曲面拋光機(jī)的拋光裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種由拋光盤對移動的工作平臺上的工件施加設(shè)定壓強(qiáng)的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，它包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)有可旋轉(zhuǎn)的拋光盤，其特征是機(jī)架上設(shè)有實(shí)現(xiàn)拋光盤對移動的工作平臺上的工件施加設(shè)定壓強(qiáng)的動態(tài)加壓裝置，所述動態(tài)加壓裝置通過安裝在升降機(jī)架上的拋光盤對工件保持施加設(shè)定的壓強(qiáng)，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，通過PLC可實(shí)現(xiàn)拋光盤對工件施加設(shè)定的壓強(qiáng)進(jìn)行拋光，克服了現(xiàn)有拋光存在的缺陷，同時(shí)，工作平臺的移動，大大提高了生產(chǎn)效率并為實(shí)現(xiàn)流水線生產(chǎn)打下了基礎(chǔ)。
【專利說明】曲面拋光機(jī)的拋光裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種曲面拋光機(jī)，具體地說是一種超薄、易脆性工件用曲面拋光機(jī)的拋光裝置，特別是涉及一種如玻璃、藍(lán)寶石、壓電水晶、單晶硅片等工件用曲面拋光機(jī)的拋光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]為了使超薄、易脆性工件如玻璃、藍(lán)寶石、壓電水晶、單晶硅片等工件的表面變得光滑、透明，并具有光澤，通常對其表面需進(jìn)行拋光。目前，現(xiàn)所使用曲面拋光機(jī)的基本結(jié)構(gòu)為上盤(拋光盤)、下盤結(jié)構(gòu)，拋光盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，放置有工件的工作平臺即下盤可以相對拋光盤反向旋轉(zhuǎn)，一是增大磨削速度，二是使工件拋光均勻。同時(shí)，在整個(gè)運(yùn)動過程中，因拋光盤與工作平臺的接觸面積保持不變，所以在加壓拋光工作時(shí)，氣缸可以通過拋光盤給工作平臺上的工件施加恒定的壓力，以保證拋光盤與工件之間保持恒定的壓強(qiáng)。但是，因拋光盤、工作平臺均進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，拋光盤、工作平臺的外圈與內(nèi)圈在線速度上存在差異，這樣導(dǎo)致工作平臺上工件的拋光均勻度差，在工件上留下暇疵，如拋光紋等，影響拋光效果與效率。為此，可以采用在拋光盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動的同時(shí)，放置有工件的工作平臺進(jìn)行水平移動。但是，工作平臺進(jìn)行水平移動時(shí)，拋光盤與工件的接觸面積在不斷變化，從而拋光盤與工件之間不能保持恒定的壓強(qiáng)，嚴(yán)重地影響拋光效果，甚至損壞工件。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種由拋光盤對移動的工作平臺上的工件施加設(shè)定壓強(qiáng)的曲面拋光機(jī)的拋光裝置。
[0004]本實(shí)用新型是采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)其發(fā)明目的的，一種曲面拋光機(jī)的拋光裝置，它包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)有可旋轉(zhuǎn)的拋光盤，機(jī)架上設(shè)有實(shí)現(xiàn)拋光盤對移動的工作平臺上的工件施加設(shè)定壓強(qiáng)的動態(tài)加壓裝置，所述動態(tài)加壓裝置通過安裝在升降機(jī)架上的拋光盤對工件保持施加設(shè)定的壓強(qiáng)。
[0005]本實(shí)用新型所述的工作平臺為方形。
[0006]本實(shí)用新型所述的動態(tài)加壓裝置包括安裝在機(jī)架上由PLC控制的升降氣缸、檢測工作平臺位移的位移傳感器，升降氣缸的氣缸座安裝在機(jī)架上，升降氣缸的活塞桿與升降機(jī)架連接；PLC根據(jù)工作平臺的位移量計(jì)算拋光盤與工件的接觸面積，通過比例換向閥確定對升降氣缸的升、降控制，實(shí)現(xiàn)拋光盤對工件施加設(shè)定的壓強(qiáng)。
[0007]為計(jì)算簡單，本實(shí)用新型所述所述拋光盤對工件施加設(shè)定的壓強(qiáng)為P = (F — G)/S，F(xiàn)為拋光盤施加給工件的壓力，G為升降機(jī)架的重量，S為拋光盤的工作面與工件的接觸面積；所述拋光盤的工作面與工件的接觸面積近似計(jì)算為:
[0008]
【權(quán)利要求】
1.一種曲面拋光機(jī)的拋光裝置，它包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)有可旋轉(zhuǎn)的拋光盤，其特征是機(jī)架上設(shè)有實(shí)現(xiàn)拋光盤對移動的工作平臺上的工件施加設(shè)定壓強(qiáng)的動態(tài)加壓裝置，所述動態(tài)加壓裝置通過安裝在升降機(jī)架上的拋光盤對工件保持施加設(shè)定的壓強(qiáng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，其特征是所述的工作平臺為方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，其特征是所述的動態(tài)加壓裝置包括安裝在機(jī)架上由PLC控制的升降氣缸、檢測工作平臺位移的位移傳感器，升降氣缸的氣缸座安裝在機(jī)架上，升降氣缸的活塞桿與升降機(jī)架連接；PLC根據(jù)工作平臺的位移量計(jì)算拋光盤與工件的接觸面積，通過比例換向閥確定對升降氣缸的升、降控制，實(shí)現(xiàn)拋光盤對工件施加設(shè)定的壓強(qiáng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，其特征是所述所述拋光盤對工件施加設(shè)定的壓強(qiáng)為P = (F — G)/ S，F(xiàn)為拋光盤施加給工件的壓力，G為升降機(jī)架的重量，S為拋光盤的工作面與工件的接觸面積；所述拋光盤的工作面與工件的接觸面積近似計(jì)算為:
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，其特征是所述的拋光盤安裝在安裝盤上，拋光盤由安裝在升降機(jī)架上的拋光電機(jī)驅(qū)動，所述安裝盤由安裝在升降機(jī)架上的公轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曲面拋光機(jī)的拋光裝置，其特征是所述拋光盤為2~8個(gè)，拋光盤的驅(qū)動軸通過齒輪組與拋光電機(jī)的主軸聯(lián)接。
【文檔編號】B24B29/02GK203680003SQ201320871592
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】楊佳葳, 劉先交, 周斌, 徐翊華 申請人:湖南宇晶機(jī)器股份有限公司