(shuō)明】一種真空鍍膜加熱裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及真空鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】,特別涉及一種真空鍍膜加熱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜加熱模塊是在真空箱體的門板內(nèi)或箱體邊沿內(nèi)安裝加熱模塊,溫度通過(guò)熱輻射的方式到基板上,使之達(dá)到相應(yīng)溫度從而滿足產(chǎn)品的性能要求?,F(xiàn)有真空鍍膜裝置采用上中下三層加熱絲的設(shè)計(jì),每層加熱絲有單獨(dú)熱電偶測(cè)溫,這樣可以調(diào)節(jié)上中下層的溫度來(lái)滿足不同工藝的需要,雖然此技術(shù)能夠達(dá)到產(chǎn)品質(zhì)量的保證,但是無(wú)法避免在生產(chǎn)過(guò)程中加熱絲出現(xiàn)異常的情況所造成的損失。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型提出一種真空鍍膜加熱裝置,通過(guò)提高加熱絲的加熱效率,從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率,降低了加熱絲異常帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)問(wèn)題,從而提高產(chǎn)品良率。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案具體是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0004]本實(shí)用新型提供了一種真空鍍膜加熱裝置,包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊,所述上層加熱模塊包括第一加熱絲,所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲,所述下層加熱模塊包括第五加熱絲,所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。
[0005]優(yōu)選地,所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲縱向排列。
[0006]優(yōu)選地,所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲橫向排列。
[0007]本實(shí)用新型的真空鍍膜加熱裝置,通過(guò)提高加熱絲的加熱效率,從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率,降低了加熱絲異常帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)問(wèn)題,從而提高產(chǎn)品良率;此外,可以使加熱的溫度保持得非常均勻,使得工藝更穩(wěn)定;便于維護(hù)與保養(yǎng),從而縮短維護(hù)時(shí)間,提高了產(chǎn)量;加熱絲的壽命大大提高,從而節(jié)約成本。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1是本實(shí)用新型具體實(shí)施例的真空鍍膜加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說(shuō)明,使本實(shí)用新型的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢(shì)將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖,重點(diǎn)在于示出本實(shí)用新型的主旨。
[0010]圖1是本實(shí)用新型具體實(shí)施例的真空鍍膜加熱裝置的結(jié)構(gòu)圖,如圖1所示,本實(shí)用新型具體實(shí)施例的真空鍍膜加熱裝置其包括:上層加熱模塊10、中層加熱模塊20和下層加熱模塊30,上層加熱模塊10包括第一加熱絲1,中層加熱模塊20包括第二加熱絲2、第三加熱絲3和第四加熱絲4,下層加熱模塊30包括第五加熱絲5,第一加熱絲1、第二加熱絲2、第三加熱絲3、第四加熱絲4和第五加熱絲5上均設(shè)置有熱電偶40。
[0011]本實(shí)用新型中,第二加熱絲2、第三加熱絲3和第四加熱絲4縱向排列或橫向排列。
[0012]本實(shí)用新型的真空鍍膜加熱裝置,通過(guò)提高加熱絲的加熱效率,從而提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率,降低了加熱絲異常帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)問(wèn)題,從而提高產(chǎn)品良率;此外,可以使加熱的溫度保持得非常均勻,使得工藝更穩(wěn)定;便于維護(hù)與保養(yǎng),從而縮短維護(hù)時(shí)間,提高了產(chǎn)量;加熱絲的壽命大大提高,從而節(jié)約成本。
[0013]在以上的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型。但是以上描述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,本實(shí)用新型能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施,因此本實(shí)用新型不受上面公開(kāi)的具體實(shí)施的限制。同時(shí)任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空鍍膜加熱裝置,包括上層加熱模塊、中層加熱模塊和下層加熱模塊,其特征在于,所述上層加熱模塊包括第一加熱絲,所述中層加熱模塊包括第二加熱絲、第三加熱絲和第四加熱絲,所述下層加熱模塊包括第五加熱絲,所述第一加熱絲、所述第二加熱絲、所述第三加熱絲、所述第四加熱絲和所述第五加熱絲上均設(shè)置有熱電偶。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜加熱裝置,其特征在于,所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲縱向排列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜加熱裝置,其特征在于,所述第二加熱絲、所述第三加熱絲和所述第四加熱絲橫向排列。
【文檔編號(hào)】C23C14/00GK203700483SQ201320871320
【公開(kāi)日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】王進(jìn)東 申請(qǐng)人:江蘇宇天港玻新材料有限公司
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